技术领域
[0001] 本发明涉及一种冷加工设备，尤其涉及一种显微镜生产用光学冷加工设备。
相关背景技术
[0002] 显微镜是由一个透镜或几个透镜的组合构成的一种光学仪器，是人类进入原子时代的标志，主要用于放大微小物体成为人的肉眼所能看到的仪器，显微镜分光学显微镜和电子显微镜。
[0003] 专利申请CN208178852U，公开日为20181204，公开了一种用于显微镜的转盘钢珠自动化安装设备，包括有工作台、进珠孔洞、气缸、针筒、限位板、固定套、滑块、升降杆和胶壳等，通过将显微镜放置在工作台上，使用者再将钢珠放入进珠孔洞中，钢珠通过进珠孔洞进入到针筒中，启动气缸，气缸伸缩杆带动升降杆向下运动，升降杆将钢珠按压在显微镜上，然而，该设备在按压过程中，无法精确定位按压位置。
[0004] 为此，我们设计了一种实现自动打磨、自动控制冷却液流速和自动烘干显微镜的显微镜生产用光学冷加工设备。
具体实施方式
[0064] 下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0065] 实施例1
[0066] 一种显微镜生产用光学冷加工设备，如图1和图2所示，包括有底板1、支架2、打磨机构3和运送机构4，底板1上设有支架2，底板1上中部设有打磨机构3，支架2上部设有运送机构4。
[0067] 当人们想要对显微镜进行打磨时，可使用这种显微镜生产用光学冷加工设备，首先，使用者将显微镜放置在底板1上，随后启动打磨机构3和运送机构4，运送机构4对底板1上的显微镜进行吸附，显微镜吸附完成后，运送机构4将显微镜运送到打磨机构3上方，使用者控制运送机构4向下运动，使运送机构4带动显微镜向下运动，打磨机构3对显微镜进行打磨，显微镜打磨完成后，使用者控制运送机构4向上运动，运送机构4带动已打磨的显微镜脱离打磨机构3，使用者再将已打磨的显微镜取出。
[0068] 实施例2
[0069] 在实施例1的基础之上，如图3和图4所示，打磨机构3包括有第一伺服电机31、第一转轴32、锥齿轮组33和圆形磨擦轮34，底板1上右侧安装有第一伺服电机31，底板1上中部转动式设有第一转轴32，第一伺服电机31输出轴与第一转轴32之间连接有锥齿轮组33，第一转轴32上部设有圆形磨擦轮34。
[0070] 当使用者想要对显微镜进行打磨时，使用者启动第一伺服电机31，第一伺服电机31输出轴带动锥齿轮组33转动，锥齿轮组33带动第一转轴32转动，第一转轴32带动圆形磨擦轮34转动，使用者手动将显微镜放在圆形磨擦轮34上，圆形磨擦轮34对显微镜进行打磨，实现圆形磨擦轮34打磨显微镜效果，显微镜打磨完成后，使用者取出显微镜，关闭第一伺服电机31，以上动作全部停止。
[0071] 运送机构4包括有滑动架41、移动块42、第二伺服电机43、丝杆44、气缸45和吸盘46，支架2上部设有滑动架41，滑动架41上滑动式设有移动块42，滑动架41前侧左部安装有第二伺服电机43，第二伺服电机43输出轴连接有丝杆44，丝杆44与移动块42螺纹式连接，丝杆44与滑动架41螺纹式连接，移动块42右侧安装有气缸45，气缸45伸缩杆底端连接有吸盘
46。
[0072] 使用者将显微镜放置在底板1上后，启动气缸45，气缸45伸缩杆向下伸长，气缸45伸缩杆带动吸盘46向下运动到与显微镜接触，使得吸盘46对显微镜进行吸附，显微镜吸附完成后，使用者控制气缸45伸缩杆向上缩短，气缸45伸缩杆带动吸盘46和显微镜向上运动到恢复原位，随后启动第一伺服电机31，第一伺服电机31输出轴带动丝杆44转动，丝杆44带动移动块42向后运动，当移动块42带动气缸45、吸盘46和显微镜向后运动到圆形磨擦轮34上方时，使用者控制气缸45伸缩杆向下伸长，气缸45伸缩杆带动吸盘46和显微镜向下运动至与圆形磨擦轮34接触，圆形磨擦轮34对显微镜进行打磨，显微镜打磨完成后，使用者控制气缸45伸缩杆向上缩短，气缸45伸缩杆带动吸盘46和已打磨的显微镜向上运动到恢复原位，使用者控制第一伺服电机31输出轴反向转动，第一伺服电机31输出轴带动丝杆44反向转动，丝杆44带动移动块42向前运动，移动块42带动气缸45、吸盘46和已打磨的显微镜向前运动至恢复原位，实现移动块42运送效果，关闭气缸45和第一伺服电机31，以上动作全部停止，使用者再将吸盘46上的显微镜取出。
[0073] 实施例3
[0074] 在实施例2的基础之上，如图5‑图8所示，还包括有冷却机构5，冷却机构5包括有储液箱51、导液管52和雾化喷头53，支架2上部设有储液箱51，储液箱51底部设有导液管52，导液管52与支架2连接，导液管52上设有三个雾化喷头53。
