[0001] 本发明涉及建筑领域，具体地说，涉及一种深基坑放线方法。

[0002] 大型建筑在施工时，常常先要挖掘一个大的基坑。然后在这个大基坑中放线，以确定各种结构在这个大基坑中的布局，例如，确定一个或多个要浇筑的独立基础的中心在所述大基坑中的位置。在确定了要浇筑的各个独立基础的中心在所述大基坑中的位置之后，根据要浇筑的各个独立基础的尺寸，在上述大基坑底部的相应位置进一步挖掘深基坑，以便在这些深基坑中浇筑所述各个独立基础。

[0003] 图1是俯视图，示出了在大基坑中所确定的一个独立基础的位置。如图1所示，在大基坑10中，根据预定的设计图纸放线，于是可以由经线20和纬线31确定要浇筑的独立基础41的中心，然后，根据独立基础41的尺寸，在大基坑10的底部的相应位置挖掘深基坑51，以便在深基坑51中浇筑独立基础41。

[0004] 图2是俯视图，示出了在大基坑中所确定的三个独立基础的位置。如图2所示，在大基坑10中，根据预定的设计图纸放线，于是可以由经线20以及纬线31、纬线32和纬线33分别确定要浇筑的独立基础41、独立基础42和独立基础43的中心，然后，根据独立基础
41、独立基础42和独立基础43的尺寸，在大基坑10的底部的相应位置分别挖掘深基坑51、深基坑52和深基坑53，以便在深基坑51、深基坑52和深基坑53中分别浇筑独立基础41、独立基础42和独立基础43。

[0005] 如图1和图2所示，挖掘好的深基坑51、深基坑52和深基坑53的中心往往与它们所对应的要浇筑的独立基础的中心不重合。因此，在挖掘好这些深基坑之后，需要根据经线20以及纬线31、纬线32和纬线33在这些深基坑的底部确定要浇筑的各个独立基础的中心。具体说，就是要确定经线20以及纬线31、纬线32和纬线33在其所对应的深基坑的底部的垂直投影线，也就是进行二次放线，然后，根据这些垂直投影线可以确定要浇筑的独立基础的中心在这些深基坑底部的位置，以便在这些深基坑的底部浇筑出位置符合设计的独立基础。

[0006] 通常，采用经纬仪测绘法进行二次放线。图3是现有技术中采用经纬仪测绘法进行二次放线的示意图。如图3所示，采用经纬仪100在深基坑51中进行二次放线时，由于深基坑51较深，且经纬仪100的望远镜的转动角度有限，因此，投影常常投不到深基坑51的底部。另外，在每个深基坑中进行二次放线时都需要架设一次经纬仪100，这样，如果有多个深基坑需要进行二次放线的话，则需要多次架设经纬仪100，这导致了施工不方便。

[0019] 下面将参考附图来描述本发明所述的深基坑放线方法的实施例。本领域的普通技术人员可以认识到，在不偏离本发明的精神和范围的情况下，可以用各种不同的方式对所描述的实施例进行修正。因此，附图和描述在本质上是说明性的，而不是用于限制权利要求的保护范围。此外，在本说明书中，相同的附图标记表示相同或相似的部分。

[0020] 首先参考图4a-4c来说明本发明所述的深基坑放线方法的工作原理。

[0021] 图4a-4c是俯视图，示出了本发明所述深基坑放线方法的工作原理。如图4a-4c所示，在深基坑51外的地面上放出标线（例如，图1和图2中的经线20，下面也记为标线20），该标线横过深基坑51的上方。盛有反光液体61的开口容器60放置在深基坑51坑沿附近的地面上，并在标线20的正下方。

[0022] 如图4a所示，当第一放线人员的单眼70处于包含标线20的垂直平面的一侧时，该单眼70可以看到标线20在反光液体61中的影子20’。此时若第一放线人员指挥第二放线人员将标记点放置在标线20下方的深基坑51底部上的不被单眼70看到（即被标线20遮住）的位置81或位置82处，那么，位置81和位置82实际上不在包含标线20的垂直平面内，而是在该垂直平面的另一侧。

