具体技术细节
[0013] 如上所述，在以往技术中，若将抗静电层中含有导电性高分子的表面保护膜在大气环境中长期保存，则抗静电层的抗静电性能会经时变化而降低的问题已经明显，但目前也没有可以解决该问题的技术。
[0014] 此外，在近年来的表面保护膜中，在贴合于由各种材料形成的被粘物后，从各个被粘物进行剥离的工序中，要求在高速的剥离速度下的粘合力以及低速的剥离速度下的粘合力均在预定的粘合力范围内，并且，要求粘合剂层的抗静电性能和对被粘物的耐污染性能优异。
[0015] 本发明是鉴于上述情况而完成的，其技术问题在于提供一种抗静电表面保护膜的制造方法以及抗静电表面保护膜，其中，形成于基材的表面的抗静电层具有优异的大气暴露性，因此对长期保存有效，并且，在剥离粘合剂层时，在低速的剥离速度以及高速的剥离速度下具有保持平衡的粘合力的同时，粘合剂层的抗静电性能和耐污染性能优异。
[0016] 本发明人为了解决这些问题进行了深入研究。首先，虽然若将抗静电层中含有导电性高分子的表面保护膜在大气环境中长期保存，则抗静电层的表面电阻率会经时变化而增加，从而抗静电性能降低(所谓，大气暴露性差)的现象的产生原因不清楚，但推测是因为导电性高分子被大气中的水分以及氧气氧化劣化。
[0017] 于是，寻找不被大气中的水分以及氧气氧化劣化且总光线透过率以及导电率高的物质的结果，最终通过作为抗静电层的抗静电剂(K1)采用碳纳米管，解决了该技术问题。
[0018] 进一步，针对另一技术问题，获得在剥离粘合剂层时，在低速的剥离速度以及高速的剥离速度下具有保持平衡的粘合力的同时，粘合剂层的抗静电性能和耐污染性能优异的抗静电表面保护膜的解决方案如下。
[0019] 为了解决该技术问题，用于形成本发明的抗静电表面保护膜的粘合剂层的粘合剂组合物中，包含于所述粘合剂组合物的丙烯酸类聚合物是由通过以下方式共聚并且重均分子量超过30万且100万以下的共聚物形成的丙烯酸类聚合物，其中，所述共聚物是使(A)烷基的碳原子数为C1～C18的(甲基)丙烯酸烷基酯中的至少一种以上的合计量100重量份和(B)含有羟基的可共聚单体中的至少一种的合计量1.0重量份～6.0重量份，以不含有具有羧基的可共聚单体的方式进行共聚而成。
[0020] 进一步，涂布粘合剂组合物并使其干燥而层叠粘合剂层后，对该粘合剂层的表面赋予适量的在20℃下为液体的硅酮类化合物以及第二抗静电剂(K2)，由此将对被粘物的污染性抑制得低(具有耐污染性能)，并且将从作为被粘物的光学用膜剥离时的剥离静电压抑制得低，由此解决了该技术问题。
[0021] 此外，为了解决上述技术问题，本发明提供一种抗静电表面保护膜的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括以工序(1)～工序(4)的顺序进行制备：
[0022] 工序(1)：制备粘合剂组合物的工序，所述粘合剂组合物含有丙烯酸类聚合物和交联剂，所述丙烯酸类聚合物是由通过以下方式共聚并且重均分子量超过30万且100万以下的共聚物形成的丙烯酸类聚合物，其中，所述共聚物是使(A)烷基的碳原子数为C1～C18的(甲基)丙烯酸烷基酯中的至少一种以上的合计量100重量份和(B)含有羟基的可共聚单体中的至少一种以上的合计量1.0重量份～6.0重量份，以不含有具有羧基的可共聚单体的方式进行共聚而成，
[0023] 所述粘合剂组合物含有作为所述交联剂的(C)三官能团以上的异氰酸酯化合物，进一步含有(D)交联延迟剂以及(E)作为交联促进剂的除锡化合物以外的交联促进剂；
[0024] 工序(2)：在由具有透明性的树脂形成的基材膜的一表面形成交联了所述粘合剂组合物的粘合剂层的工序；
