[0001] 本发明涉及表面处理剂和具有由该表面处理剂形成的层的物品。

[0002] 已知某些种类的的含氟代聚醚基硅烷化合物用于基材的表面处理时，能够提供优异的拨水性、拨油性、防污性等。由含有含氟代聚醚基硅烷化合物的表面处理剂得到的层(以下也称为“表面处理层”)作为所谓的功能性薄膜被施用于例如玻璃、塑料、纤维、卫生用品、建筑材料等各种各样的基材(专利文献1)。

[0003] 现有技术文献

[0004] 专利文献

[0005] 专利文献1：日本特开2014－218639号公报

[0155] 在本说明书中使用的情况下，“1价的有机基团”是指含碳的1价基团。作为1价的有机基团，没有特别限定，可以是烃基或其衍生物。作为烃基的衍生物，是指在烃基的末端或分子链中具有1个或1个以上的N、O、S、Si、酰胺基、磺酰基、硅氧烷基、羰基、羰氧基等的基团。其中，在仅记作“有机基团”的情况下，意指1价的有机基团。另外，“2～10价的有机基团”是指含碳的2～10价的基团。作为该2～10价的有机基团，没有特别限定，可以列举从有机基团进一步脱离了1～9个氢原子的2～10价的基团。例如，作为2价的有机基团，没有特别限定，可以列举从有机基团进一步脱离了1个氢原子的2价基团。

[0156] 在本说明书中使用的情况下，“烃基”是含有碳和氢的基团，是指从烃脱离了1个氢原子的基团。作为该烃基，没有特别限定，可以列举可以被1个或1个以上的取代基取代的C1－20烃基，例如脂肪族烃基、芳香族烃基等。上述“脂肪族烃基”可以为直链状、支链状或环状的任一种，也可以为饱和或不饱和的任一种。另外，烃基可以包含1个或1个以上的环结构。

[0157] 在本说明书中使用的情况下，作为“烃基”的取代基，没有特别限定，例如可以列举选自卤原子、可以被1个或1个以上的卤原子取代的、C1－6烷基、C2－6烯基、C2－6炔基、C3－10环烷基、C3－10不饱和环烷基、5～10元的杂环基、5～10元的不饱和杂环基、C6－10芳基和5～10元的杂芳基中的1个或1个以上的基团。

[0158] 在本说明书中使用的情况下，“水解性基团”是指可接受水解反应的基团，即，是指可通过水解反应从化合物的主骨架脱离的基团。作为水解性基团的例子，可以列举－j j j j j j
OR、－OCOR、－O－N＝CR2、－NR 2、－NHR 、－NCO、卤素(这些式中，R 表示取代或非取代的C1－4烷基)等。

[0159] 本发明的表面处理剂含有含氟代聚醚基硅烷化合物和酰胺化合物。

[0160] 在本发明的表面处理剂中，在含氟代聚醚基硅烷化合物之外，通过进一步含有酰胺化合物，能够得到提高了耐摩擦性的表面处理层。

[0161] (含氟代聚醚基硅烷化合物)

[0162] 上述含氟代聚醚基硅烷化合物含有氟，是能够形成具有防污性的表面处理层的化合物。

[0163] 在一个实施方式中，上述含氟代聚醚基硅烷化合物为以下式(1)或(2)所示的至少1种的含氟代聚醚基硅烷化合物。

[0164] RF1u‑XA‑RSiβ                   (1)

[0165] RSiγ‑XA‑RF2‑XA‑RSiγ          (2)

[0166] [式中：

[0167] RF1在每次出现时分别独立地为Rf1－RF－Oq－；

[0168] RF2为－Rf2p－RF－Oq－；

[0169] Rf1在每次出现时分别独立地为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1－16烷基；

[0170] Rf2为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1－6亚烷基；

[0171] RF在每次出现时分别独立地为2价的氟代聚醚基；

[0172] p为0或1；

[0173] q在每次出现时分别独立地为0或1；

[0174] RSi在每次出现时分别独立地为含有键合有羟基、水解性基团、氢原子或1价的有机基团的Si原子的1价的基团；

[0175] 至少1个RSi为含有键合有羟基或水解性基团的Si原子的1价的基团；

[0176] XA分别独立地为单键或2～10价的有机基团；

[0177] α为1～9的整数；

[0178] β为1～9的整数；

[0179] γ分别独立地为1～9的整数。]

[0180] 上述式(1)中，RF1在每次出现时分别独立地为Rf1－RF－Oq－。

[0181] 上述式(2)中，RF2为－Rf2p－RF－Oq－。

[0182] 在上述式中，Rf1在每次出现时分别独立地为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1－16烷基。

[0183] 上述可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1－16烷基中的“C1－16烷基”可以为直链，也可以为支链，优选为直链或支链的C1－6烷基、特别是C1－3烷基，更优选为直链的C1－6烷基、特别是C1－3烷基。

[0184] 上述Rf1优选为被1个或1个以上的氟原子取代的C1－16烷基，更优选为CF2H－C1－15全氟亚烷基，进一步优选为C1－16全氟烷基。

[0185] 上述C1－16全氟烷基可以为直链，也可以为支链，优选为直链或支链的C1－6全氟烷基、特别是C1－3全氟烷基，更优选为直链的C1－6全氟烷基、特别是C1－3全氟烷基，具体为－CF3、－CF2CF3或－CF2CF2CF3。

[0186] 在上述式中，Rf2为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1－6亚烷基。

[0187] 上述可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1－6亚烷基中的“C1－6亚烷基”可以为直链，也可以为支链，优选为直链或支链的C1－3亚烷基，更优选为直链的C1－3亚烷基。

[0188] 上述Rf2优选为被1个或1个以上的氟原子取代的C1－6亚烷基，更优选为C1－6全氟亚烷基，进一步优选为C1－3全氟亚烷基。

[0189] 上述C1－6全氟亚烷基可以为直链，也可以为支链，优选为直链或支链的C1－3全氟亚烷基，更优选为直链的C1－3全氟亚烷基，具体为－CF2－、－CF2CF2－或－CF2CF2CF2－。

[0190] 在上述式中，p为0或1。在一个方式中，p为0。在另一方式中，p为1。

[0191] 在上述式中，q在每次出现时分别独立地为0或1。在一个方式中，q为0。在另一方式中，q为1。

[0192] 在上述式(1)和(2)中，RF在每次出现时分别独立地为2价的氟代聚醚基。

[0193] RF优选为以下式所示的基团。

[0194] －(OC6F12)a－(OC5F10)b－(OC4F8)c－(OC3RFa6)d－(OC2F4)e－(OCF2)f－

[0195] [式中：

[0196] RFa在每次出现时分别独立地为氢原子、氟原子或氯原子，

[0197] a、b、c、d、e和f分别独立地为0～200的整数，a、b、c、d、e和f之和为1以上。标注a、b、Fac、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。但在全部R 为氢原子或氯原子的情况下，a、b、c、e和f中的至少1个为1以上。]。

[0198] RFa优选为氢原子或氟原子，更优选为氟原子。但在全部RFa为氢原子或氯原子的情况下，a、b、c、e和f中的至少1个为1以上。

[0199] a、b、c、d、e和f优选分别独立地为0～100的整数。

[0200] a、b、c、d、e和f之和优选为5以上，更优选为10以上，例如可以为15以上或20以上。a、b、c、d、e和f之和优选为200以下，更优选为100以下，进一步优选为60以下，例如可以为50以下或30以下。

[0201] 这些重复单元可以为直链状也可以为支链状。例如－(OC6F12)－可以为－(OCF2CF2CF2CF2CF2CF2)－、－(OCF(CF3)CF2CF2CF2CF2)－、－(OCF2CF(CF3)CF2CF2CF2)－、－(OCF2CF2CF(CF3)CF2CF2)－、－(OCF2CF2CF2CF(CF3)CF2)－、－(OCF2CF2CF2CF2CF(CF3))－等。－(OC5F10)－可以为－(OCF2CF2CF2CF2CF2)－、－(OCF(CF3)CF2CF2CF2)－、－(OCF2CF(CF3)CF2CF2)－、－(OCF2CF2CF(CF3)CF2)－、－(OCF2CF2CF2CF(CF3))－等。－(OC4F8)－可以为－(OCF2CF2CF2CF2)－、－(OCF(CF3)CF2CF2)－、－(OCF2CF(CF3)CF2)－、－(OCF2CF2CF(CF3))－、－(OC(CF3)2CF2)－、－(OCF2C(CF3)2)－、－(OCF(CF3)CF(CF3))－、－(OCF(C2F5)Fa
CF2)－和－(OCF2CF(C2F5))－的任意种。－(OC3F6)－(即，上述式中R 为氟原子)可以为－(OCF2CF2CF2)－、－(OCF(CF3)CF2)－和－(OCF2CF(CF3))－的任意种。－(OC2F4)－可以为－(OCF2CF2)－和－(OCF(CF3))－的任意种。

[0202] 在一个方式中，上述重复单元为直链状。通过使上述重复单元为直链状，能够提高表面处理层的表面滑动性、磨损耐久性等。

[0203] 在一个方式中，上述重复单元为支链状。通过使上述重复单元为支链状，能够增大表面处理层的动摩擦系数。

[0204] 在一个方式中，RF在每次出现时分别独立地为以下式(f1)～(f5)中任一式所示的基团。

[0205] －(OC3F6)d－(OC2F4)e－(f1)

[0206] [式中，d为1～200的整数，e为0或1。]

[0207] －(OC4F8)c－(OC3F6)d－(OC2F4)e－(OCF2)f－(f2)

[0208] [式中，c和d分别独立地为0以上30以下的整数，e和f分别独立地为1以上200以下的整数，

[0209] c、d、e和f之和为2以上，

[0210] 标注角标c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。][0211] －(R6－R7)g－(f3)

[0212] [式中，R6为OCF2或OC2F4，

[0213] R7为选自OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10和OC6F12中的基团，或者为从这些基团中独立地选择的2或3个基团的组合，

[0214] g为2～100的整数。]

[0215] －(OC6F12)a－(OC5F10)b－(OC4F8)c－(OC3F6)d－(OC2F4)e－(OCF2)f－(f4)

[0216] [式中，e为1以上200以下的整数，a、b、c、d和f分别独立地为0以上200以下的整数，另外，标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。][0217] －(OC6F12)a－(OC5F10)b－(OC4F8)c－(OC3F6)d－(OC2F4)e－(OCF2)f－(f5)

[0218] [式中，f为1以上200以下的整数，a、b、c、d和e分别独立地为0以上200以下的整数，另外，标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。][0219] 在上述式(f1)中，d优选为5～200的整数，更优选为10～100的整数，进一步优选为15～50的整数，例如为25～35的整数。在一个方式中，e为1。在另一方式中，e为0。在上述式(f1)中，OC3F6优选为OCF2CF2CF2、OCF2CF(CF3)或OCF(CF3)CF2，更优选为OCF2CF2CF2。

[0220] 在上述式(f2)中，e和f分别独立地优选为5～200的整数，更优选为10～200的整数。另外，c、d、e和f之和优选为5以上，更优选为10以上，例如可以为15以上或20以上。在一个方式中，上述式(f2)优选为－(OCF2CF2CF2CF2)c－(OCF2CF2CF2)d－(OCF2CF2)e－(OCF2)f－所示的基团。在另一方式中，式(f2)可以为－(OC2F4)e－(OCF2)f－所示的基团。

[0221] 在上述式(f3)中，R6优选为OC2F4。在上述(f3)中，R7优选为选自OC2F4、OC3F6和OC4F8中的基团，或者为从这些基团中独立地选择的2或3个基团的组合，更优选为选自OC3F6和OC4F8的基团。作为从OC2F4、OC3F6和OC4F8中独立地选择的2或3个基团的组合，没有特别限定，例如可以列举－OC2F4OC3F6－、－OC2F4OC4F8－、－OC3F6OC2F4－、－OC3F6OC3F6－、－OC3F6OC4F8－、－OC4F8OC4F8－、－OC4F8OC3F6－、－OC4F8OC2F4－、－OC2F4OC2F4OC3F6－、－OC2F4OC2F4OC4F8－、－OC2F4OC3F6OC2F4－、－OC2F4OC3F6OC3F6－、－OC2F4OC4F8OC2F4－、－OC3F6OC2F4OC2F4－、－OC3F6OC2F4OC3F6－、－OC3F6OC3F6OC2F4－和－OC4F8OC2F4OC2F4－等。在上述式(f3)中，g优选为3以上的整数，更优选为5以上的整数。上述g优选为50以下的整数。在上述式(f3)中，OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10和OC6F12可以为直链或支链的任一种，优选为直链。在该方式中，上述式(f3)优选为－(OC2F4－OC3F6)g－或－(OC2F4－OC4F8)g－。

