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一种含底涂消光膜及其制备方法公开 发明

技术总结

本发明涉及薄膜领域,特别是涉及一种含底涂消光膜及其制备方法,含底涂消光膜包括依次设置的底涂层、芯层和消光层;底涂层包括80‑89.9wt%乙烯‑辛烯共聚物和10‑20wt%的丙烯‑丁烯共聚物,乙烯‑辛烯共聚物的熔点为75‑95℃,丙烯‑丁烯共聚物的熔点为80‑95℃;芯层包括均聚聚丙烯;消光层包括无规共聚聚丙烯、40‑50wt%的高密度聚乙烯和15‑35wt%的丙烯基共聚物,丙烯基共聚物的熔点为140‑160℃,丙烯基共聚物的结晶度为5‑10%。本发明的含底涂消光膜,通过对含底涂消光层配方组分的优化,不仅改善了消光膜在高温钢辊的烫伤及粘辊的质量问题,提高了底涂层和消光层的耐温性,而且也改善了消光膜的消光效果,具有较好的工业化应用前景。

技术研发人员:

雷炳荣; 赖仲平; 宋涛; 乔胜琦

受保护的技术研发主体:

广东德冠包装材料有限公司

技术申请主体:

广东德冠包装材料有限公司

技术研发申请日期:

2024-11-20

技术被公开/公告日期:

2024-12-20