[0025] 工序(3)：在所述基材膜的作为与所述一表面相反侧的表面的另一表面形成含有作为第一抗静电剂(K1)的碳纳米管的抗静电层的工序；以及
[0026] 工序(4)：将在树脂膜的单面层叠有含有第二抗静电剂(K2)的剥离剂层的剥离膜经由所述剥离剂层贴合于所述粘合剂层的表面，并使所述剥离剂层的所述第二抗静电剂(K2)转印至所述粘合剂层的表面的工序，
[0027] 所述剥离剂层通过树脂组合物形成，所述树脂组合物包含以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂、在20℃下为液体的硅酮类化合物以及所述第二抗静电剂(K2)。
[0028] 另外，优选地，将交联所述粘合剂组合物的粘合剂层以15μm的厚度层叠于厚度为38μm的聚酯膜的单面并使所述第二抗静电剂(K2)转印至所述粘合剂层的表面而形成的抗静电表面保护膜被贴合于偏振板表面后，从所述偏振板剥离所述抗静电表面保护膜时，在低速的剥离速度0.3m/min下的粘合力为0.01N/25mm～0.1N/25mm，在高速的剥离速度30m/min下的粘合力为1.0N/25mm以下。
[0029] 优选地，所述基材膜的表面的所述抗静电层的初始表面电阻率为1.0×10+10Ω/□以下，且在23℃×50％RH的环境中暴露于大气的状态下保存90天后的抗静电层的表面电阻+10率为1.0×10 Ω/□以下。
[0030] 优选地，所述粘合剂组合物或者所述丙烯酸类聚合物中的至少一个含有(F)构成聚亚烷基二醇链的含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体。
[0031] 优选地，所述二抗静电剂(K2)为碱金属盐。
[0032] 另外，本发明提供一种抗静电表面保护膜，所述抗静电表面保护膜通过在由具有透明性的树脂形成的基材膜的一表面形成粘合剂层而形成，所述粘合剂层通过交联含有丙烯酸类聚合物和交联剂的粘合剂组合物而形成，其特征在于，
[0033] 所述丙烯酸类聚合物为由通过以下方式共聚并且重均分子量超过30万且100万以下的共聚物形成的丙烯酸类聚合物，其中，
[0034] 所述共聚物是使(A)烷基的碳原子数为C1～C18的(甲基)丙烯酸烷基酯中的至少一种以上的合计量100重量份和(B)含有羟基的可共聚单体中的至少一种以上的合计量1.0重量份～6.0重量份，以不含有具有羧基的可共聚单体的方式进行共聚而成，
[0035] 所述粘合剂组合物含有作为所述交联剂的(C)三官能团以上的异氰酸酯化合物，进一步含有(D)交联延迟剂以及(E)作为交联促进剂的除锡合化物以外的交联促进剂，[0036] 在所述基材膜的作为与所述一表面相反侧的表面的另一表面形成含有作为第一抗静电剂(K1)的碳纳米管的抗静电层，
[0037] 将在树脂膜的单面层叠有含有第二抗静电剂(K2)的剥离剂层的剥离膜经由所述剥离剂层贴合于所述粘合剂层的表面，并使所述剥离剂层的所述第二抗静电剂(K2)转印至所述粘合剂层的表面，
[0038] 所述剥离剂层通过树脂组合物形成，所述树脂组合物包含以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂、在20℃下为液体的硅酮类化合物以及所述第二抗静电剂(K2)。
[0039] 另外，优选地，所述粘合剂组合物或者所述丙烯酸类聚合物中的至少一个包含(F)构成聚亚烷基二醇链的含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体。
[0040] 优选地，所述第二抗静电剂(K2)为碱金属盐。