[0222] 在上述式(f4)中，e优选为1以上100以下的整数，更优选为5以上100以下的整数。a、b、c、d、e和f之和优选为5以上，更优选为10以上，例如为10以上100以下。

[0223] 在上述式(f5)中，f优选为1以上100以下的整数，更优选为5以上100以下的整数。a、b、c、d、e和f之和优选为5以上，更优选为10以上，例如为10以上100以下。

[0224] 在一个方式中，上述RF为上述式(f1)所示的基团。

[0225] 在一个方式中，上述RF为上述式(f2)所示的基团。

[0226] 在一个方式中，上述RF为上述式(f3)所示的基团。

[0227] 在一个方式中，上述RF为上述式(f4)所示的基团。

[0228] 在一个方式中，上述RF为上述式(f5)所示的基团。

[0229] 在上述RF中，e相对于f之比(以下称为“e/f比”)为0.1～10，优选为0.2～5，更优选为0.2～2，进一步优选为0.2～1.5，进一步更优选为0.2～0.85。通过使e/f比为10以下，由该化合物得到的表面处理层的滑动性、磨损耐久性和耐化学性(例如对人工汗的耐久性)进一步提高。e/f比越小，表面处理层的滑动性和磨损耐久性越高。另一方面，通过使e/f比为0.1以上，能够进一步提高化合物的稳定性。e/f比越大，化合物的稳定性越高。

[0230] 在一个方式中，上述e/f比优选为0.2～0.95，更优选为0.2～0.9。

[0231] 在一个方式中，从耐热性的观点出发，上述e/f比优选为1.0以上，更优选为1.0～2.0。

[0232] 在上述含氟代聚醚基硅烷化合物中，RF1和RF2部分的数均分子量没有特别限定，例F1如为500～30,000、优选为1,500～30,000、更优选为2,000～10,000。在本说明书中，R 和F2 19
R 的数均分子量是通过 F－NMR测得的值。

[0233] 在另外的方式中，RF1和RF2部分的数均分子量为500～30,000、优选为1,000～20,000、更优选为2,000～15,000、更进一步优选为2,000～10,000，例如可以为3,000～6,000。

[0234] 在另外的方式中，RF1和RF2部分的数均分子量为4,000～30,000、优选为5,000～10,000、更优选为6,000～10,000。

[0235] 在上述式(1)和(2)中，RSi在每次出现时分别独立地为含有键合有羟基、水解性基Si团、氢原子或1价有机基团的Si原子的1价的基团，至少1个R 为含有键合有羟基或水解性基团的Si原子的1价的基团。

[0236] 在此，“水解性基团”是指可接受水解反应的基团，即，是指可通过水解反应从化合j j物的主骨架脱离的基团。作为水解性基团的例子，可以列举－OR 、－OCOR 、－O－N＝j j j j
CR2、－NR2、－NHR、－NCO、卤素(这些式中，R表示取代或非取代的C1－4烷基)等。

[0237] 在优选的方式中，RSi为含有键合有羟基或水解性基团的Si原子的1价的基团。

[0238] 在优选的方式中，RSi为以下式(S1)、(S2)、(S3)或(S4)所示的基团。

[0239]

[0240] ‑SiR11n1R123‑n1               (S2)

[0241] ‑SiRa1k1Rb111Rc1m1            (S3)

[0242] ‑CRd1k2Re112Rf1m2            (S4)

[0243] ‑NRg1Rh1                     (S5)

[0244] 在上述式中，R11在每次出现时分别独立地为羟基或水解性基团。

[0245] R11优选在每次出现时分别独立地为水解性基团。

[0246] R11优选在每次出现时分别独立地为‑ORj、‑OCORj、‑O‑N＝CRj2、‑NRj2、‑NHRj、‑NCO或j j j卤素(这些式中，R 表示取代或非取代的C1‑4烷基)，更优选为‑OR (即烷氧基)。作为R ，可以列举：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基等的非取代烷基；氯甲基等的取代烷基。
j
这些之中，优选烷基，特别优选非取代烷基，更优选甲基或乙基。在一个方式中，R 为甲基，j
在另一方式中，R为乙基。

[0247] 在上述式中，R12在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团。该1价的有机基团是除上述水解性基团之外的1价的有机基团。

[0248] 在R12中，1价的有机基团优选为C1‑20烷基，更优选为C1‑6烷基，进一步优选为甲基。

[0249] 在上述式中，n1在每个(SiR11n1R123‑n1)单元中分别独立地为0～3的整数。其中，在Si SiR 为式(S1)或(S2)所示的基团的情况下，在式(1)和式(2)的末端的R 部分(以下也简称为
11 12
式(1)和式(2)的“末端部分”)，存在至少1个n1为1～3的(SiR n1R 3‑n1)单元。即，在该末端部分，所有的n1不同时为0。换言之，在式(1)和式(2)的末端部分，存在至少1个键合有羟基或水解性基团的Si原子。

[0250] n1在(SiR11n1R123‑n1)单元中分别独立地优选为1～3的整数，更优选为2～3，进一步优选为3。

[0251] 在上述式中，X11在每次出现时分别独立地为单键或2价的有机基团。该2价的有机28 29 28 29
基团优选为－R －Ox－R －(式中，R 和R 在每次出现时分别独立地为单键或C1－20亚烷基，x为0或1)。该C1－20亚烷基可以为直链，也可以为支链，优选为直链。该C1－20亚烷基优选为C1－10亚烷基，更优选为C1－6亚烷基，进一步优选为C1－3亚烷基。

[0252] 在一个方式中，X11在每次出现时分别独立地为－C1－6亚烷基－O－C1－6亚烷基－或－O－C1－6亚烷基－。

[0253] 在优选的方式中，X11在每次出现时分别独立地为单键或直链的C1－6亚烷基，优选为单键或直链的C1－3亚烷基，更优选为单键或直链的C1－2亚烷基，进一步优选为直链的C1－2亚烷基。

[0254] 在上述式中，R13在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团。该1价的有机基团优选为C1－20烷基。该C1－20烷基可以为直链，也可以为支链，优选为直链。

[0255] 在优选的方式中，R13在每次出现时分别独立地为氢原子或直链的C1－6烷基，优选为氢原子或直链的C1－3烷基，优选为氢原子或甲基。

[0256] 在上述式中，t在每次出现时分别独立地为2以上的整数。

[0257] 在优选的方式中，t在每次出现时分别独立地为2～10的整数，优选2～6的整数。

[0258] 在上述式中，R14在每次出现时分别独立地为氢原子、卤原子或－X11－11 12
SiR n1R 3－n1。该卤原子优选为碘原子、氯原子或氟原子，更优选为氟原子。在优选的方式
14
中，R 为氢原子。

[0259] 在一个方式中，式(S1)为以下式(S1－a)。

[0260]

[0261] [式中，

[0262] R11、R12、R13、X11和n1的含义与上述式(S1)中的记载相同；

[0263] t1和t2在每次出现时分别独立地为1以上的整数，优选为1～10的整数，更优选为2～10的整数，例如为1～5的整数或2～5的整数；

[0264] 标注t1和t2并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。]

[0265] 在优选的方式中，式(S1)为以下式(S1－b)。

[0266]

[0267] [式中，R11、R12、R13、X11、n1和t的含义与上述式(S1)中的记载相同。]

[0268] 在上述式中，Ra1在每次出现时分别独立地为－Z1－SiR21p1R22q1R23r1。

[0269] 上述Z1在每次出现时分别独立地为氧原子或2价的有机基团。其中，以下记作Z1的21 22 23
结构的右侧键合于(SiR p1R q1R r1)。

[0270] 在优选的方式中，Z1为2价的有机基团。

[0271] 在优选的方式中，Z1不包括与Z1所键合的Si原子形成硅氧烷键的情况。优选在式1
(S3)中(Si－Z－Si)不含硅氧烷键。

[0272] 上述Z1优选为C1－6亚烷基、－(CH2)z1－O－(CH2)z2－(式中，z1为0～6的整数、例如为1～6的整数，z2为0～6的整数、例如为1～6的整数)或－(CH2)z3－亚苯基－(CH2)z4－(式中，z3为0～6的整数、例如为1～6的整数，z4为0～6的整数、例如为1～6的整数)。该C1－6亚烷基可以为直链，也可以为支链，优选为直链。这些基团例如可以被选自氟原子、C1－6烷基、C2－6烯基和C2－6炔基中的1个或1个以上的取代基取代，但优选非取代。

[0273] 在优选的方式中，Z1为C1－6亚烷基或－(CH2)z3－亚苯基－(CH2)z4－，优选为－亚苯1
基－(CH2)z4－。在Z为这些基团的情况下，耐光性、尤其是耐紫外线性进一步提高。

[0274] 在另一优选的方式中，上述Z1为C1－3亚烷基。在一个方式中，Z1可以为－1
CH2CH2CH2－。在另一方式中，Z可以为－CH2CH2－。

[0275] 上述R21在每次出现时分别独立地为－Z1′－SiR21′p1′R22′q1′R23′r1′。

[0276] 上述Z1′在每次出现时分别独立地为氧原子或2价的有机基团。其中，以下记作Z1′21′ 22′ 23′
的结构的右侧键合于(SiR p1′R q1′R r1′)。

[0277] 在优选的方式中，Z1′为2价的有机基团。

[0278] 在优选的方式中，Z1′不包括与Z1′所键合的Si原子形成硅氧烷键的情况。优选在式1′
(S3)中(Si－Z －Si)不含硅氧烷键。

[0279] 上述Z1′优选为C1－6亚烷基、－(CH2)z1′－O－(CH2)z2′－(式中，z1'为0～6的整数、例如为1～6的整数，z2'为0～6的整数、例如为1～6的整数)或－(CH2)z3′－亚苯基－(CH2)z4′－(式中，z3'为0～6的整数、例如为1～6的整数，z4'为0～6的整数、例如为1～6的整数)。该C1－6亚烷基可以为直链，也可以为支链，优选为直链。这些基团例如可以被选自氟原子、C1－6烷基、C2－6烯基和C2－6炔基中的1个或1个以上的取代基取代，但优选非取代。

[0280] 在优选的方式中，Z1′为C1－6亚烷基或－(CH2)z3′－亚苯基－(CH2)z4′－，优选为－亚1′
苯基－(CH2)z4′－。在Z 为这些基团的情况下，耐光性、尤其是耐紫外线性进一步提高。

[0281] 在另一优选的方式中，上述Z1′为C1－3亚烷基。在一个方式中，Z1′可以为－1′
CH2CH2CH2－。在另一方式中，Z 可以为－CH2CH2－。

[0282] 上述R21′在每次出现时分别独立地为－Z1″－SiR22″q1″R23″r1″。

[0283] 上述Z1″在每次出现时分别独立地为氧原子或2价的有机基团。其中，以下记作Z1″22″ 23″
的结构的右侧键合于(SiR q1″R r1″)。

[0284] 在优选的方式中，Z1″为2价的有机基团。

[0285] 在优选的方式中，Z1″不包括与Z1″所键合的Si原子形成硅氧烷键的情况。优选在式1″
(S3)中(Si－Z －Si)不含硅氧烷键。

[0286] 上述Z1″优选为C1－6亚烷基、－(CH2)z1″－O－(CH2)z2″－(式中，z1”为0～6的整数、例如为1～6的整数，z2”为0～6的整数、例如为1～6的整数)或－(CH2)z3″－亚苯基－(CH2)z4″－(式中，z3”为0～6的整数、例如为1～6的整数，z4”为0～6的整数、例如为1～6的整数)。该C1－6亚烷基可以为直链，也可以为支链，优选为直链。这些基团例如可以被选自氟原子、C1－6烷基、C2－6烯基和C2－6炔基中的1个或1个以上的取代基取代，但优选非取代。

