技术领域
[0001] 本发明涉及数字成像领域，尤其涉及一种高分辨率X射线闪烁屏。
相关背景技术
[0002] 在工业及医疗行业中X 射线探测器被广泛的应用，作为X 射线探测器必不可少的闪烁体部分也越来越重要。对于一些新型的医用闪烁体，制备单晶时十分困难，发展多晶陶瓷闪烁体是目前最重要的研究方向，多晶陶瓷闪烁体具有成本低、加工性能好，易于进行性能裁剪等优点，是目前医用闪烁体的首选。
[0003] 在新的X 射线诊断用探测器中，人们正在研发采用有源矩阵的平面探测器。在这种平面探测器中，利用闪烁层将探测到的X 射线变换为可见光或荧光，再通过非晶硅光电二极管等光电变换元件将这一荧光变换成信号电荷，进而将信号电荷转换为数字信号而输出图像。
[0004] 作为闪烁层常用的材料通常有掺杂钠的碘化铯 (CsI:Na)、掺杂铊的碘化铯 (CsI:TL)、碘化钠 (NaI)、硫氧化钆 (Gd2O2S) 等。通过利用切割等在闪烁层上形成沟槽或如同形成柱状结构地堆积材料形成闪烁层，从而能提高图像分辨率特性。
具体实施方式
[0014] 下面结合附图对本发明的较佳实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
[0015] 请参阅图1，本发明实施例包括：高分辨率X射线闪烁屏，包括：衬底1、反射层2、阻隔层3、闪烁层4和防水层5，所述衬底1与所述反射层2相连接，所述衬底1的材料为氮化镓、Al2O3、SiC和Si中任意一种，其对X 射线吸收率为6％—8％，该基板厚度小于0.2mm，氮化镓单晶材料，这样可以大大提高晶圆膜的晶体质量，降低位错密度，提高器件工作寿命，提高发光效率，提高器件工作电流密度；Al2O3，其优点是化学稳定性好、不吸收可见光、价格适中、制造技术相对成熟；SiC的优点为化学稳定性好、导电性能好、导热性能好、不吸收可见光等；Si衬底有许多优点，如晶体质量高，尺寸大，成本低，易加工，良好的导电性、导热性和热稳定性等。
[0016] 所述反射层2与所述阻隔层3相连接，所述反射层2材料为晶态薄膜，该晶态薄膜采用200℃退火的晶态薄膜，由于晶态薄膜的反射率高于沉积态薄膜的反射率，而在晶态薄膜中200℃退火的晶态薄膜的反射率最大。
[0017] 所述阻隔层3与所述闪烁层4相连接，所述阻隔膜3在所述反射层2和所述闪烁层4之间起阻隔作用，防止所述反射层2和所述闪烁层4发生化学反应，同时使得所述闪烁层4和所述反射层2之间具有很好的附着力。
[0018] 所述闪烁层4与所述防水层5相连接，所述闪烁层4材料为碘化铯，碘化铯是一种无机离子化合物，通常作为X射线影像倍增管等萤光显示设备之输入荧光剂，碘化铯阴极管对于强紫外线波段有很高的侦测效率。
[0019] 所述防水层5材料为SiON钝化膜，SiON钝化膜可有效抑制有源区内非辐射符合缺陷的增加，从而有效降低漏电流和光衰。
[0020] 下面对本发明的一种高分辨率X射线闪烁屏的工作原理进行详细介绍。
[0021] 制作时在将反射层2覆盖在衬底1表面，然后在反射层2表面在覆盖上阻隔层3，通过阻隔层3将反射层2与闪烁层4连接起来，最后在闪烁层4表面覆上防水层5。
[0022] 与现有技术相比，本发明一种高分辨率X射线闪烁屏通过以碘化铯为闪烁材料，将X 射线转化成可见光，采用高反射率的光反射材料分散膜，提高了图像的分辨率。
[0023] 以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
