首页 / 光源装置

光源装置实质审查 发明

技术总结

本公开涉及一种光源装置,能够以充分的光量照射所希望的照射区域。光源装置用于对2个以上的照射区域照射光,其具备:多个发光部,在上表面具有发光面;光学透镜,位于发光部的发光面的上方,具备第一面和第二面,第一面包括多个入射区域且位于发光部的发光面侧,多个入射区域与多个发光部分别对应,从该发光部射出的光入射至入射区域,第二面包括与多个入射区域分别对应的多个出射区域且位于与第一面相反侧;以及聚光部,位于发光部与光学透镜之间,具备多个入光部和多个出光部,多个入光部与多个发光部分别对应地设置,入光部覆盖发光部的发光面,多个出光部与多个入光部分别对应地设置,出光部具有比入光部的面积小的面积。

技术研发人员:

冈久强志; 吉田典正

受保护的技术研发主体:

日亚化学工业株式会社

技术申请主体:

日亚化学工业株式会社

技术研发申请日期:

2021-01-22

技术被公开/公告日期:

2024-12-17

当前第3页 第1页 第2页 第3页
冈久强志发明人的其他相关专利技术