技术领域
[0001] 本公开中所描述的技术大体上涉及电子系统，特别是涉及使用确定性系统的集成装置布局优化。
相关背景技术
[0002] 集成电路(Integrated circuit；IC)使用若干设备及/或自动制造工艺来制造。IC布局定义IC的设计。有时，所设计的IC可能不符合设计要求。检查或验证所设计的IC布局符合设计要求可帮助避免制造和/或操作问题。设计越复杂，验证所设计的IC布局就变得越困难。此外，修复一个设计规则违例(violation)可能诱发一个或多个不同的违例。
具体实施方式
[0022] 以下公开提供用于实施所提供主题的不同特征的许多不同实施例或实例。下文描述组件和布置的具体实例以简化本公开。当然，这些只是实例且并不意欲为限制性的。举例来说，在以下描述中，在第二特征上方或第二特征上形成第一特征可包括第一特征与第二特征直接接触地形成的实施例，并且还可包括额外特征可形成在第一特征与第二特征之间，使得第一特征与第二特征可不直接接触的实施例。另外，本公开可在各种实例中重复附图标号和/或字母。这种重复是出于简单和清晰的目的，且本身并不指示所论述的各种实施例和/或配置之间的关系。
[0023] 电子装置布局设计(例如IC布局设计)必须符合若干设计规则以便确保设计是根据其对应的设计来制造。使用设计规则检查(design rule check；DRC)文件(deck)来校验IC布局设计。如果发现布局设计违反DRC文件内的任何规则，那么相应地修改布局设计以校正这种违例(violation)。
[0024] 使用启发式方法来分析和修复装置布局设计是迭代过程，所述迭代过程可为耗时的且可为因人为错误而造成的。使用启发式方法，根据若干设计要求来分析装置布局。设计规则要求可由转译成DRC文件或编程代码的设计规则手册(design rule manual；DRM)定义。由布局工程师来识别DRC文件的要求的任何违例，且由布局工程师通过移动电路的一个或多个组件来人工地校正所述对DRC文件的要求的任何违例。使用这一方法来识别和校正设计规则违例可能需要若干迭代。由于修改电路内的组件的放置，结果对一个违例的校正也可能导致新的违例。
[0025] 本文中所描述的确定性方法包括接收具有若干层的半导体装置的初始布局。在一些情况下，在布局内可能存在一个或多个设计规则违例。使用确定性方法，提取器(extractor)程序可使用DRC文件来进行设计规则要求追踪，以识别电路的彼此相关的层，并生成层与规则关系树(layer and rule relation tree)。层与规则关系树包括若干衍生层，所述衍生层中的每一个标识电路的相关层。将衍生层中的每一个指定为可修改的或固定的。可移动可修改层以便校正违例，而不移动固定层来校正违例。指定与固定层相关联的禁区，以防止额外规则违例。可修改层在布局内相应地移动以校正违例，同时确保没有层侵占禁区。通过移动可修改层来生成的新布局校正初始布局的任何违例且确保新布局没有出现其它违例。
[0026] 图1示出根据本公开的各种实施例的用于修复规则违例的确定性方法的示例性工艺流程图100。装置布局为实体装置的二维几何表示。装置布局包括使用例如图形数据库系统(graphic database system；GDS)或开放工艺图系统交换标准(open artwork system interchange standard；OASIS)格式等任何适用的IC标准格式来表示的若干多边形。图2A到图2B中示出和解释示例性装置布局。在步骤110处，在单元级(cell level)下针对DRC文件分析装置布局以识别是否存在任何规则违例。在分级设计中单元级为最高级。当装置布局设计不符合DRC文件中的一个或多个规则时存在违例。换句话说，针对特定装置布局触发DRC错误标记。
[0027] 在步骤120处，在识别出一个或多个违例的情况下，确定性模型分析受违例影响的各种图层和层与规则关系树。与装置的任何受影响层相关的所有规则均应考虑修复。这包括与可能受另一层的物理移动影响的层相关的任何规则。如图3到图4中更详细描述的，提取层与规则关系树。层与规则关系树通过追踪现有DRM文件或DRC文件内的规则来提取各种规则与层的相依性。在步骤130处，如图5中更详细描述，将所提取的层与规则关系树转换成几何布局，所述几何布局具有禁区，禁区定义其中不能移动装置元件的区域。接着，在步骤140处，基于几何解决方案通过调整布局内的多边形来自动修复违例，以满足设计规则和避免额外规则违例。
