具体技术细节
[0006] 本发明的目的是提供一种钨酸钠有机化制备纳米钨粉的方法。具体制备过程如下：A钨酸钠有机化
称取钨酸钠、硫酸和水杨酸，用蒸馏水为反应溶剂，在90～120℃反应4～8h，获得水杨酸钨。其中钨酸钠、硫酸与水杨酸的摩尔比例为1:0.8～1.2:0.8～1.2，配置的水溶液中钨酸根离子的摩尔浓度为1～2mol/L。
[0007] B水杨酸钨净化将反应获得水杨酸钨经过水洗除杂，蒸馏除水获得纯水杨酸钨。
[0008] C热分解反应将净化后的水杨酸钨升温至200～340℃，保温0.5～8小时。热分解时采用干燥的循环氩气保护。采用管式炉、箱式炉等进行连续生产，水杨酸钨在高温下热分解，分解的蒸汽能够实现氧化钨的均匀纳米化，二氧化钨粉末粒径为5～20nm，获得的有机物回用。
[0009] D还原将上述获得的纳米氧化钨在550～650℃，氢气还原为纳米钨粉。采用管式炉、箱式炉进行连续生产，获得的钨粉粒径为10～40nm。
[0010] 钨酸钠、硫酸与水杨酸的摩尔比例为1:0.8～1.0:0.8～1.0。
[0011] C步骤的热分解反应的温度为200～300℃。
[0012] 钨酸钠和水杨酸充分反应生成水杨酸钨；水杨酸钨在200～340℃液化迅速分解，放出大量的气体和热量，可以得到分散均匀的纳米级氧化钨。这个过程中首先发生了水杨酸钨复杂的分解反应，获得氧化钨和水杨酸等气体。
[0013] 当水杨酸钨在氧气存在的情况下，反应式如下：(C7H6O3)2WO2+1/2O2→WO3+2C7H6O3
当水杨酸钨在惰性气氛下，反应式如下：
(C7H6O3)2WO2→WO2+2C7H6O3
二氧化钨还原少了三氧化钨还原为二氧化钨的环节。二氧化钨的氢还原，还原温度在
550～650℃，还原剂为氢气，反应式为：
WO2+H2→W+2H2O
本发明用于生产纳米钼粉，具有反应温度低和效率高等特点，还原过程是直接以二氧化钼进行还原。与常规的蒸发三氧化钼还原相比，降低了各阶段 的温度，设备简单易操作，同时对设备的材质要求较低；与常规的沉淀还原法相比，粒度分布均匀，收率高，90%以上都是20～30nm的钼粉，克服了一般沉淀还原法制备钼粉高温团聚的现象。
[0014] 本发明工艺过程简单、产率高、钼粉纳米化彻底，且粒度分布均匀，易于工业化生产，具有清洁、节能和绿色环保的特点。所得纳米钼粉粒径在10～40nm，纯度在99.99%，球形度高，均匀程度高。
法律保护范围
涉及权利要求数量3：其中独权1项，从权-1项
1.一种钨酸钠有机化制备纳米钨粉的方法，其特征在于制备过程如下：
A钨酸钠有机化
称取钨酸钠、硫酸和水杨酸，用蒸馏水为反应溶剂，在90～120℃反应4～8h，获得水杨酸钨，钨酸钠、硫酸与水杨酸的摩尔比例为1:0.8～1.2:0.8～1.2，配置的水溶液中钨酸根离子的摩尔浓度为1～2mol/L；
B水杨酸钨净化
将反应获得水杨酸钨经过水洗除杂，蒸馏除水获得纯水杨酸钨；
C热分解反应
将净化后的水杨酸钨升温至200～340℃，保温0.5～8小时，热分解时采用干燥的循环氩气保护，采用管式炉或箱式炉进行连续生产，水杨酸钨在高温下热分解，分解的蒸汽实现氧化钨的均匀纳米化，二氧化钨粉末粒径为5～20nm，获得的有机物回用；
D还原
将上述获得的纳米氧化钨在550～650℃，氢气还原为纳米钨粉，采用管式炉或箱式炉进行连续生产，获得的钨粉粒径为10～40nm。
2.如权利要求1所述的钨酸钠有机化制备纳米钨粉的方法，其特征在于：钨酸钠、硫酸与水杨酸的摩尔比例为1:0.8～1.0:0.8～1.0。
3.如权利要求1所述的钨酸钠有机化制备纳米钨粉的方法，其特征在于：C步骤的热分解反应的温度为200～300℃。