[0287] 在优选的方式中，Z1″为C1－6亚烷基或－(CH2)z3″－亚苯基－(CH2)z4″－，优选为－亚1″
苯基－(CH2)z4″－。在Z 为这些基团的情况下，耐光性、尤其是耐紫外线性进一步提高。

[0288] 在另一优选的方式中，上述Z1″为C1－3亚烷基。在一个方式中，Z1″可以为－1″
CH2CH2CH2－。在另一方式中，Z 可以为－CH2CH2－。

[0289] 上述R22″在每次出现时分别独立地为羟基或水解性基团。

[0290] 上述R22″优选在每次出现时分别独立地为水解性基团。

[0291] 上述R22″优选在每次出现时分别独立地为－ORj、－OCORj、－O－N＝CRj2、－NRj2、－j j jNHR 、－NCO或卤素(这些式中，R 表示取代或非取代的C1－4烷基)，更优选为－OR (即烷氧j
基)。作为R ，可以列举：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基等的非取代烷基；氯甲基等的取代烷基。这些之中，优选烷基，特别优选非取代烷基，更优选甲基或乙基。在一个方j j
式中，R为甲基，在另一方式中，R为乙基。

[0292] 上述R23″在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团。该1价的有机基团是除上述水解性基团之外的1价的有机基团。

[0293] 在上述R23″中，1价的有机基团优选为C1－20烷基，更优选为C1－6烷基，进一步优选为甲基。

[0294] 上述q1”在每次出现时分别独立地为0～3的整数，上述r1”在每次出现时分别独立22″ 23″
地为0～3的整数。其中，q1”与r1”的合计在(SiR q1″R r1″)单元中为3。

[0295] 上述q1”在每个(SiR22″q1″R23″r1″)单元中分别独立地优选为1～3的整数，更优选为2～3，进一步优选为3。

[0296] 上述R22′在每次出现时分别独立地为羟基或水解性基团。

[0297] R22′优选在每次出现时分别独立地为水解性基团。

[0298] R22′优选在每次出现时分别独立地为－ORj、－OCORj、－O－N＝CRj2、－NRj2、－j j jNHR 、－NCO或卤素(这些式中，R 表示取代或非取代的C1－4烷基)，更优选为－OR (即烷氧j
基)。作为R ，可以列举：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基等的非取代烷基；氯甲基等的取代烷基。这些之中，优选烷基，特别优选非取代烷基，更优选甲基或乙基。在一个方j j
式中，R为甲基，在另一方式中，R为乙基。

[0299] 上述R23′在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团。该1价的有机基团是除上述水解性基团之外的1价的有机基团。

[0300] 在R23′中，1价的有机基团优选为C1－20烷基，更优选为C1－6烷基，进一步优选为甲基。

[0301] 上述p1′在每次出现时分别独立地为0～3的整数，q1′在每次出现时分别独立地为0～3的整数，r1′在每次出现时分别独立地为0～3的整数。其中，p'、q1'和r1'的合计在
21′ 22′ 23′
(SiR p1′R q1′R r1′)单元中为3。

[0302] 在一个方式中，p1′为0。

[0303] 在一个方式中，p1'在每个(SiR21′p1′R22′q1′R23′r1′)单元中分别独立地为1～3的整数、2～3的整数或3。在优选的方式中，p1'为3。

[0304] 在一个方式中，q1′在每个(SiR21′p1′R22′q1′R23′r1′)单元中分别独立地为1～3的整数，优选为2～3的整数，更优选为3。

[0305] 在一个方式中，p1′为0，q1′在每个(SiR21′p1′R22′q1′R23′r1′)单元中分别独立地为1～3的整数，优选为2～3的整数，更优选为3。

[0306] 上述R22在每次出现时分别独立地为羟基或水解性基团。

[0307] R22优选在每次出现时分别独立地为水解性基团。

[0308] R22优选在每次出现时分别独立地为－ORj、－OCORj、－O－N＝CRj2、－NRj2、－j j jNHR 、－NCO或卤素(这些式中，R 表示取代或非取代的C1－4烷基)，更优选为－OR (即烷氧j
基)。作为R ，可以列举：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基等的非取代烷基；氯甲基等的取代烷基。这些之中，优选烷基，特别优选非取代烷基，更优选甲基或乙基。在一个方j j
式中，R为甲基，在另一方式中，R为乙基。

[0309] 上述R23在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团。该1价的有机基团是除上述水解性基团之外的1价的有机基团。

[0310] 在R23中，1价的有机基团优选为C1－20烷基，更优选为C1－6烷基，进一步优选为甲基。

[0311] 上述p1在每次出现时分别独立地为0～3的整数，q1在每次出现时分别独立地为0～3的整数，r1在每次出现时分别独立地为0～3的整数。其中，p1、q1和r1的合计在21 22 23
(SiR p1R q1R r1)单元中为3。

[0312] 在一个方式中，p1为0。

[0313] 在一个方式中，p1在每个(SiR21p1R22q1R23r1)单元中分别独立地为1～3的整数、2～3的整数或3。在优选的方式中，p1为3。

[0314] 在一个方式中，q1在每个(SiR21p1R22q1R23r1)单元中分别独立地为1～3的整数，优选为2～3的整数，更优选为3。

[0315] 在一个方式中，p1为0，q1在每个(SiR21p1R22q1R23r1)单元中分别独立地为1～3的整数，优选为2～3的整数，更优选为3。

[0316] 在上述式中，Rb1在每次出现时分别独立地为羟基或水解性基团。

[0317] 上述Rb1优选在每次出现时分别独立地为水解性基团。

[0318] 上述Rb1优选在每次出现时分别独立地为－ORj、－OCORj、－O－N＝CRj2、－NRj2、－j j jNHR 、－NCO或卤素(这些式中，R 表示取代或非取代的C1－4烷基)，更优选为－OR (即烷氧j
基)。作为R ，可以列举：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基等的非取代烷基；氯甲基等的取代烷基。这些之中，优选烷基，特别优选非取代烷基，更优选甲基或乙基。在一个方j j
式中，R为甲基，在另一方式中，R为乙基。

[0319] 在上述式中，Rc1在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团。该1价的有机基团是除上述水解性基团之外的1价的有机基团。

[0320] 在上述Rc1中，1价的有机基团优选为C1－20烷基，更优选为C1－6烷基，进一步优选为甲基。

[0321] 上述k1在每次出现时分别独立地为0～3的整数，l1在每次出现时分别独立地为0～3的整数，m1在每次出现时分别独立地为0～3的整数。其中，k1，l1和m1的合计在a1 b1 c1
(SiR k1R l1R m1)单元中为3。

[0322] 在一个方式中，k1在每个(SiRa1k1Rb1l1Rc1m1)单元中分别独立地为1～3的整数，优选为2或3，更优选为3。在优选的方式中，k1为3。

[0323] 在上述式(1)和(2)中，在RSi为式(S3)所示的基团的情况下，优选在式(1)和式(2)的末端部分存在至少2个键合有羟基或水解性基团的Si原子。

[0324] 在优选的方式中，式(S3)所示的基团具有－Z1－SiR22q1R23r1(式中，q1为1～3的整1′ 22′ 23′
数、优选为2或3、更优选为3，r1为0～2的整数)、－Z －SiR q1′R r1′(式中，q1′为1～3的整
1″ 22″ 23″
数、优选为2或3、更优选为3，r1′为0～2的整数)或－Z －SiR q1″R r1″(式中，q1″为1～3的
1 1′ 1″ 22 23 22′
整数、优选为2或3、更优选为3，r1″为0～2的整数)中的任意一个。Z、Z 、Z 、R 、R 、R 、
23′ 22″ 23″
R 、R 和R 的含义同上。

[0325] 在优选的方式中，在式(S3)中存在R21′的情况下，在至少1个、优选在全部的R21′中，q1″为1～3的整数，优选为2或3，更优选为3。

[0326] 在优选的方式中，在式(S3)中存在R21的情况下，在至少1个、优选在全部的R21中，p1′为0，q1′为1～3的整数，优选为2或3，更优选为3。

[0327] 在优选的方式中，在式(S3)中存在Ra1的情况下，在至少1个、优选在全部的Ra1中，p1为0，q1为1～3的整数，优选为2或3，更优选为3。

[0328] 在优选的方式中，在式(S3)中k1为2或3，优选为3，p1为0，q1为2或3，优选为3。

[0329] Rd1在每次出现时分别独立地为－Z2－CR31p2R32q2R33r2。

[0330] Z2在每次出现时分别独立地为单键、氧原子或2价的有机基团。其中，以下记作Z2的31 32 33
结构的右侧键合于(CR p2R q2R r2)。

[0331] 在优选的方式中，Z2为2价的有机基团。

[0332] 上述Z2优选为C1－6亚烷基、－(CH2)z5－O－(CH2)z6－(式中，z5为0～6的整数、例如为1～6的整数，z6为0～6的整数、例如为1～6的整数)或－(CH2)z7－亚苯基－(CH2)z8－(式中，z7为0～6的整数、例如为1～6的整数，z8为0～6的整数、例如为1～6的整数)。该C1－6亚烷基可以为直链，也可以为支链，优选为直链。这些基团例如可以被选自氟原子、C1－6烷基、C2－6烯基和C2－6炔基中的1个或1个以上的取代基取代，但优选非取代。

[0333] 在优选的方式中，Z2为C1－6亚烷基或－(CH2)z7－亚苯基－(CH2)z8－，优选为－亚苯2
基－(CH2)z8－。在Z为这些基团的情况下，耐光性、尤其是耐紫外线性进一步提高。

[0334] 在另一优选的方式中，上述Z2为C1－3亚烷基。在一个方式中，Z2可以为－2
CH2CH2CH2－。在另一方式中，Z可以为－CH2CH2－。

[0335] R31在每次出现时分别独立地为－Z2′－CR32′q2′R33′r2′。

[0336] Z2′在每次出现时分别独立地为单键、氧原子或2价的有机基团。其中，以下记作Z2′32′ 33′
的结构的右侧键合于(CR q2′R r2′)。

[0337] 上述Z2′优选为C1－6亚烷基、－(CH2)z5′－O－(CH2)z6′－(式中，z5′为0～6的整数、例如为1～6的整数，z6′为0～6的整数、例如为1～6的整数)或－(CH2)z7′－亚苯基－(CH2)z8′－(式中，z7′为0～6的整数、例如为1～6的整数，z8′为0～6的整数、例如为1～6的整数)。该C1－6亚烷基可以为直链，也可以为支链，优选为直链。这些基团例如可以被选自氟原子、C1－6烷基、C2－6烯基和C2－6炔基中的1个或1个以上的取代基取代，但优选非取代。

[0338] 在优选的方式中，Z2′为C1－6亚烷基或－(CH2)z7′－亚苯基－(CH2)z8′－，优选为－亚2′
苯基－(CH2)z8′－。在Z 为这些基团的情况下，耐光性、尤其是耐紫外线性进一步提高。

[0339] 在另一优选的方式中，上述Z2′为C1－3亚烷基。在一个方式中，Z2′可以为－2′
CH2CH2CH2－。在另一方式中，Z 可以为－CH2CH2－。

[0340] 上述R32′在每次出现时分别独立地为－Z3－SiR34n2R353－n2。

[0341] 上述Z3在每次出现时分别独立地为单键、氧原子或2价的有机基团。其中，以下记3 34 35
作Z的结构的右侧键合于(SiR n2R 3－n2)。

[0342] 在一个方式中，Z3为氧原子。

[0343] 在一个方式中，Z3为2价的有机基团。

[0344] 上述Z3优选为C1－6亚烷基，－(CH2)z5″－O－(CH2)z6″－(式中，z5″为0～6的整数、例如为1～6的整数，z6″为0～6的整数、例如为1～6的整数)或－(CH2)z7″－亚苯基－(CH2)z8″－(式中，z7″为0～6的整数、例如为1～6的整数，z8″为0～6的整数、例如为1～6的整数)。该C1－6亚烷基可以为直链，也可以为支链，优选为直链。这些基团例如可以被选自氟原子、C1－6烷基、C2－6烯基和C2－6炔基中的1个或1个以上的取代基取代，但优选非取代。

