[00050] 图1和图2描绘了本发明的一个实施例的示意性侧视图。处理后的表面3上覆盖有任选的涂层2。在图1中，玻璃表面1部分涂覆涂层2。所描绘的涂层是单层涂层。因此，涂层与玻璃表面1直接接触，并且是最外层。在图2中，部分预处理的玻璃表面3部分地涂覆涂层2。
所描绘的涂层是单层涂层。因此，涂层与玻璃表面1直接接触，并且是最外层。
[00051] 图3示出了根据本发明的一个实施例的方法的框图。在处理1001之后，进行涂覆工艺1002。之后，可以进行后处理1003。
[00052] 项目
1. 一种方法，优选根据前述项目中任一项所述的方法，包括步骤：
‐ 在玻璃元件的玻璃表面的至少一部分上执行处理工艺，其中，所述处理工艺是以下中的一种或多种：
i）清洗处理；和/或
ii）等离子体处理中，
优选地，首先进行所述清洗处理，然后进行所述等离子体处理。
[00053] 2. 根据前述项目中任一项所述的方法，其中：
所述清洗处理是将水喷洒至所述玻璃表面的所述至少一部分，其中满足以下参数中的一个或多个，优选地满足全部参数：
i）喷洒时间为1s至5h，优选地5s至60min，更优选地1min至40min，更优选地10min至40min；和/或
ii）水电导率为0.1μs/cm至400μs/cm，优选地0.5μs/cm至10μs/cm，更优选地1μs/cm至5μs/cm，更优选地约2μs/cm；和/或
iii）所述水的温度为10 ℃以上，优选地15 ℃至100 ℃，更优选地20 ℃至80 ℃，更优选地25 ℃至40 ℃。
[00054] 3. 根据前述项目中任一项所述的方法，其中：
所述等离子体处理是等离子体增强化学气相处理（PECVT）工艺、等离子体脉冲化学气相处理（PICVT）工艺或等离子体辅助化学气相处理（PACVT）工艺，其包括步骤：
a）用前驱体P2包围所述玻璃元件的所述玻璃表面的所述至少一部分；以及
b）照射所述前驱体P2以产生等离子体；
其中，满足以下参数中的至少一个，优选地满足全部参数：
i）其中，工艺温度PT2的范围为室温至所述玻璃元件中玻璃的Tg，优选地室温至
450 ℃，更优选地室温至400 ℃，更优选地室温至320 ℃，更优选地室温至280 ℃；和/或ii）其中，所述等离子体的脉冲持续时间PD2为50ms以下，优选地40ms以下，优选地
30ms以下，更优选地20ms以下，更优选地15ms以下，更优选地8ms以下，更优选地6ms以下，更优选地1ms以下，更优选地0.5ms以下；和/或
iii）其中，所述等离子体的所述脉冲持续时间PD2为0.1ms以上，优选地0.2ms以上，更优选地0.3ms以上，更优选地0.5ms以上；和/或
iv）其中，所述照射是通过微波发生器进行的，优选地，其中射线的频率为300MHz至300GHz，更优选地600MHz至100GHz，更优选地800MHz至10GHz，更优选地900MHz至3GHz，更优选地2.45GHz；和/或
v）其中，输入功率IP2，优选所述微波发生器的输入功率IP2，为1000W至10000W，优选地2500W至8000W，更优选地4000W至8000W，更优选地5000W至7000W，更优选地5000W至
6500W，更优选地5250W至5750W；和/或
vi）所述前驱体P2包括氩气、氧气和/或氮气，优选地氧气，更优选地，所述前驱体P2是空气；和/或
vii）其中，所述前驱体P2包括元素N（例如N2）和/或O（例如O2），优选地由元素N（例如N）2 和/或O（例如O）2 组成；优选地N2和O2，更优选地O2；和/或
viii）两个脉冲之间的脉冲暂停时间PP2为1μs以上，优选地10μs以上，更优选地1μs至5s，更优选地0.1ms至10ms，更优选地0.5ms至2.0ms，更优选地1.5ms至2.0ms，更优选地
1.8ms；和/或
ix）照射总时间TT2为0.1s以上，优选地1s以上，更优选地1s至5min，更优选地5s至
