技术领域
[0001] 本发明涉及一种螺母筛选给料装置及筛选方法，属于紧固件加工设备领域。
相关背景技术
[0002] 弹簧螺母为常见的紧固件之一，弹簧螺母是将弹簧安装在螺母上，在对其进行铆接而成，目前多数的弹簧螺母在加工时是通过人为将弹簧的尾端安装在螺母上在对其进行铆接，这样一来工作效率难以保证，产能降低，需要人工将螺母上的凹槽统一摆放，并将弹簧的尾端安装在凹槽内。
具体实施方式
[0023] 下面结合附图并通过实施例对本发明作进一步的详细说明，以下实施例是对本发明的解释而本发明并不局限于以下实施例。
[0024] 实施例。
[0025] 参见图1至图5所示，须知，本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本发明可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本发明所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本发明所揭示的技术内容能涵盖的范围内。同时，本说明书中若用引用如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本发明可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更技术内容下，当亦视为本发明可实施的范畴。
[0026] 本实施例中的螺母筛选给料装置，包括螺母给料振动盘G，以及安装在螺母给料振动盘G上的螺母筛选机构E和螺母输送机构F；螺母给料振动盘G上安装有螺旋输送轨道G1和螺母挡圈G2，螺旋输送轨道G1位于螺母挡圈G2内，螺旋输送轨道G1与螺母挡圈G2的内壁呈锐角设置。
[0027] 本实施例中的螺母筛选机构E包括一次筛选组件E1和二次筛选组件E2，一次筛选组件E1和二次筛选组件E2沿着输送方向依次设置在螺母给料振动盘G上，一次筛选组件E1包括一次筛选压板E11和一次筛选档杆E13，一次筛选档杆E13与一次筛选压板E11配合。
[0028] 本实施例中的螺母输送机构F包括螺母输送底板F1、螺母输送挡板F2和螺母输送压板F3，螺母输送底板F1安装在螺母给料振动盘G上，螺母输送挡板F2安装在螺母输送底板F1上，螺母输送压板F3安装在螺母输送挡板F2上。
[0029] 本实施例中的螺旋输送轨道G1的出料端与螺母输送底板F1的进料端连接，螺母输送底板F1的出料端与螺母落料通道F4的进料端配合；螺母落料通道F4的进料端为扩口结构，螺母落料通道F4上安装有螺母落料压板F5和检测探头F6。
[0030] 本实施例中的一次筛选压板E11安装在螺母挡圈G2上、且一次筛选压板E11与螺旋输送轨道G1之间存在一次筛选通道E12，一次筛选档杆E13固定在一次筛选通道E12的出口处。
[0031] 本实施例中的二次筛选组件E2包括二次筛选检测探头E21、二次筛选推料气缸E22和二次筛选弹性档杆E23，二次筛选弹性档杆E23与二次筛选检测探头E21配合，二次筛选检测探头E21与二次筛选推料气缸E22配合，螺母挡圈G2上设置有二次筛选推料口E24，二次筛选推料气缸E22位于二次筛选推料口E24的后方。
[0032] 本实施例中的螺母筛选给料装置的筛选方法，如下：（一）、在对螺母G0输送过程中，螺母G0通过一次筛选通道E12时，当螺母G0上的直角部位G1与一次筛选档杆E13接触时，此类螺母G0掉落在螺母给料振动盘G中；
（二）、在对螺母G0输送过程中，螺母G0通过一次筛选通道E12时，当螺母G0上的圆角部位G2与一次筛选档杆E13接触时，此类螺母G0通过一次筛选通道E12并被输送至螺母输送底板F1上；
（三）、在对位于螺母输送底板F1上的螺母G0进行输送时，当螺母G0上的凹槽G3卡在二次筛选弹性档杆E23上时，二次筛选检测探头E21检测到螺母G0停止不动，通过二次筛选推料气缸E22，将此类螺母G0从二次筛选推料口E24推至螺母给料振动盘G中；
（四）、在对位于螺母输送底板F1上的螺母G0进行输送时，当螺母G0上的凹槽G3没有卡在二次筛选弹性档杆E23上时，将此类螺母G0输送至螺母落料通道F4，进而输送至下一工序。
[0033] 通过该螺母筛选给料装置可实现对螺母G0的逐级筛选，进而实现了螺母G0的统一摆放，并将螺母G0输送至指定位置，可以准确的将弹簧的尾端安装在螺母G0的凹槽G3内，方便将弹簧安装在螺母G0上，便于铆接、减少人力成本的投入，提高了工作效率，保证了产品质量。
[0034] 此外，需要说明的是，本说明书中所描述的具体实施例，其零、部件的形状、所取名称等可以不同，本说明书中所描述的以上内容仅仅是对本发明结构所作的举例说明。凡依据本发明专利构思所述的构造、特征及原理所做的等效变化或者简单变化，均包括于本发明专利的保护范围内。本发明所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，只要不偏离本发明的结构或者超越本权利要求书所定义的范围，均应属于本发明的保护范围。
