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超长水平阵列碳纳米管及其制备方法实质审查 发明

技术总结

本发明公开了一种超长水平阵列碳纳米管及其制备方法,所述方法包括:将催化剂负载在碳纳米管薄膜上,然后将负载催化剂的碳纳米管薄膜包覆在生长基底一侧;将所述生长基底置于反应器中,通入保护气并升温至反应温度;向所述反应器中通入含有碳源的气体,以便在所述生长基底上制备得到所述超长水平阵列碳纳米管。由此,能够实现超长碳纳米管在大尺寸晶圆级硅片表面的高密度顺排生长。

技术研发人员:

朱振兴; 魏飞; 杜云龙; 陈思博; 竺俞康

受保护的技术研发主体:

清华大学

技术申请主体:

清华大学

技术研发申请日期:

2024-06-26

技术被公开/公告日期:

2024-09-24

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