[0028] 图2A示出根据本公开的各种实施例的具有违例的示例性装置布局200。装置布局200包括表示装置的元件的若干图层(例如图层L2 202、图层L3204、图层L10 206、图层L12
208以及图层L21 210)。在这一实例中，层L3204与层L10 206之间的水平距离212违反与装置相关联的DRM文件或DRC文件内的设计规则(例如规则#10)(例如层L3 204和层L10 206之间需要更大的距离)。为了修复违例，生成若干衍生层，所述若干衍生层定义包括一个或多个图层，其中对一个图层的物理移动影响另一图层。举例来说，在装置布局200内，层L3 204的移动影响层L2 202。层L3 204的物理移动可导致例如层L2 202与层L3 204之间不交叠。
定义包括层L2 202和层L3两者的衍生层层1 220。将衍生层层2 230定义为图层L10 206的逻辑运算(logic operation；LOP)。另一衍生层层7 240定义成包括图层L21 210和图层L18(未绘示)。相关图层的识别和衍生层的定义在图3到图5中更详细地描述。将装置布局200的这些层指定为在不引起违例的情况下不能物理移动的固定层或可在不引起违例的情况下移动的可修改层。换句话说，固定层在布局200内保持物理上未修改且可修改层可在布局
200内经历修改。基于从装置布局提取的层关系树来确定所述指定，其在图3到图5中详细描述。
[0029] 图2B示出根据本公开的各种实施例的具有修复提示252和修复提示254的示例性装置布局250，修复提示252和修复提示254示出可如何调整装置布局200的各种层以在不诱发额外违例的情况下修复规则#10的违例。借助于实例，基于对来自DRM文件或DRC文件的设计规则和层关系树的分析，将与规则违例相关联的任何层指定为可修改层，所述可修改层为在布局内移动以修复违例的候选者(例如图层L3 204、图层L2 202以及图层L10 206)。将所有其它相对层指定为固定层，所述固定层不是用于移动的候选者(例如图层L12 208和图层L21 210)。修复提示252提供可通过在水平方向上移动图层L10 206以增大层L10 206与层L3 204之间的水平距离212来部分或完全地修复规则#10的违例的指示。然而，层L10 206的移动受到与层L12 208相关联的禁区256的限制。层L10 206可向上移动到禁区256的边界但不能移动到禁区256内的位置。修复提示254提供可通过在水平方向上移动衍生层层1 220以增大层L10 206与层L3 204之间的水平距离212来部分或完全地修复规则#10的违例的指示。然而，衍生层层1 220的移动受到与层L21 210相关联的禁区258的限制。衍生层层1
220可向上移动到禁区258的边界但不能移动到禁区258内的位置。基于修复提示252和修复提示254，可生成具有层L10 206或衍生层层1 220或两者的方向与布局200不同的新布局，使得不再存在规则#10的违例或任何其它规则违例。在新层内，没有层在禁区内突出。图6A到图6C中描述用于修复在布局200、布局250中示出的规则#10违例的可能解决方案。
[0030] 图3示出根据本公开的各种实施例的用于从DRM文件或DRC文件提取层与规则关系树的示例性提取方法300。分解与违例相关联的规则并识别来自对应层的约束。提取方法300为从所违反规则到受影响的图层(例如，受规则#10的违例影响的图层L3 204和图层L10
206)的反向追踪。换句话说，在步骤310处剖析违例规则。与那些层相关联的规则的从上到下的追踪。举例来说，在步骤320处进行针对相关图层的追踪。这种追踪将例如将图层L2202识别为与图层L3 204相关的图层。在步骤330处，进行额外追踪以确定是否有任何其它设计规则与受影响的图层相关。迭代地重复这一过程直到识别出DRM文件或DRC文件内的所有相关规则为止。在步骤350处，在相关规则的提取之后，识别受所违反规则影响的任何额外图层。