[0041] 优选地，所述抗静电表面保护膜用作偏振板用表面保护膜，所述偏振板的偏振子的保护层为选自由TAC类膜、PMMA类膜、PET类膜组成的组的一种，并且对所述偏振板的偏振子的保护层的表面实施的表面处理为选自由未处理、AG处理、LR处理、AR处理、AG‑LR处理、AG‑AR处理组成的组的一种。
[0042] 优选地，所述(B)含有羟基的可共聚单体为选自由(甲基)丙烯酸8‑羟基辛酯、(甲基)丙烯酸6‑羟基己酯、(甲基)丙烯酸4‑羟基丁酯、(甲基)丙烯酸2‑羟基乙酯、N‑羟基(甲基)丙烯酰胺、N‑羟甲基(甲基)丙烯酰胺、N‑羟乙基(甲基)丙烯酰胺组成的化合物组中的至少一种以上。
[0043] 优选地，所述(D)交联延迟剂为酮‑烯醇互变异构体的化合物，相对于100重量份的所述丙烯酸类聚合物，以0.1重量份～300重量份的比例含有所述(D)交联延迟剂，所述(E)交联促进剂为选自由铝螯合化合物、钛螯合化合物、铁螯合化合物组成的组中的至少一种以上的金属螯合化合物，相对于100重量份的所述丙烯酸类聚合物，以0.001重量份～0.5重量份的比例含有所述(E)交联促进剂，所述(D)/所述(E)的重量份比率(D)/(E)为80～1000。
[0044] 优选地，相对于100重量份的所述丙烯酸类聚合物，所述粘合剂组合物以0.01重量份～0.5重量份的比例含有HLB值为6～12且重均分子量为10000以下的聚醚改性硅氧烷化合物。
[0045] 优选地，所述含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体中构成聚亚烷基二醇链的环氧烷的平均重复数为3～14，所述含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体中的二酯组分为0.2％以下，在100重量份的所述丙烯酸类聚合物中，以1重量份～50重量份的比例含有作为所述含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体而选自由聚亚烷基二醇单(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚亚烷基二醇(甲基)丙烯酸酯、乙氧基聚亚烷基二醇(甲基)丙烯酸酯组成的组中的至少一种以上。
[0046] 优选地，所述硅酮类化合物为聚醚改性硅酮。
[0047] 优选地，所述第二抗静电剂(K2)为Li盐，为选自由LiTFSI、LiFSI、LiTF组成的化合物组中的至少一种以上。
[0048] (发明效果)
[0049] 根据本发明的抗静电表面保护膜能够发挥以下(1)～(3)的效果。
[0050] (1)本发明的抗静电表面保护膜能够提供形成于基材的表面的抗静电层具有优异的大气暴露性，因此对长期保存有效的抗静电表面保护膜。
[0051] (2)本发明的抗静电表面保护膜能够提供在剥离粘合剂层时，在低速的剥离速度以及高速的剥离速度下，具有保持平衡的粘合力的抗静电表面保护膜。
[0052] (3)本发明的抗静电表面保护膜对被粘物的污染少，对被粘物的耐污染性能不会经时变化。另外，根据本发明，能够提供一种如下的抗静电表面保护膜：即使是对LR偏振板、AG‑LR偏振板等的被粘物的贴合有抗静电保护膜侧的表面用硅酮类化合物或氟化合物等进行抗污染处理的光学用膜，也能够使在将剥下剥离膜的抗静电表面保护膜贴合于被粘物后从被粘物剥离时所产生的剥离静电压抑制得低，并且不发生经时劣化且具有优异的剥离抗静电性能。
法律保护范围
涉及权利要求数量15：其中独权2项，从权-2项
1.一种抗静电表面保护膜的制造方法，其特征在于，所述抗静电表面保护膜的制造方法以工序(1)～工序(4)的顺序进行制备：
