[0001] 本发明涉及一种碘化铯闪烁屏，尤其涉及一种可有效提高荧光转换效率和质量的新型碘化铯闪烁屏，属于碘化铯闪烁屏技术领域。

[0002] 自从X光被伦琴发现以来，它的用途也越来越广泛，从最初的X光感光照片到后来的X光光电探测器件，从航空航天到高能物理，从军事到医疗再到安检设备，从生产到生活再到科学研究、宇宙探寻，这种射线越来越显示出它独有的魅力。无机闪烁体材料在X射线辐射探测中起着非常重要的作用，广泛应用于影像核医学、核物理、高能物理、CT以及安检等领域。目前研究和应用最多的无机闪烁体材料是碘化铯，该种材料具有转换效率高、动态范围广、空间分辨率高，环境适应性强以及优良的机械性能和相对较低的生产成本等优点。

[0003] 在碘化铯闪烁屏的工作过程中，其荧光转换层存在一定的散射现象，该种现象容易影响闪烁屏的MTF值，降低图像的对比度。为了确保图像良好的对比度，现行技术中常在碘化铯原料中添加稳定剂碘化铊，混合后通过热蒸镀工艺进行闪烁屏的制备，但上述工艺对原料的混合百分比、加热、冷却及热蒸镀时间的控制要求非常严格，闪烁层的制备工艺较为复杂，且制备成本高。

[0011] 下面结合附图对本发明的较佳实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。

[0012] 图1是本发明实施例新型碘化铯闪烁屏的结构示意图；该碘化铯闪烁屏包括底层1和闪烁层2，所述的闪烁层2由碘化铯层3和碘化铊层4组成，所述的碘化铊层4包覆在碘化铯层3的外部。

[0013] 本发明提及的新型碘化铯闪烁屏中，碘化铯层3所选用的碘化铯粉末的颗粒度约为800-1000目，其成型厚度约为100-120um；碘化铊层4所选用的碘化铊粉末的颗粒度约为1000-1200目，其成型厚度控制在1.2-1.5um；底层1材质可选用玻璃或光纤维面板，其厚度约为1.5-1.8mm。实施例

[0014] 具体制备过程如下：a）选备底层，底层材质选用玻璃或光纤维面板，其厚度约为1.5-1.8mm；底层使用前需进行超声清洗，清洗完毕后进行烘干处理；
b）制备碘化铯层，碘化铯层采用真空热蒸镀工艺进行制备，制备过
程如下：首先，定量称取碘化铯粉末，并将粉末置于蒸镀舟内，蒸镀舟与底层之间的距离 控制在15-20cm；然后，将蒸镀室抽 真空，真空度控制 在10 -10 torr，底层采用电热丝加热至220℃-240℃；接着，打开蒸镀舟电源，蒸镀舟温度上升至440℃-480℃后，通入氩气，氩气的气流速度控制在3-4m/s，气压值为0.4-0.5Pa，热蒸镀的实施时间控制在10-12分钟；最后，在30℃-35℃的干燥箱内进行干燥处理，处理时间约为40-60分钟，处理后冷却至室温；制得的碘化铯层呈微柱状连续排列，直径约为5-6um，间隙约为0.5-0.8um，厚度约为100-120um；
c）制备碘化铊层，碘化铊层采用磁控溅射镀膜工艺进行制备，靶材为碘化铊微粉；射频电源为2000W，真空室的真空度控制在10 -10 torr，底层温度控制在320℃-340℃；溅射气体选用氩气，气压值控制在1-1.2Pa，溅射电压为2kV，入射角为60°，沉积速度控制在
20A/s，制得的碘化铊层的厚度约为1.2-1.5um；
d）闪烁屏后处理，将制得的闪烁屏置于热风循环干燥箱内进行干燥处理，处理过程中通入氮气，热风的循环温度控制在20℃-25℃，处理时间约为12-30小时。

[0015] 本发明揭示了一种新型碘化铯闪烁屏，其特点是：该闪烁屏结构设计合理，功能独特，其闪烁层是以碘化铯为光电转换介质，外部包覆碘化铊，该结构设计有效确保了闪烁屏在荧光转换时的稳定性，避免了散射效应的产生，使闪烁屏具有更为优良的MTF值，图像对比度更高，图像质量更为清晰、可靠。

[0016] 以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本领域的技术人员在本发明所揭露的技术范围内，可不经过创造性劳动想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。