[0031] 图4示出根据本公开的各种实施例的示例性的所提取的层关系树400。在步骤410处，识别规则#10的违例，且追踪所述违例在步骤422处影响衍生层层1 220和在步骤424处影响衍生层层2 230。接着针对两个受影响的层(在步骤436和步骤438处针对衍生层层1 220以及在步骤432和步骤434处针对衍生层层2 230)追踪相关规则。举例来说，衍生层层2
230也与影响图层L12 208的规则#123以及影响图层L11(未在图2A到图2B中绘示)的规则#
120相关。衍生层层1 220与影响图层L3 204和衍生层层7 240的规则#4相关。在步骤442处，追踪层7到图层L21 210和图层L18(未绘示)。在步骤452处，在图层L21 210、图层L18(未绘示)、图层L2 202以及图层L3 204之间没有识别到额外相关规则。在步骤444处，衍生层层1
220也与影响衍生层层8的规则#6相关，所述衍生层层8包括图层L2 202和图层L11(未绘示)。接着追踪到衍生层层8与影响图层L3 204和图层L11(未绘示)的规则#54相关。
[0032] 接着使用转译器将在所提取的层关系树400中识别出的规则约束转换成图形树(graph tree)的环境层(environmental layer)。图5示出根据本公开的各种实施例的由转译器生成的示例性图形树500。基于这一转换，可将每一层指定为可修改层或固定层。将所提取的层关系树400的约束应用于固定层。基于规则来从环境层创建禁区。被指定为可修改的层只要不在禁区内移动，其可移动到禁区以外的任何区域，以利于修复违例。使用图形树500来生成衍生层。举例来说，基于规则#10与规则#4之间的相互作用来生成具有图层L2
202和图层L3 204的衍生层层1 210。
[0033] 图6A示出根据本公开的各种实施例的已修复图2A的装置布局200的规则违例的示例性装置布局600。在图6A中，在不侵入禁区256内的情况下，通过将设计层L10 206在水平方向上移动一定距离来修复违例。图6B示出根据本公开的各种实施例的已修复图2A的装置布局200的规则违例的另一示例性装置布局610。图6B中的变化通过在不侵入禁区258内的情况下使衍生层层1 220在水平方向上移动一定距离来修复违例。图6C示出根据本公开的各种实施例的已修复图2A的装置布局200的规则违例的又一示例性装置布局620。在图6C中，在不侵入禁区256、禁区258任一个内的情况下，通过移动设计层L10 206与衍生层层1 220两者(使设计层L10 206在水平方向上移动一定距离以及使衍生层层1 220在水平方向上移动一定距离)来修复违例。层进入禁区表示已出现另一规则违例。
[0034] 装置布局600、装置布局610、装置布局620可为由确定性模型向终端用户自动提议的布局。替代地，装置布局600、装置布局610、装置布局620可为由确定性模型自动生成的布局。在装置布局600、装置布局610、装置布局620中的每一个中，任何移动的层不再违反规则#10或在DRM文件或DRC文件内指定的任何其它规则。任何可修改层移动的上述一定距离可通过检测修复规则违例需要多少距离来确定。举例来说，如果规则#10需要图层L10 206与图层L3 204之间的水平距离大约为0.05微米且水平距离212为0.04微米，那么水平距离212需要增大0.01微米以修复规则违例。图层和/或衍生层可相应地移动以解决图6A到图6C中所描述的违例。移动的优先级可通过移动装置布局的顶部层的部分来应用(例如顶部层具有更高优先级)。
