具体技术细节
[0003] 鉴于上述问题，本发明提供了一种调制膜的设计方法，用于解决现有技术中拼接太阳能片影响整体太阳能板的转化率的技术问题。
[0004] 根据本发明实施例的一个方面，提供了一种调制膜，应用于太阳能组件，所述调制膜包括依次层叠设置的粘合剂、基材、第一结构以及第一涂层；入射光依次经过所述第一结构以及所述第一涂层后出射；
[0005] 所述太阳能组件包括至少两个间隔设置的太阳能电池片；所述调制膜设于与所述太阳能电池片的入射光面相背离的一侧或与所述太阳能电池片的入射光同侧设置；
[0006] 所述第一结构，用于将所述入射光反射至所述太阳能电池片或增加透射至每一所述太阳能电池片的辐射强度；
[0007] 所述第一涂层，用于以均匀厚度附着于所述第一结构，且所述第一涂层的折射率与所述第一结构的折射率不同。
[0008] 在一种可选的方式中，所述调制膜还包括设置于所述第一结构上的第二基材；
[0009] 所述第二基材，通过第一粘合层与所述第一结构贴合，并在所述第一粘合层和所述第一结构之间形成空气腔；
[0010] 所述空气腔，用于替代涂层构造的折射率差，增大所述调制膜的透射光/反射光的偏折角度，从而增加所述入射光在所述电池组件中的行进长度，以进一步增加所述入射光透射/反射至每一所述太阳能电池片的辐射强度。
[0011] 在一种可选的方式中，所述调制膜还包括依次设于所述第一涂层上的第二结构以及第二涂层；
[0012] 所述第二结构，用于进一步增大所述第一结构出射光的透射/反射光角度；
[0013] 所述第二涂层，用于以均匀厚度附着于所述第二结构，所述第二涂层的折射率与所述第二结构的折射率不同。
[0014] 在一种可选的方式中，所述第一结构以及所述第二结构均包括多种类型的微观结构，所述微观结构由矩形、三角形、半圆形、梯形、半椭圆形、圆锥、金字塔(四棱锥)、三棱锥、半椭球体中的一种或多种结构组成。
[0015] 在一种可选的方式中，当所述微观结构为矩形时，所述第一结构或所述第二结构的结构周期为5um‑80um，宽度d为3um‑80um，高度h为3um‑80um；
[0016] 当所述微观结构为三角形时，所述三角形可以为等腰三角形或不等腰三角形的任意一种，所述第一结构或所述第二结构的结构周期为5um‑100um，结构宽度d1为5um‑100um，高度h1为5um‑80um；
[0017] 当所述微观结构为半圆形时，所述第一结构或所述第二结构的结构周期为3um‑80um，半径R为3um‑80um；
[0018] 当所述微观结构为梯形时，所述第一结构或所述第二结构的结构周期为5um‑100um，结构顶宽a为1um‑40um，底宽b为5um‑80um，高度h2为3um‑80um；
[0019] 当所述微观结构为半椭圆形时，所述第一结构或所述第二结构的结构周期为5um‑80um，结构宽度d2为5um‑80um，高度h3为5um‑80um；
[0020] 当微观结构为圆锥时，结构周期为100nm‑2000nm，宽度d3为50‑2000nm，高度h4为100‑500nm。
[0021] 当微观结构为三棱锥时，结构周期200nm‑80um，第一结构30或第二结构50的结构宽度d4为100nm‑80um，高度h5为100nm‑70um；
[0022] 当微观结构为四棱锥时，第一结构30或第二结构50的结构周期为3nm‑80nm，结构宽度d5处于100‑6000nm，高度h6处于100‑500nm；
[0023] 当微观结构为半椭球形时，第一结构30或第二结构50的结构周期100nm‑2000um，结构宽度d6处于50nm‑2000nm，高度h7处于100nm‑500nm。
[0024] 在一种可选的方式中，所述第一涂层的厚度范围以及所述第二涂层的厚度范围均为50nm～200nm。
[0025] 根据本发明实施例的第二方面，还提供了一种调制膜的制作方法，包括：
[0026] 获取目标调制膜的使用环境；