[0345] 在优选的方式中，Z3为C1－6亚烷基或－(CH2)z7″－亚苯基－(CH2)z8″－，优选为－亚3
苯基－(CH2)z8″－。在Z为这些基团的情况下，耐光性、尤其是耐紫外线性进一步提高。

[0346] 在另一优选的方式中，上述Z3为C1－3亚烷基。在一个方式中，Z3可以为－3
CH2CH2CH2－。在另一方式中，Z可以为－CH2CH2－。

[0347] 上述R34在每次出现时分别独立地为羟基或水解性基团。

[0348] R34优选在每次出现时分别独立地为水解性基团。

[0349] R34优选在每次出现时分别独立地为－ORj、－OCORj、－O－N＝CRj2、－NRj2、－j j jNHR 、－NCO或卤素(这些式中，R 表示取代或非取代的C1－4烷基)，更优选为－OR (即烷氧j
基)。作为R ，可以列举：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基等的非取代烷基；氯甲基等的取代烷基。这些之中，优选烷基，特别优选非取代烷基，更优选甲基或乙基。在一个方j j
式中，R为甲基，在另一方式中，R为乙基。

[0350] 上述R35在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团。该1价的有机基团是除上述水解性基团之外的1价的有机基团。

[0351] 在上述R35中，1价的有机基团优选为C1－20烷基，更优选为C1－6烷基，进一步优选为甲基。

[0352] 在上述式中，n2在每个(SiR34n2R353－n2)单元中分别独立地为0～3的整数。其中，在SiR 为式(S4)所示的基团的情况下，在式(1)和式(2)的末端部分存在至少1个n2为1～3的
34 35
(SiR n2R 3－n2)单元。即，在该末端部分，所有的n2不同时为0。换言之，在式(1)和式(2)的末端部分，存在至少1个键合有羟基或水解性基团的Si原子。

[0353] n2在每个(SiR34n2R353－n2)单元中分别独立地优选为1～3的整数，更优选为2～3，进一步优选为3。

[0354] 上述R33′在每次出现时分别独立地为氢原子、羟基或1价的有机基团。该1价的有机基团是除上述水解性基团之外的1价的有机基团。

[0355] 在上述R33′中，1价的有机基团优选为C1－20烷基或－(CsH2s)t1－(O－CsH2s)t2(式中，s为1～6的整数、优选为2～4的整数，t1为1或0、优选为0，t2为1～20的整数、优选为2～10的整数、更优选为2～6的整数)，更优选为C1－20烷基，进一步优选为C1－6烷基，特别优选为甲基。

[0356] 在一个方式中，R33′为羟基。

[0357] 在另一方式中，R33′为1价的有机基团，优选为C1－20烷基，更优选为C1－6烷基。

[0358] 上述q2′在每次出现时分别独立地为0～3的整数，上述r2′在每次出现时分别独立32′ 33′
地为0～3的整数。其中，q2′与r2′的合计在(CR q2′R r2′)单元中为3。

[0359] q2′在每个(CR32′q2′R33′r2′)单元中分别独立地优选为1～3的整数，更优选为2～3，进一步优选为3。

[0360] R32在每次出现时分别独立地为－Z3－SiR34n2R353－n2。该－Z3－SiR34n2R353－n2的含义32′
与上述R 中的记载相同。

[0361] 上述R33在每次出现时分别独立地为氢原子、羟基或1价的有机基团。该1价的有机基团是除上述水解性基团之外的1价的有机基团。

[0362] 在上述R33中，1价的有机基团优选为C1－20烷基或－(CsH2s)t1－(O－CsH2s)t2(式中，s为1～6的整数、优选为2～4的整数，t1为1或0、优选为0，t2为1～20的整数、优选为2～10的整数、更优选为2～6的整数)，更优选为C1－20烷基，进一步优选为C1－6烷基，特别优选为甲基。

[0363] 在一个方式中，R33为羟基。

[0364] 在另一方式中，R33为1价的有机基团，优选为C1－20烷基，更优选为C1－6烷基。

[0365] 上述p2在每次出现时分别独立地为0～3的整数，q2在每次出现时分别独立地为0～3的整数，r2在每次出现时分别独立地为0～3的整数。其中，p2、q2和r2的合计在31 32 33
(CR p2R q2R r2)单元中为3。

[0366] 在一个方式中，p2为0。

[0367] 在一个方式中，p2在每个(CR31p2R32q2R33r2)单元中分别独立地为1～3的整数、2～3的整数或3。在优选的方式中，p2为3。

[0368] 在一个方式中，q2在每个(CR31p2R32q2R33r2)单元中分别独立地为1～3的整数，优选为2～3的整数，更优选为3。

[0369] 在一个方式中，p2为0，q2在每个(CR31p2R32q2R33r2)单元中分别独立地为1～3的整数，优选为2～3的整数，更优选为3。

[0370] 上述Re1在每次出现时分别独立地为－Z3－SiR34n2R353－n2。该－Z3－SiR34n2R353－n2的32′
含义与上述R 中的记载相同。

[0371] 上述Rf1在每次出现时分别独立地为氢原子、羟基或1价的有机基团。该1价的有机基团是除上述水解性基团之外的1价的有机基团。

[0372] 在上述Rf1中，1价的有机基团优选为C1－20烷基或－(CsH2s)t1－(O－CsH2s)t2(式中，s为1～6的整数、优选为2～4的整数，t1为1或0、优选为0，t2为1～20的整数、优选为2～10的整数、更优选为2～6的整数)，更优选为C1－20烷基，进一步优选为C1－6烷基，特别优选为甲基。

[0373] 在一个方式中，Rf1为羟基。

[0374] 在另一方式中，Rf1为1价的有机基团，优选为C1－20烷基，更优选为C1－6烷基。

[0375] 上述k2在每次出现时分别独立地为0～3的整数，l2在每次出现时分别独立地为0～3的整数，m2在每次出现时分别独立地为0～3的整数。其中，k2、l2和m2的合计在d1 e1 f1
(CR k2R l2R m2)单元中为3。

[0376] 在上述式(1)和(2)中，在RSi为式(S4)所示的基团的情况下，优选在式(1)和式(2)的末端部分存在至少2个键合有羟基或水解性基团的Si原子。

[0377] 在一个方式中，在RSi为式(S4)所示的基团的情况下，n2为1～3、优选为2或3、更优34 35
选为3的(SiR n2R 3－n2)单元在式(1)和式(2)的各末端部分存在2个以上，例如存在2～27个、优选存在2～9个、更优选存在2～6个、进一步优选存在2～3个、特别优选存在3个。

[0378] 在优选的方式中，在式(S4)中存在R32′的情况下，在至少1个、优选在全部的R32′中n2为1～3的整数，优选为2或3，更优选为3。

[0379] 在优选的方式中，在式(S4)中存在R32的情况下，在至少1个、优选在全部的R32中n2为1～3的整数，优选为2或3，更优选为3。

[0380] 在优选的方式中，在式(S4)中存在Re1的情况下，在至少1个、优选在全部的Ra1中n2为1～3的整数，优选为2或3，更优选为3。

[0381] 在优选的方式中，在式(S4)中，k2为0，l2为2或3、优选为3，n2为2或3、优选为3。

[0382] 上述Rg1和Rh1在每次出现时分别独立地为－Z4－SiR11n1R123－n1、－Z4－a1 b1 c1 4 d1 e1 f1 11 12 a1 b2 c1 d1 e1 f1
SiR k1R l1R m1、－Z－CR k2R l2R m2。这里，R 、R 、R 、R 、R 、R 、R 、R 、n1、k1、l1、m1、k2、l2和m2的含义同上。

[0383] 在优选的方式中，Rg1和Rh1分别独立地为－Z4－SiR11n1R123－n1。

[0384] 上述Z4在每次出现时分别独立地为单键、氧原子或2价的有机基团。其中，以下记4 11 12
作Z的结构的右侧键合于(SiR n1R 3－n1)。

[0385] 在一个方式中，Z4为氧原子。

[0386] 在一个方式中，Z4为2价的有机基团。

[0387] 上述Z4优选为C1－6亚烷基，－(CH2)z5″－O－(CH2)z6″－(式中，z5″为0～6的整数、例如为1～6的整数，z6″为0～6的整数、例如为1～6的整数)或－(CH2)z7″－亚苯基－(CH2)z8″－(式中，z7″为0～6的整数、例如为1～6的整数，z8″为0～6的整数、例如为1～6的整数)。该C1－6亚烷基可以为直链，也可以为支链，优选为直链。这些基团例如可以被选自氟原子、C1－6烷基、C2－6烯基和C2－6炔基中的1个或1个以上的取代基取代，但优选非取代。

[0388] 在优选的方式中，Z4为C1－6亚烷基或－(CH2)z7″－亚苯基－(CH2)z8″－，优选为－亚3
苯基－(CH2)z8″－。在Z为这些基团的情况下，耐光性、尤其是耐紫外线性进一步提高。

[0389] 在另一优选的方式中，上述Z4为C1－3亚烷基。在一个方式中，Z4可以为－4
CH2CH2CH2－。在另一方式中，Z可以为－CH2CH2－。

[0390] 在一个方式中，RSi为式(S2)、(S3)、(S4)或(S5)所示的基团。这些化合物能够形成具有高表面滑动性的表面处理层。

[0391] 在一个方式中，RSi为式(S1)、(S3)、(S4)或(S5)所示的基团。这些化合物由于在一个末端具有多个水解性基团，所以能够强力地与基材密合，能够形成具有高磨损耐久性的表面处理层。

[0392] 在一个方式中，RSi为式(S1)、(S3)或(S4)所示的基团。这些化合物由于在一个末端具有多个水解性基团，所以能够强力地与基材密合，能够形成具有高磨损耐久性的表面处理层。

[0393] 在一个方式中，RSi为式(S3)或(S4)所示的基团。这些化合物由于在一个末端具有从一个Si原子或C原子分支出来的多个水解性基团，所以能够形成具有更高的磨损耐久性的表面处理层。

[0394] 在一个方式中，RSi为式(S1)所示的基团。

[0395] 在一个方式中，RSi为式(S2)所示的基团。

[0396] 在一个方式中，RSi为式(S3)所示的基团。

[0397] 在一个方式中，RSi为式(S4)所示的基团。

[0398] 在一个方式中，RSi为式(S5)所示的基团。

[0399] 在上述式(1)和(2)中，XA可以被理解为将主要提供拨水性和表面滑动性等的氟代F1 F2 Si聚醚部(R 和R )和提供与基材的结合能的部位(R )连结的连接部。因此，只要式(1)和(2)A
所示的化合物能够稳定存在，该X可以为单键，也可以为任意的基团。

[0400] 在上述式(1)中，α为1～9的整数，β为1～9的整数。这些α和β可以根据XA的价数而A A变化。α与β之和等于X的价数。例如在X为10价的有机基团的情况下，α与β之和为10，例如可A
以α为9且β为1、α为5且β为5、或者α为1且β为9。另外，在X为2价的有机基团的情况下，α和β为1。

[0401] 在上述式(2)中，γ为1～9的整数。γ可以根据XA的价数而变化。即，γ是XA的价数减去1后的值。

[0402] XA分别独立地为单键或2～10价的有机基团。

[0403] 在一个方式中，XA不含硅氧烷键(－Si－O－Si－)。

[0404] 上述XA中的2～10价的有机基团优选为2～8价的有机基团。在一个方式中，该2～10价的有机基团优选为2～4价的有机基团，更优选为2价的有机基团。在另一方式中，该2～
10价的有机基团优选为3～8价的有机基团，更优选为3～6价的有机基团。

[0405] 在一个方式中，XA为单键或2价的有机基团，α为1，β为1。

[0406] 在一个方式中，XA为单键或2价的有机基团，γ为1。

[0407] 在一个方式中，XA为3～6价的有机基团，α为1，β为2～5。

[0408] 在一个方式中，XA为3～6价的有机基团，γ为2～5。

[0409] 在一个方式中，XA为3价的有机基团，α为1，β为2。

[0410] 在一个方式中，XA为3价的有机基团，γ为2。

[0411] 在XA为单键或2价的有机基团的情况下，式(1)和式(2)由以下式(1′)和式(2′)表示。

[0412] RF1‑XA‑RSi                   (1')

[0413] RSi‑XA‑RF2‑XA‑RSi          (2')