[0075] 显微镜在打磨的过程中，会产生热量，从而对显微镜和圆形磨擦轮34造成一定的损害，为了避免此类情况，在显微镜打磨时，使用者将冷却液注入到储液箱51内部，冷却液通过储液箱51流入导液管52中，冷却液再从导液管52流入雾化喷头53内，最后从雾化喷头53喷出，对显微镜和圆形磨擦轮34喷射冷却液，降低显微镜在打磨过程中产生的热量，实现冷却液降温效果，显微镜打磨完成后，使用者停止注入冷却液。
[0076] 还包括有上料机构6，上料机构6包括有固定外套61、伸缩组件62、第一承物板63、固定架64、弹簧65、推块66、固定块67、第一连接杆68、顶块69和第二承物板610，底板1上前侧中部设有固定外套61，底板1上前侧中部设有伸缩组件62，伸缩组件62位于固定外套61内部，伸缩组件62顶端设有第一承物板63，固定外套61顶部前侧设有固定架64，固定架64中部滑动式设有第一连接杆68，第一连接杆68下部后端设有推块66，第一连接杆68上绕有弹簧65，弹簧65两端分别与固定架64和推块66连接，滑动架41前侧设有固定块67，第一连接杆68与固定块67滑动式连接，第一连接杆68上部后端设有顶块69，顶块69与移动块42配合，支架
2前部下侧设有第二承物板610，第二承物板610与固定外套61连接。
[0077] 使用者向下推动第一承物板63，伸缩组件62被压缩，使用者再将多块显微镜放置在第一承物板63上，使用者松开第一承物板63，受到多块显微镜重量的影响，伸缩组件62继续处于压缩状态，当移动块42向前运动到第二承物板610上方时，移动块42与顶块69配合，从而带动顶块69向前运动，顶块69带动第一连接杆68向前运动，第一连接杆68带动推块66向前运动，弹簧65被压缩，气缸45伸缩杆向下伸长，气缸45伸缩杆带动吸盘46向下运动，吸盘46将第二承物板610上的显微镜吸附完成后，气缸45伸缩杆向上缩短，气缸45伸缩杆带动吸盘46和显微镜向上运动至恢复原位，当移动块42向后运动时，移动块42脱离顶块69，弹簧65复位，从而带动顶块69、第一连接杆68和推块66向后运动，推块66将第一承物板63上的显微镜推动到第二承物板610上，第一承物板63上的显微镜数量逐步减少时，使得伸缩组件62逐步复位，从而带动第一承物板63向上运动，实现推块66推动显微镜效果，重复上述动作，可进行多次显微镜被推动到第二承物板610上。
[0078] 还包括有控阀机构7，控阀机构7包括有弹性组件71、第二连接杆72和止水块73，导液管52内壁上部左右两侧均滑动式设有止水块73，两个止水块73前壁均设有弹性组件71，两根弹性组件71前端之间连接有第二连接杆72，第一连接杆68与第二连接杆72配合。
[0079] 为了实现自动控制冷却液流入雾化喷头53中，当第一连接杆68向后运动时，第一连接杆68与第二连接杆72配合，从而带动第二连接杆72向后运动，弹性组件71被压缩，从而带动止水块73向后运动，止水块73脱离导液管52出水口，冷却液通过导液管52出水口流入雾化喷头53中，当第一连接杆68向前运动时，第一连接杆68脱离第二连接杆72，弹性组件71复位，从而带动第二连接杆72和止水块73向前运动，止水块73堵住导液管52出水口，使却液流无法流入雾化喷头53中，实现止水块73控制冷却液流动效果。
[0080] 还包括有控阀收集机构8，控阀收集机构8包括有第二转轴81、支撑外架82、安装板83、第三转轴84、圆形加热棒85、风扇86、伞齿轮87、传动组件88和带孔板89，支架2上转动式设有第二转轴81，底板1上后侧设有支撑外架82，支撑外架82左右两侧均设有安装板83，两个安装板83之间转动式连接有第三转轴84，两个支撑外架82上均设有圆形加热棒85，第三转轴84左右两侧均设有风扇86，第二转轴81右侧设有伞齿轮87，伞齿轮87与锥齿轮组33啮合，第二转轴81与第三转轴84之间连接有传动组件88，支撑外架82后侧上部设有带孔板89。
[0081] 当吸盘46将显微镜运送到支撑外架82上方时，使用者按压显微镜，使显微镜从吸盘46上脱离，并掉落在支撑外架82上，受到支撑外架82角度的影响，显微镜会从支撑外架82滑落到带孔板89上，使用者打开圆形加热棒85，圆形加热棒85散发出热量，锥齿轮组33转动时，锥齿轮组33带动伞齿轮87转动，伞齿轮87带动第二转轴81转动，第二转轴81带动传动组件88转动，传动组件88带动第三转轴84转动，第三转轴84带动风扇86转动，风扇86产生的风力将热量吹到支撑外架82内部，使两者结合成热风，热风对带孔板89上的显微镜进行烘干，将显微镜上冷却液进行蒸发，实现热风烘干冷却液效果，显微镜烘干完成后，使用者关闭圆形加热棒85和第一伺服电机31，以上动作全部停止，使用者再将显微镜进行收集。
[0082] 以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
