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大速高比下框架式反扫补偿成像方法公开 发明

技术总结

本发明提出了一种大速高比下框架式反扫补偿成像方法,具体涉及一种机载光电侦察系统在大速高比飞行模式下采用框架式反扫运动来补偿飞机运动姿态以实现高质量成像的技术。本技术利用系统自身框架运动完成在曝光时间内补偿载机运动保持图像场景凝视,无需快速反射镜等机构,制造成本低,算法简单,移植性高,解决了在大速高比下成像拖影的问题,实现高质量成像,为目标准确检测与识别奠定了基础,适用于各种使用面阵探测器实现清晰成像的机载光电系统。

技术研发人员:

文江华; 冯鲁; 苗港; 朱镭; 孙浩; 周晓斌; 文琳坤; 李益明; 孙邦珂

受保护的技术研发主体:

西安应用光学研究所

技术申请主体:

西安应用光学研究所

技术研发申请日期:

2024-09-19

技术被公开/公告日期:

2025-01-14