[0414] 在一个方式中，XA为单键。

[0415] 在另一方式中，XA为2价的有机基团。

[0416] 在一个方式中，作为XA，例如为单键或以下式所示的2价的有机基团。

[0417] －(R51)p5－(X51)q5－

[0418] [式中：

[0419] R51表示单键、－(CH2)s5－或者邻亚苯基、间亚苯基或对亚苯基，优选为－(CH2)s5－，

[0420] s5为1～20的整数，优选为1～6的整数，更优选为1～3的整数，进一步优选为1或2，[0421] X51表示－(X52)l5－，

[0422] X52在每次出现时分别独立地表示选自－O－、－S－、邻亚苯基、间亚苯基或对亚苯53 53 53 54 54
基、－C(O)O－、－Si(R )2－、－(Si(R )2O)m5－Si(R )2－、－CONR －、－O－CONR －、－
54
NR －和－(CH2)n5－的基团，

[0423] R53在每次出现时分别独立地表示苯基、C1－6烷基或C1－6烷氧基，优选为苯基或C1－6烷基，更优选为甲基，

[0424] R54在每次出现时分别独立地表示氢原子、苯基或C1－6烷基(优选甲基)，

[0425] m5在每次出现时分别独立地为1～100的整数，优选为1～20的整数，

[0426] n5在每次出现时分别独立地为1～20的整数，优选为1～6的整数，更优选为1～3的整数，

[0427] l5为1～10的整数，优选为1～5的整数，更优选为1～3的整数，

[0428] p5为0或1，

[0429] q5为0或1，

[0430] 这里，p5和q5中的至少一方为1，标注p5或q5并用括号括起来的各重复单元的存在顺序是任意的]。

[0431] 这里，XA(典型地是XA的氢原子)可以被选自氟原子、C1－3烷基和C1－3氟代烷基中的1A个或1个以上的取代基取代。在优选的方式中，X不被这些基团取代。

[0432] 在优选的方式中，上述XA分别独立地为－(R51)p5－(X51)q5－R52－。R52表示单键、－(CH2)t5－或者邻亚苯基、间亚苯基或对亚苯基，优选为－(CH2)t5－。t5为1～20的整数，优选52 52
为2～6的整数，更优选为2～3的整数。这里，R (典型地是R 的氢原子)可以被选自氟原子、
56
C1－3烷基和C1－3氟代烷基中的1个或1个以上的取代基取代。在优选的方式中，R 不被这些基团取代。

[0433] 优选上述XA分别独立地为：

[0434] 单键、

[0435] C1－20亚烷基、

[0436] －R51－X53－R52－、或

[0437] －X54－R5－

[0438] [式中，R51和R52的含义同上，

[0439] X53表示：

[0440] －O－、

[0441] －S－、

[0442] －C(O)O－、

[0443] －CONR54－、

[0444] －O－CONR54－、

[0445] －Si(R53)2－、

[0446] －(Si(R53)2O)m5－Si(R53)2－、

[0447] －O－(CH2)u5－(Si(R53)2O)m5－Si(R53)2－、

[0448] －O－(CH2)u5－Si(R53)2－O－Si(R53)2－CH2CH2－Si(R53)2－O－Si(R53)2－、[0449] －O－(CH2)u5－Si(OCH3)2OSi(OCH3)2－、

[0450] －CONR54－(CH2)u5－(Si(R53)2O)m5－Si(R53)2－、

[0451] －CONR54－(CH2)u5－N(R54)－、或

[0452] －CONR54－(邻亚苯基、间亚苯基或对亚苯基)－Si(R53)2－

[0453] (式中，R53、R54和m5的含义同上，

[0454] u5为1～20的整数，优选为2～6的整数，更优选为2～3的整数)，X54表示：

[0455] －S－、

[0456] －C(O)O－、

[0457] －CONR54－、

[0458] －O－CONR54－、

[0459] －CONR54－(CH2)u5－(Si(R54)2O)m5－Si(R54)2－、

[0460] －CONR54－(CH2)u5－N(R54)－、或

[0461] －CONR54－(邻亚苯基、间亚苯基或对亚苯基)－Si(R54)2－

[0462] (式中，各符号的含义同上)]。

[0463] 更优选上述XA分别独立地为：

[0464] 单键、

[0465] C1－20亚烷基、

[0466] －(CH2)s5－X53－、

[0467] －(CH2)s5－X53－(CH2)t5－

[0468] －X54－、或

[0469] －X54－(CH2)t5－

[0470] [式中，X53、X54、s5和t5的含义同上]。

[0471] 更优选上述XA分别独立地为：

[0472] 单键、

[0473] C1－20亚烷基、

[0474] －(CH2)s5－X53－(CH2)t5－、或

[0475] －X54－(CH2)t5－

[0476] [式中，各符号的含义同上]。

[0477] 在优选的方式中，上述XA分别独立地为：

[0478] 单键、

[0479] C1－20亚烷基、

[0480] －(CH2)s5－X53－、或

[0481] －(CH2)s5－X53－(CH2)t5－

[0482] [式中，

[0483] X53为－O－、－CONR54－、或－O－CONR54－，

[0484] R54在每次出现时分别独立地表示氢原子、苯基或C1－6烷基，s5为1～20的整数，[0485] t5为1～20的整数]。

[0486] 在优选的方式中，上述XA分别独立地为：

[0487] －(CH2)s5－O－(CH2)t5－、

[0488] －CONR54－(CH2)t5－

[0489] [式中，

[0490] R54在每次出现时分别独立地表示氢原子、苯基或C1－6烷基，

[0491] s5为1～20的整数，

[0492] t5为1～20的整数]。

[0493] 在一个方式中，上述XA分别独立地为：

[0494] 单键、

[0495] C1－20亚烷基、

[0496] －(CH2)s5－O－(CH2)t5－、

[0497] －(CH2)s5－(Si(R53)2O)m5－Si(R53)2－(CH2)t5－、

[0498] －(CH2)s5－O－(CH2)u5－(Si(R53)2O)m5－Si(R53)2－(CH2)t5－、或

[0499] －(CH2)s5－O－(CH2)t5－Si(R53)2－(CH2)u5－Si(R53)2－(CvH2v)－

[0500] [式中，R53、m5、s5、t5和u5的含义同上，v5为1～20的整数，优选为2～6的整数，更优选为2～3的整数]。

[0501] 在上述式中，－(CvH2v)－可以为直链，也可以为支链，例如可以为－CH2CH2－、－CH2CH2CH2－、－CH(CH3)－、－CH(CH3)CH2－。

[0502] 上述XA可以分别独立地被选自氟原子、C1－3烷基和C1－3氟代烷基(优选C1－3全氟烷A基)中的1个或1个以上的取代基取代。在一个方式中，X为非取代。

[0503] 其中，上述XA的各式的左侧键合于RF1或RF2、右侧键合于RSi。

[0504] 在一个方式中，XA可以分别独立地为－O－C1－6亚烷基以外的基团。

[0505] 在另一方式中，作为XA，例如可以列举下列基团：

[0506]

[0507]

[0508] [式中，R41分别独立地为氢原子、苯基、碳原子数1～6的烷基或C1－6烷氧基，优选为甲基，

[0509] D选自下列基团：

[0510] －CH2O(CH2)2－、

[0511] －CH2O(CH2)3－、

[0512] －CF2O(CH2)3－、

[0513] －(CH2)2－、

[0514] －(CH2)3－、

[0515] －(CH2)4－、

[0516] －CONH－(CH2)3－、

[0517] －CON(CH3)－(CH2)3－、

[0518] －CON(Ph)－(CH2)3－(式中Ph表示苯基)、和

[0519]

[0520] (式中，R42分别独立地表示氢原子、C1－6的烷基或C1－6的烷氧基，优选表示甲基或甲氧基，更优选表示甲基。)

[0521] E为－(CH2)n－(n为2～6的整数)，

[0522] D键合于分子主链的RF1或RF2，E键合于RSi。]

[0523] 作为上述XA的具体例，例如可以列举：

[0524] 单键、

[0525] －CH2OCH2－、

[0526] －CH2O(CH2)2－、

[0527] －CH2O(CH2)3－、

[0528] －CH2O(CH2)4－、

[0529] －CH2O(CH2)5－、

[0530] －CH2O(CH2)6－、

[0531] －CH2O(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2－、

[0532] －CH2O(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2‑、

[0533] －CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)2Si(CH3)2(CH2)2‑、

[0534] －CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)3Si(CH3)2(CH2)2‑、

[0535] －CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)10Si(CH3)2(CH2)2‑、

[0536] －CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)20Si(CH3)2(CH2)2‑、

[0537] －CH2OCF2CHFOCF2－、

[0538] －CH2OCF2CHFOCF2CF2－、

[0539] －CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2－、

[0540] －CH2OCH2CF2CF2OCF2－、

[0541] －CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2－、

[0542] －CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2CF2－、

[0543] －CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2－、

[0544] －CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2－、

[0545] －CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2CF2－、

[0546] －CH2OCH2CHFCF2OCF2－、

[0547] －CH2OCH2CHFCF2OCF2CF2－、

[0548] －CH2OCH2CHFCF2OCF2CF2CF2－、

[0549] －CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2－、

[0550] －CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2－、

[0551] －CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2CF2－、

[0552] －CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2－C(O)NH－CH2－、

[0553] －CH2OCH2(CH2)7CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2－、[0554] －CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)3－、

[0555] －CH2OCH2CH2CH2Si(OCH2CH3)2OSi(OCH2CH3)2(CH2)3‑、

[0556] －CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2－、

[0557] －CH2OCH2CH2CH2Si(OCH2CH3)2OSi(OCH2CH3)2(CH2)2‑、

[0558] －(CH2)2－Si(CH3)2－(CH2)2－、

[0559] －CH2－、

[0560] －(CH2)2－、

[0561] －(CH2)3－、

[0562] －(CH2)4－、

[0563] －(CH2)5－、

[0564] －(CH2)6－、

[0565] －CO－、

[0566] －CONH－、

[0567] －CONH－CH2－、

[0568] －CONH－(CH2)2－、

[0569] －CONH－(CH2)3－、

[0570] －CONH－(CH2)4－、

[0571] －CONH－(CH2)5－、

[0572] －CONH－(CH2)6－、

[0573] －CON(CH3)－CH2－、

[0574] －CON(CH3)－(CH2)2－、

[0575] －CON(CH3)－(CH2)3－、

[0576] －CON(CH3)－(CH2)4－、

[0577] －CON(CH3)－(CH2)5－、

[0578] －CON(CH3)－(CH2)6－、

[0579] －CON(Ph)－CH2－(式中Ph表示苯基)、

[0580] －CON(Ph)－(CH2)2－(式中Ph表示苯基)、

[0581] －CON(Ph)－(CH2)3－(式中Ph表示苯基)、

[0582] －CON(Ph)－(CH2)4－(式中Ph表示苯基)、

[0583] －CON(Ph)－(CH2)5－(式中Ph表示苯基)、

[0584] －CON(Ph)－(CH2)6－(式中Ph表示苯基)、

[0585] －CONH－(CH2)2NH(CH2)3－、

[0586] －CONH－(CH2)6NH(CH2)3－、

[0587] －CH2O－CONH－(CH2)3－、

[0588] －CH2O－CONH－(CH2)6－、

[0589] －S－(CH2)3－、

[0590] －(CH2)2S(CH2)3－、

[0591] －CONH－(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2－、

[0592] －CONH－(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2‑、

[0593] －CONH－(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)2Si(CH3)2(CH2)2‑、

[0594] －CONH－(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)3Si(CH3)2(CH2)2‑、

[0595] －CONH－(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)10Si(CH3)2(CH2)2－、

[0596] －CONH－(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)20Si(CH3)2(CH2)2－、

[0597] －C(O)O－(CH2)3－、

[0598] －C(O)O－(CH2)6－、

[0599] －CH2－O－(CH2)3－Si(CH3)2－(CH2)2－Si(CH3)2－(CH2)2‑、

[0600] －CH2－O－(CH2)3－Si(CH3)2－(CH2)2－Si(CH3)2－CH(CH3)－、

[0601] －CH2－O－(CH2)3－Si(CH3)2－(CH2)2－Si(CH3)2－(CH2)3‑、

[0602] －CH2－O－(CH2)3－Si(CH3)2－(CH2)2－Si(CH3)2－CH(CH3)－CH2－、

[0603] －OCH2－、

[0604] －O(CH2)3－、

[0605] －OCFHCF2－、

[0606] 等。

[0607] 在又一方式中，XA分别独立地为式：－(R16)x1－(CFR17)y1－(CH2)z1－所示的基团。式中，x1、y1和z1分别独立地为0～10的整数，x1、y1和z1之和为1以上，用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。