[0023] 如图4b所示，当第一放线人员沿着垂直于标线20的方向水平移动单眼70到包含标线20的垂直平面的另一侧时，该单眼70可以看到标线20在反光液体61中的影子20’。此时若第一放线人员指挥第二放线人员将标记点放置在标线20下方的深基坑51底部上的不被单眼70看到（即被标线20遮住）的位置81或位置82处，那么，位置81和位置82实际上不在包含标线20的垂直平面内，而是在该垂直平面的与所述另一侧相反的一侧。

[0024] 如图4c所示，单眼70在上述移动过程中只在一个位置处可以看到标线20与该标线20在反光液体61中的影子20’重合。此时，若第一放线人员指挥所述第二放线人员将标记点放置在标线20下方的深基坑51底部上的不被单眼70看到（即被标线20遮住）的位置81或位置82处，那么，位置81和位置82正好在包含标线20的垂直平面内。换言之，位置81和位置82的连线就是标线20在深基坑51底部的垂直投影线。

[0025] 采用盛在开口容器60中的反光液体61而不采用镜子等作为反射体的原因是，反光液体61的液面自动具有水平水准，因此，就免去了调节反射体的反射面的水平水准的过程。而反射体的反射面的水平水准对于本发明所述的放线方法来说是至关重要的。

[0026] 下面结合图5和图6来说明本发明所述的深基坑放线方法。

[0027] 图5是采用本发明所述的放线方法在一个深基坑中进行放线的侧面剖视示意图。如图5所示，本发明所述的深基坑放线方法可以包括如下步骤：

[0028] a）在深基坑51外的地面上根据预先的设计放出标线（例如经线20），该标线横过深基坑51的上方。其中，所述标线的两端可以分别固定在深基坑51外的地面上所埋设的固定物（例如，龙门板90）上。

[0029] b）将盛有反光液体的开口容器60（例如小铝盆）放置在深基坑51坑沿附近的地面上并在所述标线的正下方。所述反光液体可以为任何反光度较高的液体，以便能够清楚地看到所述标线在该液体中的影子。例如，所述反光液体可以为废机油与墨汁的混合物。

[0030] c）使第一放线人员处于深基坑51外的开口容器60附近，使第二放线人员（未示出）处于深基坑51的底部并持有标记物，该标记物包含标记点。所述标记物的例子有削尖的铅笔，该标记物中的标记点可以为所述铅笔的笔尖。

[0031] d）所述第一放线人员沿着垂直于所述标线的方向水平移动单眼70，使得该单眼70看到所述标线与该标线在开口容器60内的反光液体中的影子重合，并在此时指挥所述第二放线人员将所述标记物上的标记点置于所述标线下方的深基坑51底部上的不被所述第一放线人员的所述单眼70看到（即被所述标线遮住）的一个位置81处，并记下该位置81。

[0032] e）重复步骤d）以在深基坑51底部上获得另一个位置82，并记下该位置82。实际上，这样的位置有无穷多，它们都在一条直线上。在实践中，只要确定其中的任意两个位置即可。

[0033] f）将步骤（d）和步骤（e）中获得的位置81和位置82用直线连接起来，该直线即为所述标线在深基坑51底部的垂直投影线。这样，就完成了一次二次放线。采用同样的方法，还可以针对其它标线在深基坑51中进行二次放线。

[0034] 图6是采用本发明所述的放线方法在三个深基坑中进行放线的侧面剖视示意图。如图6所示，根据本发明所述的方法，在每个深基坑中进行二次放线时，只需要一个放线人员将盛有反光液体的开口容器60放置在该深基坑边沿处的标线下方，然后单眼吊线并指挥另一个放线人员在深基坑底部确定两个投影位置即可。根据每个深基坑中的这两个投影位置就可以确定所述标线在该深基坑中的垂直投影线。这样就免去了多次架设经纬仪的繁琐，而且上述二次放线不受深基坑的深度限制，并能准确地确定标线在深基坑底部的垂直投影线。

[0035] 如上参照附图以示例的方式描述了本发明所述的深基坑放线方法。但是，本领域技术人员应当理解，对于上述本发明所提出的深基坑放线方法，还可以在不脱离本发明内容的基础上做出各种改进和组合。因此，本发明的保护范围应当由所附的权利要求书的内容确定。