涉及权利要求数量15：其中独权4项，从权-4项
1.一种涂擦方法，其特征在于，所述方法包括：
获取针对涂擦功能的触控操作，所述涂擦功能为涂写功能或擦除功能；
根据所述触控操作在可编辑区域中对应的第一触控位置，通过目标笔刷所对应的图案在所述第一触控位置生成第一涂擦区域；所述图案的边缘轮廓用于模拟手指涂擦的边缘形状；
根据所述触控操作在所述可编辑区域中的位移确定第二触控位置，所述第二触控位置为所述触控操作的位移轨迹中，所述第一触控位置的下一个触控位置；
通过旋转后的所述图案在所述第二触控位置生成第二涂擦区域。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述图案具有通过圆形结构向外喷溅和向内陷的边缘形状；其中，所述图案的边缘包括具有向外喷溅形态的第一边缘部分，以及具有内陷形态的第二边缘部分；所述第一边缘部分被约束在所述圆形结构的圆周向外第一比例的外圆区域，所述第二边缘部分被约束在所述圆形结构的圆周向内第二比例的内圆区域。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述圆形结构为正圆结构或椭圆结构。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述旋转的方式为基于所述图案中心的随机旋转。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述触控操作在所述可编辑区域的位移确定第二触控位置，包括：
基于所述涂擦功能的刷新率，根据所述触控操作在所述可编辑区域的位移确定第二触控位置。
6.根据权利要求1-5任意一项所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：
确定所述触控操作在所述可编辑区域中的单点触控面积；
根据所述单点触控面积确定所述目标笔刷所对应图案的尺寸。
7.根据权利要求1-5任意一项所述的方法，其特征在于，若所述涂擦功能为所述擦除功能，所述第一涂擦区域为第一擦除区域；所述可编辑区域包括遮挡层和位于所述遮挡层下的图像层，所述根据所述触控操作在可编辑区域中对应的第一触控位置，通过目标笔刷所对应的图案在所述第一触控位置生成第一涂擦区域，包括：
根据所述触控操作在可编辑区域中对应的第一触控位置，确定所述图案对应的所述第一擦除区域；
通过所述图案的透明度数值，以及所述图像层在所述第一擦除区域的颜色数值确定所述目标区域对应的展示图像；
根据所述展示图像生成所述第一涂擦区域。
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：
若所述可编辑区域中根据所述触控操作所生成涂擦区域的总面积达到所述可编辑区域的预定比例，对所述遮挡层进行取消显示。
9.一种涂擦装置，其特征在于，所述装置包括获取单元、生成单元和确定单元：
所述获取单元，用于获取针对涂擦功能的触控操作，所述涂擦功能为涂写功能或擦除功能；
所述生成单元，用于根据所述触控操作在可编辑区域中对应的第一触控位置，通过目标笔刷所对应的图案在所述第一触控位置生成第一涂擦区域；所述图案的边缘轮廓用于模拟手指涂擦的边缘形状；
所述确定单元，用于根据所述触控操作在所述可编辑区域中的位移确定第二触控位置，所述第二触控位置为所述触控操作的位移轨迹中，所述第一触控位置的下一个触控位置；
所述生成单元，还用于通过旋转后的所述图案在所述第二触控位置生成第二涂擦区域。
10.根据权利要求9所述的装置，其特征在于，所述图案具有通过圆形结构向外喷溅和向内陷的边缘形状；其中，所述图案的边缘包括具有向外喷溅形态的第一边缘部分，以及具有内陷形态的第二边缘部分；所述第一边缘部分被约束在所述圆形结构的圆周向外第一比例的外圆区域，所述第二边缘部分被约束在所述圆形结构的圆周向内第二比例的内圆区域。
11.根据权利要求10所述的装置，其特征在于，所述圆形结构为正圆结构或椭圆结构。
12.根据权利要求9所述的装置，其特征在于，所述旋转的方式为基于所述图案中心的随机旋转。
13.根据权利要求9所述的装置，其特征在于，所述确定单元，用于：
基于所述涂擦功能的刷新率，根据所述触控操作在所述可编辑区域的位移确定第二触控位置。
14.一种用于涂擦的设备，其特征在于，所述设备包括处理器以及存储器：
所述存储器用于存储程序代码，并将所述程序代码传输给所述处理器；
所述处理器用于根据所述程序代码中的指令执行权利要求1-8任意一项所述的方法。
15.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质用于存储计算机程序，所述计算机程序用于执行权利要求1-8任意一项所述的方法。