[0027] 根据所述目标调制膜的使用环境从目标制作方案中匹配对应的制作方案；所述制作方案包括热压印、UV压印、双重固化压印，所述目标制作方案包括多种环境参数对应的制作方案；
[0028] 根据所述制作方案确定对应的生产机械以及生产步骤。
[0029] 在一种可选的方式中，所述根据所述目标调制膜的使用环境从目标制作方案中匹配对应的制作方案的步骤包括：
[0030] 当所述使用环境为太阳能组件表面玻璃的外表面时，制作方案为热压印或双重固化压印；
[0031] 当所述使用环境为太阳能组件表面玻璃的内表面时，制作方案为热压印、UV压印、双重固化压印中的任一种。
[0032] 在一种可选的方式中，所述获取目标调制膜的使用环境的步骤之后包括：
[0033] 当所述目标调制膜的使用环境为安装于所述太阳能组件的电池片的入光侧时，将第一结构设置为增加透射至每一所述太阳能电池片的辐射强度的结构；
[0034] 当所述目标调制膜的使用环境为安装于所述太阳能组件的电池片的背光侧/出光侧时，将第一结构设置为增加反射至每一所述太阳能电池片的辐射强度的结构。
[0035] 根据本发明实施例的第二方面，还提供了一种调制膜的设计方法，用于对上述的调制膜进行设计，所述调制膜的设计方法包括：
[0036] 获取调制膜的功能；
[0037] 根据所述调制膜功能确定对应的调制类型以及调制参数；
[0038] 根据确定的调制类型以及调制参数进行调制膜的制作以得到与所述调制膜的功能适配的定制调制膜。
[0039] 在一种可选的方式中，当调制膜的功能为增加光透过量时，调制膜整面覆盖于正面玻璃外表面；
[0040] 当调制膜功能为改变光线折射角度和改变光线反射角度时，调制膜只覆盖在电池缝隙处和边缘缝隙处，此时调制膜宽度d为：(1)串间距调制膜宽度dc：x≤dc≤x+4mm；(2)片间距调制膜宽度dp：y≤dp≤y+4mm，(3)边缘间距调制膜宽度dz：z≤dz≤z+4mm。
[0041] 本申请公开了一种调制膜以及太阳能电池板，调制膜通过设置第一结构以及第一涂层，并将调制膜与太阳能电池片的入射光同侧设置，通过调制膜的不同折射率分布改变入射光的行进路线，从而增加入射至太阳能电池片的入射光总量，以此增加太阳能电池片对入射光线的利用效率，从而提升光伏组件的光电转换效率，提高发电量。
[0042] 上述说明仅是本发明实施例技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明实施例的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明实施例的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举本发明的具体实施方式。
法律保护范围
涉及权利要求数量10：其中独权3项，从权-3项
1.一种调制膜，其特征在于，应用于太阳能组件，所述调制膜包括依次层叠设置的粘合剂、基材、第一结构以及第一涂层；入射光依次经过所述第一结构以及所述第一涂层后出射；
所述太阳能组件包括至少两个间隔设置的太阳能电池片；所述调制膜设于与所述太阳能电池片的入射光面相背离的一侧或与所述太阳能电池片的入射光同侧设置；
所述第一结构，用于将所述入射光反射至所述太阳能电池片或增加透射至每一所述太阳能电池片的辐射强度；
所述第一涂层，用于以均匀厚度附着于所述第一结构，且所述第一涂层的折射率与所述第一结构的折射率不同。
2.如权利要求1所述的调制膜，其特征在于，所述调制膜还包括设置于所述第一结构上的第二基材；
所述第二基材，通过第一粘合层与所述第一结构贴合，并在所述第一粘合层和所述第一结构之间形成空气腔；
所述空气腔，用于增大所述第一结构的透射光/反射光的偏折角度，从而增加所述入射光在所述电池组件中的行进长度，以进一步增加所述入射光透射/反射至每一所述太阳能电池片的辐射强度。
3.如权利要求1所述的调制膜，其特征在于，所述调制膜还包括依次设于所述第一涂层上的第二结构以及第二涂层；
