[0001] 本发明涉及离心喷射成形技术领域，尤其是涉及一种防反射离心盘。

[0002] 喷射沉积的原理是在惰性气体的保护下，将熔融金属破碎成细小的金属熔滴，然后在高压气体或离心力的作用下连续喷射到金属基底上，沉积成半凝固的沉积层，依靠金
属基底的热传导使沉积层凝固成预制坯料，预制坯料经热挤压或热锻后形成高致密度的金
属环体。喷射沉积工艺的优势在于，可以制备成分偏析程度小、组织细小均匀、尺寸较大的
环形零件。

[0003] 授权公告号为CN 109877299 B的发明专利公开了一种甩铸装置和甩铸离心盘，该专利中的甩铸装置应用喷射沉积原理实现了金属空心锭的制备。但是在应用中发现，制备
的金属空心锭还不够理想，其主要表现为晶粒组织还不够细小，致密度也不够高。经分析发
现，造成晶粒组织不够细小、致密度不高的原因之一是，从离心盘甩出的熔滴是沿斜向撞击
成形工件的沉积层的，在撞击沉积层后会发生反射。根据喷射成形工艺的要求，熔滴在甩出
过程中需要快速冷却，在撞击沉积层前，要达到呈半凝固状态。

[0004] 参照图1‑2。由图1‑2可以看出，呈半凝固状态的熔滴4在撞击成形工件3的沉积层时会发生反射，只有一部分熔滴熔合在沉积层上，另一部分熔滴4反射而出。如果反射而出
的熔滴4不再撞击沉积层，那么也只是造成材料上的损失，但是大部分的熔滴4经过离心盘1
的反射后，还会再次撞击成形工件3的沉积层。由于多次撞击后的熔滴已丧失了部分动能并
逐渐凝固，再次撞击沉积层后，一方面是熔滴与沉积层的熔合性差、组织疏松，影响致密度；
另一方面撞击动能大幅降低，不能形成细小的晶粒组织。

[0022] 下面参照附图来描述本发明的优选实施方式。本领域技术人员应当理解的是，这些实施方式仅仅用于解释本发明的技术原理，并非旨在限制本发明的保护范围。需要说明
的是，在本发明的描述中，术语“前”、“后”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方向或位置关系的术语是基于附图所示的方向或位置关系，这仅仅是为了便
于描述，而不是指示或暗示所述装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操
作，因此不能理解为对本发明的限制。还需要说明的是，在本发明的描述中，除非另有明确
的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，或是两个元件内部的连通。对于本领域技术人员而言，可根据具体情
况理解上述术语在本发明中的具体含义。

[0023] 如图3所示，一种防反射离心盘，在离心盘1的盘面上沿周向均布设有十条甩液槽12，在盘面的中心设有熔液池11，熔液池11与十条甩液槽12相连。工作时离心盘1旋转，熔液池11内的金属熔液进入甩液槽12内，并在甩液槽12的末端向外倾斜甩出。

[0024] 参照图3‑4。为了将反射而出的熔滴4吸收或捕捉住，使之不再撞击沉积层，在离心盘1的边缘部位包裹有一圈热熔材料2。工作时离心盘1旋转，成形工件3上下移动。熔滴4从
离心盘1上甩出后撞击成形工件3的沉积层并发生反射，反射的熔滴4在撞击热熔材料2后，
被热熔材料2捕获。

[0025] 金属熔滴4是高热的液滴，熔滴4在撞击热熔材料2时，可将热熔材料2瞬间软化，此时熔滴4将镶嵌或穿入热熔材料2内，失去再次反射的动能，使之不再撞击沉积层。这样就从
根本上解决了反射的熔滴4再次撞击沉积层的问题。

[0026] 本实施例中，在离心盘1的边缘部位设有周向环槽，热熔材料2缠绕在周向环槽内。周向环槽的槽宽大于成形工件3的高度，这样可扩大热熔材料2对熔滴4的捕捉区域。

[0027] 热熔材料2为沥青、塑料、热熔胶中的任一者。使用时，可将沥青、塑料、热熔胶等材料可以制成带状，然后包裹在周向环槽上。

[0028] 参照图5。进一步地改进技术方案，在离心盘1内设有冷却腔13，在冷却腔13内通入有冷却液。此外，熔液池11呈筒状，由耐高温绝热材料制成。熔液池11镶嵌在离心盘1上，这样可以防止熔液池11内的金属熔液向离心盘1传递热量。

[0029] 在离心盘1内设有冷却腔13，一方面可使熔滴4得到冷却，在撞击沉积层之前达到半凝固状态；另一方面可降低离心盘1自身的温度，防止热熔材料2被离心盘1融化。

[0030] 热熔材料2需要定期更换，更换下来的热熔材料2内含有凝固的金属材料。为了回收金属材料，可采用热融的方法将热熔材料2去除，过滤出金属材料。

[0031] 未详述部分为现有技术。尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进
行多种变化、修改、替换和变型，本发明的保护范围由所附权利要求及其等同物限定。