[0608] 在上述式中，R16在每次出现时分别独立地为氧原子、亚苯基、亚咔唑基、－NR18－18 18
(式中R 表示氢原子或有机基团)或2价的有机基团。优选R 为氧原子或2价的极性基团。

[0609] 作为上述“2价的极性基团”，没有特别限定，可以列举－C(O)－、－C(＝NR19)－19 19
和－C(O)NR －(这些式中，R 表示氢原子或低级烷基)。该“低级烷基”例如为碳原子数1～
6的烷基，例如甲基、乙基、正丙基，它们可以被1个或1个以上的氟原子取代。

[0610] 在上述式中，R17在每次出现时分别独立地为氢原子、氟原子或低级氟代烷基，优选为氟原子。该“低级氟代烷基”例如为碳原子数1～6、优选碳原子数1～3的氟代烷基，优选为碳原子数1～3的全氟烷基，更优选为三氟甲基、五氟乙基，进一步优选为三氟甲基。

[0611] 在又一方式中，作为XA的例子，可以列举下列基团：

[0612]

[0613] R41分别独立地为氢原子、苯基、碳原子数1～6的烷基或C1－6烷氧基，优选为甲基；

[0614] 各XA基中，T中的任意几个为与分子主链的RF1或RF2键合的下列基团：

[0615] －CH2O(CH2)2－、

[0616] －CH2O(CH2)3－、

[0617] －CF2O(CH2)3－、

[0618] －(CH2)2－、

[0619] －(CH2)3－、

[0620] －(CH2)4－、

[0621] －CONH－(CH2)3－、

[0622] －CON(CH3)－(CH2)3－、

[0623] －CON(Ph)－(CH2)3－(式中Ph表示苯基)、或

[0624]

[0625] [式中，R42分别独立地表示氢原子、C1－6的烷基或C1－6的烷氧基，优选为甲基或甲氧基，更优选为甲基。]

[0626] 另外的几个T与分子主链的RSi键合，在存在的情况下，其余的T分别独立地为甲基、苯基、C1－6烷氧基或者自由基捕获基或紫外线吸收基。

[0627] 自由基捕获基只要是能够捕获因光照射而产生的自由基的基团就没有特别限定，可以列举例如二苯甲酮类、苯并三唑类、苯甲酸酯类、水杨酸苯酯类、巴豆酸类、丙二酸酯类、有机丙烯酸酯类、受阻胺类、受阻酚类或三嗪类的残基。

[0628] 紫外线吸收基只要是能够吸收紫外线的基团就没有特别限定，可以列举例如苯并三唑类、羟基二苯甲酮类、取代和未取代苯甲酸或水杨酸化合物的酯类、丙烯酸酯或烷氧基肉桂酸酯类、草酰胺类、草酰替苯胺类、苯并噁嗪酮类、苯并噁唑类的残基。

[0629] 在优选的方式中，作为优选的自由基捕获基或紫外线吸收基，可以列举：

[0630]

[0631] 在该方式中，XA可以分别独立地为3～10价有机基团。

[0632] 在又一方式中，作为XA的例子，可以列举以下基团：

[0633]

[0634] [式中，R25、R26和R27分别独立地为2～6价的有机基团，

[0635] R25与至少1个RF1键合，R26和R27分别与至少1个RSi键合。]

[0636] 在一个方式中，上述R25为单键、C1－20亚烷基、C3－20亚环烷基、C5－20亚芳基、－R57－58 59 58 59 57 58 57 59
X －R －、－X －R －或－R －X －。上述R 和R 分别独立地为单键、C1－20亚烷基、C3－20
58
亚环烷基或C5－20亚芳基。上述X 为－O－、－S－、－CO－、－O－CO－或－COO－。

[0637] 在一个方式中，上述R26和R27分别独立地为烃、或者在烃的端部或主链中具有选自36 37 36 36 38
N、O和S中的至少1个原子的基团，优选列举C1－6烷基、－R －R －R －、－R －CHR 2－等。
36 37
在此，R 分别独立地为单键或碳原子数1～6的烷基，优选为碳原子数1～6的烷基。R 为N、O
38 45 46 45 46 45 45 46 45
或S，优选为N或O。R 为－R －R －R －、－R －R －或－R －R －。在此，R 分别独立地
46
为碳原子数1～6的烷基。R 为N、O或S，优选为O。

[0638] 在该方式中，XA可以分别独立地为3～10价的有机基团。

[0639] 在一个方式中，式(1)或式(2)所示的含氟代聚醚基硅烷化合物不含硅氧烷键(－Si－O－Si－)。

[0640] 上述式(1)或式(2)所示的含氟代聚醚基硅烷化合物可以具有5×102～1×105的平均分子量，但没有特别限定。从磨损耐久性的观点出发，在该范围之中优选具有2,000～32,000、更优选具有2,500～12,000的平均分子量。其中，该“平均分子量”是指数均分子量，“平
19
均分子量”是通过 F－NMR测得的值。

[0641] 在一个方式中，本发明的表面处理剂中，含氟代聚醚基硅烷化合物为式(1)所示的化合物。

[0642] 在另一方式中，本发明的表面处理剂中，含氟代聚醚基硅烷化合物为式(2)所示的化合物。

[0643] 在另一方式中，本发明的表面处理剂中，含氟代聚醚基硅烷化合物为式(1)所示的化合物和式(2)所示的化合物。

[0644] 本发明的表面处理剂中，相对于式(1)所示的化合物与式(2)所示的化合物的合计，式(2)所示的化合物优选为0.1摩尔％以上35摩尔％以下。相对于式(1)所示的化合物和式(2)所示的化合物的合计，式(2)所示的化合物的含量的下限优选为0.1摩尔％，更优选为0.2摩尔％，进一步优选为0.5摩尔％，进一步更优选为1摩尔％，特别优选为2摩尔％，尤其是可以为5摩尔％。相对于式(1)所示的化合物和式(2)所示的化合物的合计，式(2)所示的化合物的含量的上限优选为35摩尔％，更优选为30摩尔％，进一步优选为20摩尔％，进一步更优选为15摩尔％或10摩尔％。相对于式(1)所示的化合物和式(2)所示的化合物的合计，式(2)所示的化合物优选为0.1摩尔％以上30摩尔％以下，更优选为0.1摩尔％以上20摩尔％以下，进一步优选为0.2摩尔％以上10摩尔％以下，进一步更优选为0.5摩尔％以上10摩尔％以下，特别优选为1摩尔％以上10摩尔％以下，例如为2摩尔％以上10摩尔％以下或5摩尔％以上10摩尔％以下。通过使式(2)所示的化合物为该范围，能够进一步提高磨损耐久性。

[0645] 上述的式(1)或(2)所示的化合物例如可以通过上述专利文献1记载的方法获得。

[0646] 相对于表面处理剂整体，上述的式(1)或(2)所示的化合物的含量优选为0.1～50.0质量％，更优选为1.0～30.0质量％，进一步优选为5.0～25.0质量％，特别优选为10.0～20.0质量％。通过使上述含氟代聚醚基硅烷化合物的含量在上述的范围，能够得到更高的拨水拨油性。

[0647] (酰胺化合物)

[0648] 上述酰胺化合物含有酰胺基，是能够提高由本发明的表面处理剂形成的表面处理层的磨损耐久性的化合物。

[0649] 在优选的方式中，上述酰胺化合物为以下式(A)所示的酰胺化合物。

[0650] NR61R62－COR63(A)

[0651] [式中：

[0652] R61为氢原子或C1－10烷基(优选C1－6烷基)；

[0653] R62为C1－10烷基(优选C1－6烷基)；

[0654] R63为氢原子、C1－10烷基(优选C1－6烷基)、NR652或－R66x－R67y－R68；

[0655] 或者R62和R63分别键合而形成－R62－R63－，该－R62－R63－为C3－4亚烷基或－C2－365
亚烷基－NR －；

[0656] R65分别独立地为氢原子或C1－10烷基(优选C1－6烷基)；

[0657] R66在每次出现时分别独立地为C1－6亚烷基；

[0658] R67为氧原子或CO；

[0659] R68为C1－10烷基(优选C1－6烷基)；

[0660] x为1～6的整数；

[0661] y为1～6的整数；

[0662] 在此，在－R66x－R67y－R68中，R66和R67各自的存在顺序是任意的。]

[0663] 在上述式(A)中，上述烷基可以为直链，也可以为支链。上述烷基优选为直链。

[0664] 在上述式(A)中，上述亚烷基可以为直链，也可以为支链。上述亚烷基优选为直链。

[0665] 上述R61为氢原子或C1－10烷基。

[0666] 在一个方式中，上述R61为氢原子。

[0667] 在另一方式中，上述R61为C1－10烷基。

[0668] 上述C1－10烷基优选为C1－6烷基，更优选为C1－3烷基，进一步优选为C1－2烷基。

[0669] 上述R62为C1－10烷基，优选为C1－6烷基，更优选为C1－3烷基，进一步优选为C1－2烷基。

[0670] 在优选的方式中，R61和R62为C1－2烷基，优选为甲基或乙基，更优选为甲基。

[0671] 上述R63为氢原子、C1－10烷基、NR652、或－R66x－R67y－R68，或者R62和R63分别键合而形62 63 62 63 65
成－R －R －，该－R －R －为C3－4亚烷基或－C2－3亚烷基－NR －。

[0672] 在一个方式中，R63为氢原子。

[0673] 在一个方式中，R63为C1－10烷基，优选为C1－6烷基，更优选为C1－4烷基，进一步优选为C1－3烷基，特别优选为甲基或乙基。

[0674] 在一个方式中，R63为NR652。

[0675] 上述R65分别独立地为氢原子或C1－10烷基，优选为C1－10烷基。C1－10烷基优选为C1－6烷基，更优选为C1－4烷基，进一步优选为C1－3烷基，特别优选为甲基。

[0676] 上述－R66x－R67y－R68中，上述R66在每次出现时分别独立地为C1－6亚烷基(优选C1－467 68
亚烷基、更优选C2－3亚烷基)，上述R 为氧原子，上述R 为C1－6烷基(优选C1－4烷基)，上述x为
66 67 68
1～6的整数(优选1～3的整数)，上述y为1～6的整数(优选1～3的整数)，－R x－R y－R
66 67 66 67 68 66
中，R 和R 的存在顺序是任意的。优选－R x－R y－R 通过R 与酰胺基的碳原子键合。

[0677] 在一个方式中，R63为－R66x－R67y－R68，优选为－R66－R67－R68。在一个方式中，R6366 68 63 66 68
为－R －O－R 。在另一方式中，R 为－R －CO－R 。

[0678] 在另一方式中，R62和R63分别键合而形成－R62－R63－，该－R62－R63－为C3－4亚烷基65 62 63
或－C2－3亚烷基－NR －。即，R 和R 各自所键合的氮原子和碳原子一起形成5元或6元环。
在优选的方式中，该5元或6元环为吡咯烷酮环或可以发生N取代的四氢嘧啶酮环。

[0679] 在优选的方式中，R61和R62为C1－2烷基，R63为－R66－O－R68，R66为C2－3亚烷基，R68为C1－4烷基。

[0680] 在另一优选的方式中，R61为C1－2烷基，R62和R63分别键合而形成－R62－R63－，该－62 63
R －R －为C3亚烷基。

[0681] 上述酰胺化合物的大气压下的沸点优选为150～300℃，更优选为180～260℃。

[0682] 相对于表面处理剂整体，上述酰胺化合物的含量为0.5～10.0质量％。本发明的表面处理剂通过含有上述含量的上述酰胺化合物，能够形成具有高磨损耐久性的表面处理层。

[0683] 在优选的方式中，相对于表面处理剂整体，上述酰胺化合物的含量优选为1.0～9.0质量％。

[0684] 在优选的方式中，在本发明的表面处理剂中，含氟代聚醚基硅烷化合物与酰胺化合物的质量比优选为1∶100～50∶1，更优选为1∶50～30∶1，进一步优选为1∶30～20∶1。