15s；和/或
x）所有脉冲持续时间PD2[ms]与所有脉冲暂停时间PP2[ms]的比值[ms/ms]为0.05以上，优选地0.1以上，更优选地0.15至5，更优选地0.2至0.5；和/或
xi）其中，工艺压力PR2为0.01mbar至500mbar，优选地0.1mbar至100mbar，更优选地0.5mbar至10mbar，更优选地0.8mbar至6.0mbar，更优选地1.0mbar至4.0mbar；和/或xii）其中，在所述等离子体处理过程中，所述工艺温度PT2是增加的，优选地稳步增加的；和/或
xiii）其中，所述工艺温度PT2至少部分地、优选地在所述等离子体处理过程结束时，为220 ℃以上，更优选地240 ℃以上，更优选地250 ℃以上，更优选地255 ℃以上，更优选地270 ℃以上，更优选地280 ℃以上；和/或
xiv）其中，所述前驱体P2的流速为0.1至500sccm，优选地5至100sccm，更优选地8至50sccm，更优选地20至30sccm。
[00055] 4. 根据前述项目中任一项所述的预处理玻璃元件在包括涂覆工艺的方法中的用途，优选地，所述涂覆工艺包括CVD工艺，更优选地PECVD、PICVD或PACVD工艺，更优选地PICVD工艺。
[00056] 5. 根据前述项目中任一项所述的方法、用途、玻璃元件、涂覆的玻璃元件和/或填充的涂覆玻璃元件，其中所述玻璃为硼硅酸盐玻璃、铝硅酸盐玻璃、锂铝硅酸盐（LAS）玻璃，优选地硼硅酸盐玻璃。
[00057] 6. 根据前述项目中任一项所述的方法、用途、玻璃元件、涂覆的玻璃元件和/或填充的涂覆玻璃元件，其中，所述玻璃的组成以质量%计包括：
SiO2：30至98%，优选地50至90%，更优选地70.0至74.0%；和/或
B2O3：0至30%，优选地3至20%，更优选地7.0至16.0%；和/或
Al2O3：0至30%，优选地1至15%，更优选地3.0至6.5%；和/或
X2O：0至30%，优选地1至15%，更优选地2.0至7.2%，其中X选自Na、K、Li，优选地X为Na和/或K；和/或
YO：0至30％，优选地0.1至5％，更优选地0.5至1.0％，其中Y选自Ca、Mg、Ba，优选地Y为Ca和/或Mg。
[00058] 7. 根据前述项目中任一项所述的方法、用途、玻璃元件、涂覆的玻璃元件和/或填充的涂覆玻璃元件，其中，所述玻璃的组成以质量%计由以下组成：
SiO2：30至98%，优选地50至90%，更优选地70.0至74.0%；
B2O3：0至30%，优选地3至20%，更优选地7.0至16.0%；
Al2O3：0至30%，优选地1至15%，更优选地3.0至6.5%；
X2O：0至30%，优选地1至15%，更优选地2.0至7.2%，其中X选自Na、K、Li，优选地X为Na和/或K；
YO：0至30％，优选地0.1至5％，更优选地0.5至1.0％，其中Y选自Ca、Mg、Ba，优选地Y为Ca和/或Mg；以及
优选地不可避免的杂质。
[00059] 8. 根据前述项目中任一项所述的方法、用途、玻璃元件、涂覆的玻璃元件和/或填充的涂覆玻璃元件，其中，所述玻璃的组成以质量%计包括：
SiO2：20至98%，优选地40至75%，更优选地50至65%；和/或
B2O3：0至30%，优选地1至15%，更优选地3至9%；和/或
Al2O3：0至30%，优选地10至20%，更优选地13至18%；和/或
X2O：0至30%，优选地0至5%，更优选地0至3%，其中X选自Na、K、Li，优选地X为Na和/或K；和/或
YO：0至50%，优选地0.1至40%，更优选地10至35%，其中Y选自Ca、Mg、Ba，优选地Y为Ca和/或Mg。
[00060] 9. 根据前述项目中任一项所述的方法、用途、玻璃元件、涂覆的玻璃元件和/或填充的涂覆玻璃元件，其中，所述玻璃的组成以质量%计由以下组成：