[0035] 图7示出根据本公开的各种实施例的用于修复违例的示例性工艺流程图700。可对照由DRC文件704定义的设计规则来评估半导体装置的初始布局，例如GDS布局702。初始布局包括若干层(例如环境层714)。在步骤706处，识别到规则的违例。如图3到图4中详细地描述，提取器708提取层与规则关系树710。转译器712将层与规则关系树710转译成如图5中所描述的图形树。在步骤716处，基于图形树来创建禁区。在步骤718处，通过以最优方式移动初始设计内的层来优化所述层以修复违例。在一些实例中，对层的优化定位可包括使层移动修复违例所需的最小距离量，同时保持与相邻层的紧密接近度，使得最大可能程度的最小化布局的总面积。这种优化可包括层的面积优化。举例来说，新布局内的不具有违例的层的布置总共占用的面积可小于由初始布局的层所占用的面积。在步骤720处，进行检查以确定层是否与禁区相互作用。如果可修改层的确与禁区相互作用，那么在步骤724处评估布局，以确定是否存在层中的一个或多个层可移动到的额外解决空间(solution space)或距离，以便确保层不与禁区相互作用。如果层不能更进一步移动但仍然与禁区相互作用，那么在步骤726处标记设计布局以用于重新设计。另一方面，如果层不与禁区相互作用，那么在步骤722处设计布局修复违例且无违例。
[0036] 图8示出根据本公开的各种实施例的用于提出对规则违例的修复建议的示例性工艺流程图800。可对照由DRC文件804定义的设计规则来评估半导体装置的初始布局，例如GDS布局802。初始布局包括若干层(例如环境层814)。在步骤806处，识别规则的违例。如图3到图4中详细地描述，提取器808提取层与规则关系树810。转译器812将层与规则关系树810转译成如图5中所描述的图形树。在步骤816处，基于图形树来创建禁区。在这一变化中，生成不同于初始布局的建议布局，所述建议布局标识用于修改可修改层的定向的修复提示818(例如修复提示254、修复提示256)。修复提示确保建议布局内的层未在禁区内突出。用户可根据所提供的修复提示来人工地修改设计布局。
[0037] 图9示出根据本公开的各种实施例的用于修复规则违例的示例性工艺流程图900。可对照由具有严格规则的DRC文件904定义的设计规则来评估半导体装置的初始布局，例如GDS布局902。初始布局包括若干层(例如环境层914)。在步骤906处，识别到规则的违例。如图3到图4中详细地描述，提取器908提取层与规则关系树910。转译器912将层与规则关系树
910转译成如图5中所描述的图形树。在步骤916处，基于图形树来创建禁区。在步骤918处，通过以最优方式移动初始设计内的层来优化所述层以修复违例。在一些实例中，对层的优化定位可包括使层移动修复违例所需的最小距离量，同时保持与相邻层的紧密接近度，使得最大可能程度地最小化布局的总面积。在步骤920处，进行检查以确定层是否与禁区相互作用。如果可修改层的确与禁区相互作用，那么在步骤924处评估布局以确定是否存在层中的一个或多个层可移动到的额外解决方案空间或距离，以便确保层不与禁区相互作用。如果层不能更进一步移动但仍然与禁区相互作用，那么在步骤926处标记设计布局以用于重新设计。进行面积影响评定928以确定在装置布局内需要多少额外面积以修复违例。这可在解决的违例小于100％的情况下发生。可基于面积影响评定来相应地使DRC 904的规则更加严格，以进一步解决违例且可重新运行该工艺。另一方面，如果层不与禁区相互作用，那么在步骤922处设计布局修复违例且无违例。
[0038] 图10示出根据本公开的各种实施例的使用用于装置布局优化的确定性系统的示例性方法的流程图1000。在步骤1010处，接收半导体装置的初始布局，所述初始布局包括(i)多个层和(ii)与多个层中的第一层相关联的第一设计规则的违例。在一些实施例中，在步骤1020处，识别到与第一设计规则相关联的第一设计规则的违例。设计规则编译(compilation)包括与多个层中的每一层相关联的多个设计规则。在步骤1030处，基于多个设计规则来生成多个衍生层。每一衍生层包括半导体装置的一个或多个层，其中对一个层的物理移动影响另一层。在步骤1040处，指定与多个层中的第二层相关联的禁区。禁区定义多个层的物理移动不能侵入的区域。在一些实施例中，在步骤1050处，生成不同于初始布局的建议布局，所述建议布局标识针对多个层的定向的修复，其中建议布局内的层未在禁区内突出。在其它实施例中，在步骤1055处，自动生成具有不同于初始布局的层定向的新布局。在新布局内，(i)建议布局内的层未在禁区内突出且(ii)多个层总共占用的面积小于初始布局中的层所占用的面积。