[0685] 在一个方式中，在本发明的表面处理剂中，含氟代聚醚基硅烷化合物与酰胺化合物的质量比优选为1∶1～50∶1，更优选为2∶1～40∶1，进一步优选为2∶1～10∶1，进一步更优选为2∶1～5∶1。

[0686] 本发明的表面处理剂通过含有上述含氟代聚醚基硅烷化合物，能够对表面处理层赋予拨水拨油性，通过含有上述酰胺化合物，能够对表面处理层赋予高磨损耐久性。本发明不受任何理论限制，但可以认为这是因为表面处理剂中的含氟代聚醚基硅烷化合物的缩合被酰胺化合物抑制的缘故。因此，含氟代聚醚基硅烷化合物在具有多个与水解性基团键合的Si的情况下，能够更有效地获得效果。

[0687] 本发明的表面处理剂可以含有溶剂、能够理解为含氟油的(非反应性的)氟代聚醚化合物、优选全氟(聚)醚化合物(以下统称为“含氟油”)、能够理解为硅油的(非反应性的)有机硅化合物(以下称为“硅油”)、醇类、增溶剂、催化剂、表面活性剂、阻聚剂、敏化剂等。

[0688] 作为上述溶剂，例如可以列举：己烷、环己烷、庚烷、辛烷、壬烷、癸烷、十一烷、十二烷、矿物油精等脂肪族烃类；苯、甲苯、二甲苯、萘、溶剂石脑油等芳香族烃类；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸正丁基、乙酸异丙酯、乙酸异丁酯、乙酸溶纤剂、丙二醇甲醚乙酸酯、乙酸卡必醇酯、草酸二乙酯、丙酮酸乙酯、2－羟基丁酸乙酯、乙酰乙酸乙酯、乙酸戊酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、3－甲氧基丙酸甲酯、3－甲氧基丙酸乙酯、2－羟基异丁酸甲酯、2－羟基异丁酸乙酯等酯类；丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、2－己酮、环己酮、甲基氨基酮、2－庚酮等酮类；乙基溶纤剂、甲基溶纤剂、甲基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂丁酸酯、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单丁醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯、丙二醇单丁醚乙酸酯、二丙二醇二甲醚、乙二醇单烷基醚等二醇醚类；甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、叔丁醇、仲丁醇、3－戊醇、辛醇、3－甲基－3－甲氧基丁醇、叔戊醇等醇类；乙二醇、丙二醇等二醇类；四氢呋喃、四氢吡喃、二噁烷等环状醚类；N,N－二甲基甲酰胺、N,N－二甲基乙酰胺等酰胺类；甲基溶纤剂、溶纤剂、异丙基溶纤剂、丁基溶纤剂、二乙二醇单甲醚等醚醇类；二乙二醇单乙醚乙酸酯；1,1,2－三氯－1,2,2－三氟乙烷、1,2－二氯－1,1,2,2－四氟乙烷、二甲基亚砜、1,1－二氯－1,2,2,3,3－五氟丙烷(HCFC225)、ZEORORA H、HFE7100、HFE7200、HFE7300、CF3CH2OH、CF3CF2CH2OH、(CF3)2CHOH等含氟溶剂等。或者可以列举它们的2种以上的混合溶剂等。

[0689] 作为含氟油，没有特别限定，例如可以列举以下通式(3)所示的化合物(全氟(聚)醚化合物)。

[0690] Rf5－(OC4F8)a′－(OC3F6)b′－(OC2F4)c′－(OCF2)d′－Rf6   ···(3)

[0691] 式中，Rf5表示可以被1个或1个以上的氟原子取代的碳原子数1～16烷基(优选6
C1－16的全氟烷基)，Rf表示可以被1个或1个以上的氟原子取代的碳原子数1～16烷基(优选
5 6
C1－16全氟烷基)、氟原子或氢原子，Rf和Rf更优选分别独立地为C1－3全氟烷基。

[0692] a′、b′、c′和d′分别表示构成聚合物的主骨架的全氟(聚)醚的4种重复单元数，彼此独立地为0以上300以下的整数，并且，a′、b′、c′和d′之和至少为1，优选为1～300，更优选为20～300。标注角标a'、b'、c'或d'并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。在这些重复单元中，－(OC4F8)－可以为－(OCF2CF2CF2CF2)－、－(OCF(CF3)CF2CF2)－、－(OCF2CF(CF3)CF2)－、－(OCF2CF2CF(CF3))－、－(OC(CF3)2CF2)－、－(OCF2C(CF3)2)－、－(OCF(CF3)CF(CF3))－、－(OCF(C2F5)CF2)－和(OCF2CF(C2F5))－的任意种，优选为－(OCF2CF2CF2CF2)－。－(OC3F6)－可以为－(OCF2CF2CF2)－、－(OCF(CF3)CF2)－和(OCF2CF(CF3))－的任意种，优选为－(OCF2CF2CF2)－。－(OC2F4)－可以为－(OCF2CF2)－和(OCF(CF3))－的任意种，优选为－(OCF2CF2)‑。

[0693] 作为上述通式(3)所示的全氟(聚)醚化合物的例子，可以列举以下通式(3a)和(3b)的任一式所示的化合物(可以为1种或2种以上的混合物)。

[0694] Rf5－(OCF2CF2CF2)b″－Rf6       ···(3a)

[0695] Rf5－(OCF2CF2CF2CF2)a″－(OCF2CF2CF2)b″－(OCF2CF2)c″－(OCF2)d″－Rf6  ···(3b)

[0696] 这些式中，Rf5和Rf6如上；在式(3a)中，b”为1以上100以下的整数；在式(3b)中，a”和b”分别独立地为0以上30以下的整数，c”和d”分别独立地为1以上300以下的整数。标注角标a”、b”、c”、d”并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。

[0697] 另外，从其他的观点出发，含氟油可以为通式Rf3－F(式中，Rf3为C5－16全氟烷基)所示的化合物。并且，也可以是氯三氟乙烯低聚物。

[0698] 上述含氟油可以具有500～10000的平均分子量。含氟油的分子量可以使用GPC测定。

[0699] 相对于本发明的表面处理剂，含氟油可以含有例如0～50质量％、优选含有0～30质量％、更优选含有0～5质量％。在一个方式中，本发明的表面处理剂实质上不含含氟油。实质上不含含氟油是指完全不含含氟油、或者可以含有极微量的含氟油。

[0700] 在一个方式中，可以使含氟油的平均分子量大于含氟代聚醚基硅烷化合物的平均分子量。通过这样设计平均分子量，特别是在利用真空蒸镀法形成表面处理层时，能够获得更优异的磨损耐久性和表面滑动性。

[0701] 在一个方式中，可以使含氟油的平均分子量小于含氟代聚醚基硅烷化合物的平均分子量。通过这样设计平均分子量，能够抑制由该化合物得到的表面处理层的透明性下降，并且能够形成具有高磨损耐久性和高表面滑动性的固化物。

[0702] 含氟油有助于提高由本发明的表面处理剂形成的层的表面滑动性。

[0703] 作为上述硅油，例如可以使用硅氧烷键为2,000以下的直链状或环状的硅油。直链状的硅油可以是所谓的普通硅油和改性硅油。作为普通硅油，可以列举二甲基硅油、甲基苯基硅油、甲基含氢硅油。作为改性硅油，可以列举利用烷基、芳烷基、聚醚、高级脂肪酸酯、氟代烷基、氨基、环氧基、羧基、醇等将普通硅油改性而形成的硅油。环状的硅油例如可以列举环状二甲基硅氧烷油等。

[0704] 本发明的表面处理剂中，相对于上述本发明的含氟代聚醚基硅烷化合物的合计100质量份(2种以上时为它们的合计，下同)，该硅油例如含有0～300质量份、优选50～200质量份。

[0705] 硅油有助于提高表面处理层的表面滑动性。

[0706] 作为上述醇类，例如可以列举可以被1个或1个以上氟原子取代的碳原子数1～6的醇，例如甲醇、乙醇、异丙醇、叔丁醇、CF3CH2OH、CF3CF2CH2OH、(CF3)2CHOH。通过在表面处理剂中添加这些醇类，能够提高表面处理剂的稳定性，还能够改善含全氟聚醚基硅烷化合物与溶剂的相容性。

[0707] 作为上述增容剂，可以列举2,2,2－三氟乙醇、2,2,3,3,3－五氟－1－丙醇或2,2,3,3,4,4,5,5－八氟－1－戊醇等的氟取代醇，优选末端为CF2H的氟取代醇、1,3－双(三氟甲基)苯等的氟取代芳基、优选氟取代苯等。

[0708] 作为上述催化剂，可以列举酸(例如乙酸、三氟乙酸等)、碱(例如氨、三乙胺、二乙胺等)、过渡金属(例如Ti、Ni、Sn等)等。

[0709] 催化剂能够促进本发明的含氟代聚醚基硅烷化合物的水解和脱水缩合，促进由本发明的表面处理剂形成的层的形成。

[0710] 作为其他成分，除上述成分以外，还可以列举例如四乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、3－氨基丙基三甲氧基硅烷、3－环氧丙氧丙基三甲氧基硅烷、甲基三乙酰氧基硅烷等。

[0711] 本发明的表面处理剂能够浸渗在多孔物质、例如多孔的陶瓷材料、金属纤维、例如将钢丝绒固定成绵状的产品中，制成粒料。该粒料例如能够用于真空蒸镀。

[0712] 本发明的表面处理剂除了含有上述成分之外，作为杂质，可以含有微量的例如Pt、Rh、Ru、1,3－二乙烯基四甲基二硅氧烷、三苯基膦、NaCl、KCl、硅烷的缩合物等。

[0713] 以下，对本发明的物品进行说明。

[0714] 本发明的物品包括基材和在该基材表面由本发明的表面处理剂形成的层(表面处理层)。

[0715] 能够用于本发明的基材可以由例如玻璃、树脂(天然或合成树脂，例如可以是一般的塑料材料)、金属、陶瓷、半导体(硅、锗等)、纤维(织物、无纺布等)、毛皮、皮革、木材、陶瓷器、石材等、建筑部件等、卫生用品、任意适当的材料构成。

[0716] 例如，在想要制造的物品为光学部件的情况下，构成基材表面的材料可以是光学部件用材料，例如玻璃或透明塑料等。另外，在想要制造的物品是光学部件的情况下，可以在基材的表面(最外层)形成某些层(或膜)，例如硬涂层或防反射层等。防反射层可以使用单层防反射层和多层防反射层的任一种。作为能够用于防反射层的无机物的例子，可以列举SiO2、SiO、ZrO2、TiO2、TiO、Ti2O3、Ti2O5、Al2O3、Ta2O5、Ta3O5、Nb2O5、HfO2、Si3N4、CeO2、MgO、Y2O3、SnO2、MgF2、WO3等。这些无机物可以单独使用或组合这些中的2种以上(例如以混合物的方式)使用。在采用多层防反射层的情况下，优选其最外层使用SiO2和/或SiO。在想要制造的物品是触摸屏用的光学玻璃部件的情况下，基材(玻璃)的表面的一部分可以具有透明电极，例如使用了氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌等的薄膜。另外，基材可以根据其具体的样式等具有绝缘层、粘接层、保护层、装饰框层(I－CON)、雾化膜层、硬涂膜层、偏光膜、相位差膜和液晶显示模块等。

[0717] 上述基材的形状没有特别限定，可以是例如板状、膜、其他的形态。另外，想要形成表面处理层的基材的表面区域为基材表面的至少一部分即可，可以根据想要制造的物品的用途和具体的样式等适当确定。

[0718] 在一个方式中，作为该基材，可以至少其表面部分由原本就具有羟基的材料构成。作为这样的材料，可以列举玻璃，还可以列举表面形成有自然氧化膜或热氧化膜的金属(特别是贱金属)、陶瓷、半导体等。或者，如树脂等那样，在虽然具有羟基但不充分的情况、或者原本就不具有羟基的情况下，可以通过对基材实施某些预处理，在基材的表面导入羟基或使其增加。作为该预处理的例子，可以列举等离子体处理(例如电晕放电)或离子束照射。等离子体处理还适合用于向基材表面导入羟基或使羟基增加、并且使基材表面清洁化(去除异物等)。另外，作为该预处理的另外的例子，可以列举：利用LB法(Langmuir－Blodgett法)或化学吸附法等预先在基材表面以单分子膜的形态形成具有碳－碳不饱和键的界面吸附剂，之后，在含有氧和氮等的气氛下使不饱和键断开的方法。