工序(1)：制备粘合剂组合物的工序，所述粘合剂组合物含有丙烯酸类聚合物和交联剂，所述丙烯酸类聚合物是由通过以下方式共聚并且重均分子量超过30万且100万以下的共聚物形成的丙烯酸类聚合物，其中，所述共聚物是使(A)烷基的碳原子数为C1～C18的(甲基)丙烯酸烷基酯中的至少一种以上的合计量100重量份和(B)含有羟基的可共聚单体中的至少一种以上的合计量1.0重量份～6.0重量份，以不含有具有羧基的可共聚单体的方式进行共聚而成，
所述粘合剂组合物含有作为所述交联剂的(C)三官能团以上的异氰酸酯化合物，进一步含有(D)交联延迟剂以及(E)作为交联促进剂的除锡化合物以外的交联促进剂；
工序(2)：在由具有透明性的树脂形成的基材膜的一表面形成交联了所述粘合剂组合物的粘合剂层的工序；
工序(3)：在所述基材膜的作为与所述一表面相反侧的表面的另一表面形成含有作为第一抗静电剂(K1)的碳纳米管的抗静电层的工序；以及
工序(4)：将在树脂膜的单面层叠有含有第二抗静电剂(K2)的剥离剂层的剥离膜经由所述剥离剂层贴合于所述粘合剂层的表面，并使所述剥离剂层的所述第二抗静电剂(K2)转印至所述粘合剂层的表面的工序，
所述剥离剂层通过树脂组合物形成，所述树脂组合物包含以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂、在20℃下为液体的硅酮类化合物以及所述第二抗静电剂(K2)。
2.根据权利要求1所述的抗静电表面保护膜的制造方法，其特征在于，
将交联所述粘合剂组合物的粘合剂层以15μm的厚度层叠于厚度为38μm的聚酯膜的单面并使所述第二抗静电剂(K2)转印至所述粘合剂层的表面而形成的抗静电表面保护膜被贴合于偏振板表面后，从所述偏振板剥离所述抗静电表面保护膜时，在低速的剥离速度
0.3m/min下的粘合力为0.01N/25mm～0.1N/25mm，在高速的剥离速度30m/min下的粘合力为
1.0N/25mm以下。
3.根据权利要求1或2所述的抗静电表面保护膜的制造方法，其特征在于，
+10
所述基材膜的表面的所述抗静电层的初始表面电阻率为1.0×10 Ω/□以下，并在23℃×50％RH的环境中暴露于大气的状态下保存90天后的抗静电层的表面电阻率为1.0×10+10
Ω/□以下。
4.根据权利要求1或2所述的抗静电表面保护膜的制造方法，其特征在于，
所述粘合剂组合物或者所述丙烯酸类聚合物中的至少一个包含(F)构成聚亚烷基二醇链的含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体。
5.根据权利要求1或2所述的抗静电表面保护膜的制造方法，其特征在于，
所述第二抗静电剂(K2)为碱金属盐。
6.一种抗静电表面保护膜，所述抗静电表面保护膜通过在由具有透明性的树脂形成的基材膜的一表面形成粘合剂层而形成，所述粘合剂层通过交联含有丙烯酸类聚合物和交联剂的粘合剂组合物而形成，其特征在于，
所述丙烯酸类聚合物为由通过以下方式共聚并且重均分子量超过30万且100万以下的共聚物形成的丙烯酸类聚合物，其中，
所述共聚物是使(A)烷基的碳原子数为C1～C18的(甲基)丙烯酸烷基酯中的至少一种以上的合计量100重量份和(B)含有羟基的可共聚单体中的至少一种以上的合计量1.0重量份～6.0重量份，以不含有具有羧基的可共聚单体的方式进行共聚而成，
所述粘合剂组合物含有作为所述交联剂的(C)三官能团以上的异氰酸酯化合物，进一步含有(D)交联延迟剂以及(E)作为交联促进剂的除锡合化物以外的交联促进剂，在所述基材膜的作为与所述一表面相反侧的表面的另一表面形成含有作为第一抗静电剂(K1)的碳纳米管的抗静电层，