SiO2：20至98%，优选地40至75%，更优选地50至65%；
B2O3：0至30%，优选地1至15%，更优选地3至9%；
Al2O3：0至30%，优选地10至20%，更优选地13至18%；
X2O：0至30%，优选地0至5%，更优选地0至3%，其中X选自Na、K、Li，优选地X为Na和/或K；
YO：0至50%，优选地0.1至40%，更优选地10至35%，其中Y选自Ca、Mg、Ba，优选地Y为Ca和/或Mg；以及
优选地不可避免的杂质。
[00061] 10. 根据前述项目中任一项所述的方法、用途、玻璃元件、涂覆的玻璃元件和/或填充的涂覆玻璃元件，其中：
所述玻璃元件是容器，更优选地药物容器，更优选地西林瓶、注射器、安瓿瓶或卡式瓶，更优选地西林瓶。
[00062] 11. 根据前述项目中任一项所述的方法、用途、玻璃元件、涂覆的玻璃元件和/或填充的涂覆玻璃元件，其中：
所述容器的满口容积为0.1ml至1000ml，优选地0.5ml至500ml，更优选地1ml至
250ml，更优选地2ml至30ml，更优选地2ml至15ml，更优选地约1ml、2ml、3ml、4ml、5ml、6ml、
7ml、8ml、9ml、10ml、11ml、12ml、13ml、14ml或15ml；更优选地5至15ml。
[00063] 12. 根据前述项目中任一项所述的方法、用途、玻璃元件、涂覆的玻璃元件和/或填充的涂覆玻璃元件，
优选地，其中，所述玻璃元件为管或容器，更优选地容器，其中，所述玻璃元件包括内表面，其中，所述内表面包括所述玻璃表面的所述至少一部分，优选地是所述玻璃表面的所述至少一部分。
[00064] 13. 根据前述项目中任一项所述的方法、用途、玻璃元件、涂覆的玻璃元件和/或填充的涂覆玻璃元件，
优选地，其中，所述玻璃元件为管或容器，更优选地容器，其中，所述玻璃元件包括外表面，其中，所述外表面包括所述玻璃表面的所述至少一部分，优选地是所述玻璃表面的所述至少一部分。
[00065] 14. 根据前述项目中任一项所述的方法、用途、玻璃元件、涂覆的玻璃元件和/或填充的涂覆玻璃元件，其中：
所述玻璃元件是西林瓶或卡式瓶，所述西林瓶或卡式瓶包括圆筒部、颈部和冠部，其中，至少所述圆筒部的内表面涂覆所述涂层。
[00066] 15. 根据前述项目中任一项所述的方法、用途、玻璃元件、涂覆的玻璃元件和/或填充的涂覆玻璃元件，其中：
所述容器的所述玻璃表面的至少一部分包括所述容器的所述内表面的至少一部分，优选地，当所述容器平稳地立在地面上，且装有体积为所述容器的所述满口容积[vol/vol]的10%以上，优选30%以上，更优选90%以上的液体时，所述容器的所述玻璃表面的至少部分与所述液体接触的表面。
[00067] 16. 根据前述项目中任一项所述的方法、用途、玻璃元件、涂覆的玻璃元件和/或填充的涂覆玻璃元件，其中：
所述玻璃元件是西林瓶或卡式瓶，所述西林瓶或卡式瓶包括圆筒部、颈部和冠部，其中，所述冠部、优选地所述冠部和所述颈部是未经涂覆的；和/或
其中，所述玻璃元件是注射器，所述注射器包括凸缘、圆筒部和尖端，优选地还包括针头，其中，所述针头、优选地所述针头和所述凸缘、更优选地所述针头和所述尖端是未经涂覆的。
[00068] 综上所述，实施例和优选实施例如下。保护范围由权利要求书确定。两个或多个实施例，例如3、4或8个实施例的组合是进一步优选的。本文的定义和一般性陈述优选地也适用于以下实施例和优选实施例。
[00069] 在进一步优选的实施例中，容器的内表面、优选地容器的整个内表面是被涂覆的。因此，药物组合物得到了进一步的保护。在进一步优选的实施例中，容器的外表面是未经涂覆的。在进一步优选的实施例中，容器的内表面、优选地容器的整个内表面被涂覆，而容器的外表面是未经涂覆的。因此，药物组合物得到了进一步的保护。更优选地，如欧洲专利申请EP 21 164 784中的所描述可获得该涂层。