[0039] 图11示出实例计算机实施环境1100，其中用户1102可通过网络1108与确定性模型1104相互作用以修复如本文中所描述的违例，所述确定性模型1104托管在一个或多个服务器1106上。如图11中所绘示，用户1102可通过若干方式与确定性模型1104相互作用，例如通过一个或多个网络1108。可通过网络1108访问的一个或多个服务器1106可托管确定性模型
1104。一个或多个服务器1106也可含有或可访问用于存储确定性模型1104的数据的一个或多个数据存储区1110。
[0040] 图12为示出用于实施本文中所描述的各种方面的示例计算装置架构的图1200。总线1204可充当互连硬件的其它所示出组件的信息高速公路(information highway)。标记为中央处理单元(central processing unit；CPU)的处理系统1208(例如在给定计算机处或在多个计算机处的一个或多个计算机处理器/数据处理器)可进行执行程序所需的计算和逻辑运算。非暂时性处理器可读存储介质(例如只读存储器(read only memory；ROM)1212和随机存取存储器(random access memory；RAM)1216)可与处理系统1208通信，且可包括用于这里所指定的操作的一个或多个编程指令。可选地，程序指令可存储于非暂时性计算机可读存储介质上，所述非暂时性计算机可读存储介质例如磁盘、光盘、可记录存储器装置、快闪存储器或其它物理存储介质。
[0041] 在一个实例中，磁盘控制器1248可使一个或多个可选磁盘驱动器介接到系统总线1204。这些磁盘驱动器可为外部或内部软盘驱动器(例如软盘驱动器1260)、外部或内部CD-ROM、CD-R、CD-RW或DVD，或固态驱动器(例如固态驱动器1252)，或外部或内部硬盘驱动器
1256。如先前所指示，这些各种磁盘驱动器1252、1256、1260以及磁盘控制器是可选(optional)装置。系统总线1204还可包括至少一个通信端口1220以允许与实体连接到计算系统或通过有线或无线网络可供外部使用的外部装置通信。在一些情况下，通信端口1220包括或另外包括网络接口。
[0042] 为了提供与用户的互动，本文中所描述的主题可实施于计算装置上，所述计算装置具有用于将从总线1204获得的信息显示给用户的显示器装置1240(例如，阴极射线管(cathode ray tube；CRT)或液晶显示器(liquid crystal display；LCD)监视器)和输入装置1232，所述输入装置1232例如键盘和/或指向装置(pointing device)(例如鼠标或轨迹球(trackball))和/或触摸屏(用户可通过所述输入装置1232向计算机提供输入)。其它种类的输入装置1232同样可以用于提供与用户的互动；例如，向用户提供的反馈可以为任何形式的感觉反馈(例如视觉反馈、借助于麦克风1236的听觉反馈，或触觉反馈)；且可以任何形式接收来自用户的输入，所述形式包括声音、语音或触觉输入。在输入装置1232和麦克风1236中可借助于输入装置接口1228耦合到总线1204并经由所述总线1204传递信息。其它计算装置(例如专用服务器)可省略显示器1240和显示器接口1214、输入装置1232、麦克风
1236以及输入装置接口1228中的一个或多个。
[0043] 另外，本文中所描述的方法和系统可通过包括可由装置处理子系统执行的程序指令的程序代码在许多不同类型的处理装置上实施。软件程序指令可包括源代码、目标代码、机器代码或任何其它存储的数据，其为可操作以使得处理系统进行本文中所描述的方法和操作且可以任何合适的语言提供，例如C、C++、JAVA或任何其它合适的编程语言。然而，还可使用其它实施方案，例如配置成实现本文中所描述的方法和系统的固件(firmware)或甚至是适当地设计的硬件。