将在树脂膜的单面层叠有含有第二抗静电剂(K2)的剥离剂层的剥离膜经由所述剥离剂层贴合于所述粘合剂层的表面，并使所述剥离剂层的所述第二抗静电剂(K2)转印至所述粘合剂层的表面，
所述剥离剂层通过树脂组合物形成，所述树脂组合物包含以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂、在20℃下为液体的硅酮类化合物以及所述第二抗静电剂(K2)。
7.根据权利要求6所述的抗静电表面保护膜，其特征在于，
所述粘合剂组合物或者所述丙烯酸类聚合物中的至少一个包含(F)构成聚亚烷基二醇链的含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体。
8.根据权利要求6或7所述的抗静电表面保护膜，其特征在于，
所述第二抗静电剂(K2)为碱金属盐。
9.根据权利要求6或7所述的抗静电表面保护膜，其特征在于，
所述抗静电表面保护膜用作偏振板用表面保护膜，
所述偏振板的偏振子的保护层为选自由TAC类膜、PMMA类膜、PET类膜组成的组的一种，并且对所述偏振板的偏振子的保护层的表面实施的表面处理为选自由未处理、AG处理、LR处理、AR处理、AG‑LR处理、AG‑AR处理组成的组的一种。
10.根据权利要求6或7所述的抗静电表面保护膜，其特征在于，
所述(B)含有羟基的可共聚单体为选自由(甲基)丙烯酸8‑羟基辛酯、(甲基)丙烯酸6‑羟基己酯、(甲基)丙烯酸4‑羟基丁酯、(甲基)丙烯酸2‑羟基乙酯、N‑羟基(甲基)丙烯酰胺、N‑羟甲基(甲基)丙烯酰胺、N‑羟乙基(甲基)丙烯酰胺组成的化合物组中的至少一种以上。
11.根据权利要求6或7所述的抗静电表面保护膜，其特征在于，
所述(D)交联延迟剂为酮‑烯醇互变异构体的化合物，
相对于100重量份的所述丙烯酸类聚合物，以0.1重量份～300重量份的比例含有所述(D)交联延迟剂，
所述(E)交联促进剂为选自由铝螯合化合物、钛螯合化合物、铁螯合化合物组成的组中的至少一种以上的金属螯合化合物，
相对于100重量份的所述丙烯酸类聚合物，以0.001重量份～0.5重量份的比例含有所述(E)交联促进剂，
所述(D)/所述(E)的重量份比率(D)/(E)为80～1000。
12.根据权利要求6或7所述的抗静电表面保护膜，其特征在于，
相对于100重量份的所述丙烯酸类聚合物，所述粘合剂组合物以0.01重量份～0.5重量份的比例含有HLB值为6～12且重均分子量为10000以下的聚醚改性硅氧烷化合物。
13.根据权利要求7所述的抗静电表面保护膜，其特征在于，
所述含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体中构成聚亚烷基二醇链的环氧烷的平均重复数为3～14，
所述含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体中的二酯组分为0.2％以下，在100重量份的所述丙烯酸类聚合物中，以1重量份～50重量份的比例含有作为所述含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体而选自由聚亚烷基二醇单(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚亚烷基二醇(甲基)丙烯酸酯、乙氧基聚亚烷基二醇(甲基)丙烯酸酯组成的组中的至少一种以上。
14.根据权利要求6或7所述的抗静电表面保护膜，其特征在于，
所述硅酮类化合物为聚醚改性硅酮。
15.根据权利要求6或7所述的抗静电表面保护膜，其特征在于，
所述第二抗静电剂(K2)为Li盐，为选自由LiTFSI、LiFSI、LiTF组成的化合物组中的至少一种以上。