所述第二结构，用于进一步增大所述第一结构出射光的透射/反射角度；
所述第二涂层，用于以均匀厚度附着于所述第二结构，所述第二涂层的折射率与所述第二结构的折射率不同。
4.如权利要求3所述的调制膜，其特征在于，所述第一结构以及所述第二结构均包括多种类型的微观结构，所述微观结构由矩形、三角形、半圆形、梯形、半椭圆形、圆锥、金字塔(四棱锥)、三棱锥、半椭圆体等结构中的一种或多种组成。
5.如权利要求4所述的调制膜，其特征在于，
当所述微观结构为矩形时，所述第一结构或所述第二结构的结构周期为5um‑80um，宽度d为3um‑80um，高度h为3um‑80um；
当所述微观结构为三角形时，所述三角形可以为等腰三角形或不等腰三角形的任意一种，所述第一结构或所述第二结构的结构周期为5um‑100um，结构宽度d1为5um‑100um，高度h1为5um‑80um；
当所述微观结构为半圆形时，所述第一结构或所述第二结构的结构周期为3um‑80um，半径R为3um‑80um；
当所述微观结构为梯形时，所述第一结构或所述第二结构的结构周期为5um‑100um，结构顶宽a为1um‑40um，底宽b为5um‑80um，高度h2为3um‑80um；
当所述微观结构为半椭圆形时，所述第一结构或所述第二结构的结构周期为5um‑
80um，结构宽度d2为5um‑80um，高度h3为5um‑80um；
当微观结构为圆锥时，结构周期为100nm‑2000nm，宽度d3为50‑2000nm，高度h4为100‑
500nm；
当微观结构为三棱锥时，结构周期200nm‑80um，第一结构30或第二结构50的结构宽度d4为100nm‑80um，高度h5为100nm‑70um；
当微观结构为四棱锥时，第一结构30或第二结构50的结构周期为3nm‑80nm，结构宽度d5处于100‑6000nm，高度h6处于100‑500nm；
当微观结构为半椭球形时，第一结构30或第二结构50的结构周期100nm‑2000um，结构宽度d6处于50nm‑2000nm，高度h7处于100nm‑500nm。
6.如权利要求3所述的调制膜，其特征在于，所述第一涂层的厚度范围以及所述第二涂层的厚度范围均为50nm～200nm。
7.一种调制膜的制作方法，其特征在于，包括：
获取目标调制膜的使用环境；
根据所述目标调制膜的使用环境从目标制作方案中匹配对应的制作方案；所述制作方案包括热压印、UV压印、双重固化压印，所述目标制作方案包括多种环境参数对应的制作方案；
根据所述制作方案确定对应的生产机械以及生产步骤。
8.如权利要求7所述的调制膜的制作方法，其特征在于，所述根据所述目标调制膜的使用环境从目标制作方案中匹配对应的制作方案的步骤包括：
当所述使用环境为太阳能组件表面玻璃的外表面时，制作方案为热压印或双重固化压印；
当所述使用环境为太阳能组件表面玻璃的内表面时，制作方案为热压印、UV压印、双重固化压印中的任一种；
当所述目标调制膜的使用环境为安装于所述太阳能组件的电池片的入光侧时，将对应第一结构设置为增加透射至每一所述太阳能电池片的辐射强度的结构；
当所述目标调制膜的使用环境为安装于所述电池片的背光侧/出光侧时，将第一结构设置为增加反射至每一所述太阳能电池片的辐射强度的结构。
9.一种调制膜的设计方法，其特征在于，用于对权利要求1‑6任一项所述的调制膜进行设计，所述调制膜的设计方法包括：
获取调制膜的功能；
根据所述调制膜功能确定对应的调制类型以及调制参数；
根据确定的调制类型以及调制参数进行调制膜的制作以得到与所述调制膜的功能适配的定制调制膜。
10.如权利要求9所述的调制膜的设计方法，其特征在于，搜索
当调制膜的功能为增加光透过量时，调制膜整面覆盖于正面玻璃外表面；
当调制膜功能为改变光线折射角度和改变光线反射角度时，调制膜只覆盖在电池缝隙处和边缘缝隙处，此时调制膜宽度的参数为：(1)串间距调制膜宽度dc：x≤dc≤x+4mm；(2)片间距调制膜宽度dp：y≤dp≤y+4mm，(3)边缘间距调制膜宽度dz：z≤dz≤z+4mm。
