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一种碲镉汞红外探测器及其制备方法实质审查 发明

技术总结

本申请涉及红外探测器芯片制备领域,公开了一种碲镉汞红外探测器及其制备方法,包括准备经过离子注入的、表面分布有复合钝化层的碲镉汞晶片;复合钝化层包括层叠的第一钝化层和第二钝化层;去除第二钝化层;在处理后碲镉汞晶片的表面制作图形化光刻胶;在再处理碲镉汞晶片的表面制作新的第二钝化层;去除图形化光刻胶,在新的第二钝化层中形成通孔;刻蚀位于通孔下方的第一钝化层和碲镉汞晶片,形成接触孔;制作电极,得到碲镉汞红外探测器。新的第二钝化层没有被离子注入工艺损伤,可以提升器件性能;采用剥离光刻胶的方式在新的第二钝化层中形成通孔,避免了刻蚀第二钝化层引起的接触孔深度均匀性变差的问题,同时有利于实现低损伤刻蚀工艺。

技术研发人员:

请求不公布姓名

受保护的技术研发主体:

烟台奇创芯源科技有限公司

技术申请主体:

烟台奇创芯源科技有限公司

技术研发申请日期:

2024-08-16

技术被公开/公告日期:

2024-09-20

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