技术领域
[0001] 本发明涉及前光板模具制作技术领域，尤其涉及一种前光板模具及其制作方法。
相关背景技术
[0002] 现有前光板模具的微结构通常通过激光或机械打点工艺制成，其典型尺寸为20‑30μm左右。然而，随着反射式显示器对光学均匀性及高分辨率的需求不断增加，更小的微结构成为技术发展的趋势。然而，现有激光打点、机械打点技术均难以突破20‑30μm的尺寸限制，使得利用该前光板模具制作的前光板无法满足对高精度、高均匀性光学性能的要求，使得前光板难以满足未来高性能显示器的需求，特别是在电子纸、反射式液晶显示器等应用领域。
具体实施方式
[0020] 为了便于理解本发明，下面将结合具体的实施例对本发明进行更全面的描述。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本发明的公开内容理解的更加透彻全面。
[0021] 除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本发明。
[0022] 实施例1
[0023] 本实施例提出一种前光板模具，其制作方法包括以下步骤：
[0024] 在母板上采用激光打点方式制作初始微结构，此时的母板结构如图1所示，初始微结构的直径、深度均为30μm；
[0025] 使用超声波清洗具有初始微结构的母板；
[0026] 对具有初始微结构的母板进行活化处理：通过电镀冲击镍的方式在具有初始微结构的母板表面形成一层活化薄膜；
[0027] 通过化学沉积的方法在活化处理后的母板初始微结构表面沉积一层镍层，控制沉积速度为10μm/h，经过2.5h的沉积，使微结构直径、深度均缩小至5μm，得到前光板模具，此时的前光板模具结构如图2所示；需要说明的是，在化学沉积过程中，在同一沉积槽内同时制作一个一起镀镍的测试空白片，每隔预定时间取出测试空白片并测量测试空白片的厚度，就可以得知同一槽内母板上沉积的镍层的厚度，以确保微结构尺寸的精确控制；
[0028] 对前光板模具进行热处理，提升前光板的机械强度和耐用性能，确保前光板模具在批量生产中的稳定性。
[0029] 实施例2
[0030] 本实施例提出一种前光板模具，其制作方法包括以下步骤：
[0031] 在母板上采用机械打点方式制作初始微结构，此时的母板结构如图1所示，初始微结构的直径、深度均为30μm；
[0032] 使用超声波清洗具有初始微结构的母板；
[0033] 对具有初始微结构的母板进行活化处理：通过电镀冲击镍的方式在具有初始微结构的母板表面形成一层活化薄膜；
[0034] 通过化学沉积的方法在活化处理后的母板初始微结构表面沉积一层镍层，控制沉积速度为10μm/h，经过2h的沉积，使微结构直径、深度均缩小至10μm，得到前光板模具，此时的前光板结构如图2所示；需要说明的是，在化学沉积过程中，在同一沉积槽内同时制作一个一起镀镍的测试空白片，每隔预定时间取出测试空白片并测量测试空白片的厚度，就可以得知同一槽内母板上沉积的镍层的厚度，以确保微结构尺寸的精确控制；
[0035] 对前光板模具进行热处理，提升前光板的机械强度和耐用性能，确保前光板模具在批量生产中的稳定性。
[0036] 以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
[0037] 以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