[0719] 在另一方式中，作为这样的基材，可以至少其表面部分由含有具有1个以上的其他的反应性基团、例如Si－H基的有机硅化合物、或烷氧基硅烷的材料构成。

[0720] 在优选的方式中，上述基材为玻璃。作为该玻璃，优选蓝宝石玻璃、钠钙玻璃、碱性铝硅酸盐玻璃、硼硅酸玻璃、无碱玻璃、水晶玻璃、石英玻璃，特别优选经化学强化的钠钙玻璃、经化学强化的碱性铝硅酸盐玻璃和经化学结合的硼硅酸玻璃。

[0721] 本发明的物品能够通过在上述基材的表面形成上述本发明的表面处理剂的层，依照需要对该层进行后处理，由此，由本发明的表面处理剂形成层来制造。

[0722] 关于本发明的表面处理剂的层形成，可以通过在基材的表面以覆盖该表面的方式应用上述表面处理剂来实施。覆盖方法没有特别限定。例如可以使用湿式覆盖法和干式覆盖法。

[0723] 作为湿润覆盖法的例子，可以列举浸涂、旋涂、流涂、喷涂、辊涂、凹版涂敷以及类似的方法。

[0724] 作为干燥覆盖法的例子，可以列举蒸镀(通常为真空蒸镀)、溅射、CVD以及类似的方法。作为蒸镀法(通常为真空蒸镀法)的具体例，可以列举电阻加热、电子束、使用微波等的高频加热、离子束以及类似的方法。作为CVD方法的具体例，可以列举等离子体－CVD、光学CVD、热CVD以及类似的方法。

[0725] 另外，还可以利用常压等离子体法实施覆盖。

[0726] 在使用湿润覆盖法的情况下，本发明的表面处理剂可以利用溶剂稀释后再应用于基材表面。从本发明的组合物的稳定性和溶剂的挥发性的观点出发，优选使用下列溶剂：碳原子数5～12的全氟脂肪族烃(例如全氟己烷、全氟甲基环己烷和全氟－1,3－二甲基环己烷)；多氟芳香族烃(例如双(三氟甲基)苯)；多氟脂肪族烃(例如C6F13CH2CH3(例如旭硝子株式会社生产的ASAHIKLIN(注册商标)AC－6000)、1,1,2,2,3,3,4－七氟环戊烷(例如日本瑞翁株式会社生产的ZEORORA(注册商标)H)；氢氟醚(HFE)(例如全氟丙基甲基醚(C3F7OCH3)(例如住友3M株式会社生产的Novec(商标)7000)、全氟丁基甲基醚(C4F9OCH3)(例如住友3M株式会社生产的Novec(商标)7100)、全氟丁基乙基醚(C4F9OC2H5)(例如住友3M株式会社生产的Novec(商标)7200)、全氟己基甲基醚(C2F5CF(OCH3)C3F7)(例如住友3M株式会社生产的Novec(商标)7300)等的烷基全氟烷基醚(全氟烷基和烷基可以为直链或支链状)、或者CF3CH2OCF2CHF2(例如旭硝子株式会社生产的ASAHIKLIN(注册商标)AE－3000))等。这些溶剂可以单独使用或以2种以上的混合物的形式使用。其中，优选氢氟醚，特别优选全氟丁基甲基醚(C4F9OCH3)和/或全氟丁基乙基醚(C4F9OC2H5)。

[0727] 在使用干式覆盖法时，本发明的表面处理剂可以直接用于干式覆盖法，或者也可以在使用上述溶剂稀释后用于干式覆盖法。

[0728] 表面处理剂的层形成优选以本发明的表面处理剂与用于水解和脱水缩合的催化剂在层中共存的方式来实施。简便起见，在利用湿润覆盖法时，可以在利用溶剂将本发明的表面处理剂稀释后、即将应用于基材表面之前，在本发明的表面处理剂的稀释液中添加催化剂。在利用干燥覆盖法时，可以将添加了催化剂的本发明的表面处理剂直接进行蒸镀(通常为真空蒸镀)处理，或者使用在铁或铜等金属多孔体中渗浸有添加了催化剂的本发明的表面处理剂的粒料状物质进行蒸镀(通常为真空蒸镀)处理。

[0729] 催化剂能够使用任意适当的酸或碱。作为酸催化剂，例如能够使用乙酸、甲酸、三氟乙酸等。另外，作为碱催化剂，例如能够使用氨、有机胺类等。

[0730] 本发明的物品所含的表面处理层具有高磨损耐久性双方。另外，上述表面处理层除了具有高磨损耐久性之外，也依赖于所使用的表面处理剂的组成，还能够具有拨水性、拨油性、防污性(例如防止指纹等污垢的附着)、防水性(防止水浸入电子部件等)、表面滑动性(或润滑性、例如指纹等污垢的拭去性和对于手指的优异的触感)、耐药品性等，适合用作功能性薄膜。

[0731] 因此，本发明还涉及最外层具有上述表面处理层的光学材料。

[0732] 作为光学材料，除了后面例示的显示器等相关的光学材料之外，还优选列举各种各样的光学材料，例如：阴极射线管(CRT，例如电脑显示器)、液晶显示器、等离子体显示器、有机EL显示器、无机薄膜EL点阵显示器、背投型显示器、荧光显示管(VFD)、场发射显示器(FED，Field Emission Display)等的显示器或这些显示器的保护板、或者在它们的表面实施了防反射膜处理的材料。

[0733] 本发明的物品可以为光学部件，但没有特别限定。光学部件的例子可以列举下列物品：眼镜等的透镜；PDP、LCD等的显示器的前面保护板、防反射板、偏光板、防眩板；便携式电话、便携式信息终端等设备的触屏片；蓝光(Blu－ray(注册商标))光盘、DVD光盘、CD－R、MO等光盘的盘面；光纤；钟表的显示面等。

[0734] 另外，本发明的物品还可以为医疗器械或医疗材料。

[0735] 上述层的度度没有特别限定。在为光学部件的情况下，从光学性能、磨损耐久性和防污性的观点出发，上述层的厚度为1～50nm、1～30nm、优选为1～15nm的范围。

[0736] 以上，对本发明的物品进行了详细说明。但本发明的物品和物品的制造方法等不限于上述例示的内容。

[0737] 实施例

[0738] 下面，在实施例中对本发明的物品进行说明，但本发明不限于以下的实施例。其中，在本实施例中，构成氟代聚醚的重复单元的存在顺序是任意的，以下所示的化学式表示平均组成。

[0739] 作为含氟代聚醚基硅烷化合物和酰胺化合物，使用以下化合物。

[0740] ·含氟代聚醚基硅烷化合物

[0741] A:CF3O(CF2O)k(CF2CF2O)l(CF2CF2CF2O)m(CF2CF2CF2CF2O)nCF2CONHCH2C(CH2CH2CH2Si(OCH3)3)3

[0742] B:CF3O(CF2O)k(CF2CF2O)l(CF2CF2CF2O)m(CF2CF2CF2CF2O)nCF2CONHCH2CH(CH2CH2CH2Si(OCH3)3)2

[0743] C:CF3O(CF2O)k(CF2CF2O)l(CF2CF2CF2O)m(CF2CF2CF2CF2O)nCF2CONHCH2CH2CH2SiCH3(CH2CH2CHZSi(OCH3)3)2

[0744] D:CF3O(CF2O)k(CF2CF2O)l(CF2CF2CF2O)m(CF2CF2CF2CF2O)nC(OCH2CH2O)2CH3(CH2CH2CH2Si(OCH3)3)2

[0745] E：F(CF2CF2CF2O)oCF2CF2(CH2CHSi(OCH3)3)H

[0746] 在上述式中，k为36，l为22，m为0.6，n为0.2，o为28。

[0747] ·酰胺化合物

[0748] a：四甲基脲

[0749] b：N－乙基乙酰胺

[0750] c：N－甲基丙酰胺

[0751] d：N,N－二甲基丙酰胺

[0752] e：1,3－二甲基－3,4,5,6－四氢－2(1H)－嘧啶酮

[0753] f：N,N－二甲基乙酰基乙酰胺

[0754] g：2－吡咯烷酮

[0755] h：1－甲基－2－吡咯烷酮

[0756] i：3－甲氧基－N,N－二甲基丙酰胺

[0757] j：N,N－二甲基甲酰胺

[0758] k：3－丁氧基－N,N－二甲基丙酰胺

[0759] l：1－乙基－2－吡咯烷酮

[0760] m：1－辛基－2－吡咯烷酮

[0761] n：N,N－二甲基乙酰胺

[0762] ·溶剂

[0763] Novec(注册商标)7200(3M JAPAN株式会社生产)

[0764] ·增容剂

[0765] α：2,2,3,3,3－五氟－1－丙醇

[0766] β：2,2,2－三氟乙醇

[0767] γ：二甲基亚砜

[0768] ·实施例1～28和比较例1～7(真空蒸镀法)

[0769] (表面处理剂的制备)

[0770] 在含有以下表1所示的含氟代聚醚基硅烷化合物20质量％的Nor7200溶液中加入以下表1所示的量的酰胺化合物和增容剂等，制备实施例1～32和比较例1～10的表面处理剂。

[0771] (表面处理层的制备)

[0772] 将上述制得的表面处理剂(实施例1～28和比较例1～7)真空蒸镀在化学强化玻璃－3(康宁公司制，“Gorilla”玻璃，厚度0.7mm)上。真空蒸镀的处理条件设为压力3.0×10 Pa，首先，在化学强化玻璃表面形成二氧化硅膜，接着，蒸镀表面处理剂400mg，形成表面处理层。

[0773] ·实施例29～32和比较例8～10(旋涂法)

[0774] (表面处理剂的制备)

[0775] 将以下表2所示的含氟代聚醚基硅烷化合物0.12质量％和以下表2所示的量的酰胺化合物和增容剂等溶于Nor7200中，制备实施例29～32和比较例8～10的表面处理剂。

[0776] (表面处理层的制备)

[0777] 在安装在旋涂机上的化学强化玻璃(50mm×50mm)上滴加上述所得到的表面处理剂1g后，以3000rpm旋转30秒，形成表面处理剂的涂布层。之后，使用送风烘箱进行加热，由此在化学强化玻璃上形成表面处理层。

[0778] ＜评价＞

[0779] (耐橡皮摩擦性试验)

[0780] 使用摩擦测试仪(新东科学株式会社制)，以以下条件每擦拭2500次测定对水接触角，试验持续至进行10000次或低于100度为止，比较保持了100°的最终磨损次数。试验环境条件为25℃、湿度40％RH。将结果示于以下表1和表2。

[0781] 橡皮：Raber Eraser(Minoan公司生产)

[0782] 接地面积：

[0783] 移动距离(单程)：30mm

[0784] 移动速度：3,600mm/分钟

[0785] 荷重：

[0786] [表1]

[0787]

[0788] [表2]

[0789]

[0790] (稳定性试验)

[0791] 对含氟代聚醚基硅烷化合物的硅烷偶联部位的分子间反应性进行评价。在上述实施例6和比较例1的溶液中，添加相对于含氟代聚醚基硅烷化合物为9当量的水，进行搅拌。29
之后，经时地测定 Si－NMR，对于硅烷偶联部位，观察表示非缩合状态的峰(Mn)、表示三烷氧基之中的一个发生了缩合的状态的峰(Dn)、和表示三烷氧基中的2个发生了缩合的状态的峰(Tn)的峰变化。将结果示于图1。

[0792] 由以上结果确认了在比较例1的表面处理剂中，在加水14小时后发生了缩合，在37小时后进一步缩合。而在实施例6的表面处理剂中，在加水36小时后也残留有大量的非缩合成分，确认含氟代聚醚基硅烷化合物间的分子间缩合得到了抑制。

[0793] 产业上的可利用性

[0794] 本发明的物品能够适用于各种用途，例如可以用作触屏等的光学部件。