[0044] 系统的和方法的数据(例如，关联、映射、数据输入、数据输出、中间数据结果、最终数据结果等)可存储和实施于一个或多个不同类型的计算机实施数据存储区中，例如不同类型的存储装置和编程构件(例如，RAM、ROM、快闪存储器、平面文件(flat file)、数据库、编程数据结构、编程变量、IF-THEN(或类似类型)表述构件等)。应注意，数据结构描述用于组织和存储数据库、程序、存储器或由计算机程序使用的其它计算机可读介质中的数据的格式。
[0045] 本文中所描述的计算机组件、软件模块、功能、数据存储区以及数据结构可彼此直接或间接连接以允许数据因其操作所需而流动。还应注意，模块或处理器包括但不限于进行软件操作的代码单元，且可例如实施为代码的子程序单元(subroutine unit)，或实施为代码的软件功能单元，或实施为对象(object)(如在面向对象的范例中)，或实施为小程序，或实施于计算机脚本语言中，或实施为另一类型的计算机代码。软件组件和/或功能性可取决于当前情况而位于单个计算机上或跨多个计算机分布。
[0046] 本文中所描述的各种电路和配置的使用可提供若干优势。举例来说，通过使用本文中所描述的确定性方法，在不诱发新违例的情况下自动修复由装置布局设计诱发的规则违例。可依赖现有DRC文件来检查装置布局设计以避免在这一DRC文件的转译中诱发错误。当使用本文中所描述的确定性方法时，需要极少甚至不需要违例检查和/或设计迭代。少到只需一个迭代来解决任何规则违例。这一方法为严格设计规则要求内的设计影响评定提供系统性方式。
[0047] 在一个实施例中，一种方法包括接收包括多个层的半导体装置的初始布局。识别与多个层中的第一层相关联的第一设计规则的违例。设计规则编译包括与多个层中的每一层相关联的多个设计规则。基于多个设计规则来生成多个衍生层。每一衍生层包括半导体装置的一个或多个层，其中对一个层的物理移动影响另一层。指定与多个层中的第二层相关联的禁区。生成识别针对不同于初始布局的多个层的定向的修复的建议布局。建议布局内的层未在禁区内突出。
[0048] 在上述方法中，进一步包括：提取包括多个衍生层的关系树；以及基于关系树来将多个层中的每一层指定为固定层或可修改层，其中固定层在建议布局内保持物理上未修改且可修改层在建议布局内经历修改。
[0049] 在上述方法中，每一禁区环绕对应的固定层或邻近于对应的固定层。
[0050] 在上述方法中，第一层为可修改层。
[0051] 在上述方法中，进一步包括基于建议布局来生成新布局，新布局具有与初始布局不同地定向的多个层，其中新布局的层不在禁区内突出。
[0052] 在上述方法中，生成多个衍生层包括：识别受第一设计规则影响的第二层，其中用以校正违例的第一层的物理移动引起与第二层相关联的第二设计规则的另一违例；以及将第一层和第二层一起分组成第一衍生层。
[0053] 在上述方法中，设计规则编译包括设计规则手册或设计规则检查程序中的至少一个。
[0054] 在另一实施例中，一种系统包括：一个或多个数据处理器；以及存储器，存储指令，所述指令存储在一个或多个数据处理器上，当执行所述指令时引起操作，所述操作包括：接收包括多个层的半导体装置的布局。布局包括与多个层中的第一层相关联的第一设计规则的违例。基于与多个层相关联的设计规则编译的多个设计规则来生成多个衍生层。每一衍生层包括半导体装置的一个或多个层，其中对一个层的物理移动影响另一层。指定与多个层中的第二层相关联的禁区。生成标识多个层中的一些层的不同于布局的新定向的建议布局。建议布局内的层未在禁区内突出。
[0055] 在上述系统中，所述操作进一步包括：提取包括多个衍生层的关系树；以及基于关系树来将多个层中的每一层指定为固定层或可修改层，其中固定层在建议布局内保持物理上未修改且可修改层在建议布局内经历修改。
[0056] 在上述系统中，每一禁区环绕对应的固定层或邻近于对应的固定层。
[0057] 在上述系统中，第一层为可修改层。
[0058] 在上述系统中，操作进一步包括基于建议布局来生成新布局，新布局具有与布局不同地定向的多个层，其中新布局的层不在禁区内突出。
[0059] 在上述系统中，生成多个衍生层包括：识别第二层受第一设计规则影响，其中用以校正违例的第一层的物理移动引起与第二层相关联的第二设计规则的另一违例；以及将第一层和第二层一起分组成第一衍生层。
[0060] 在上述系统中，设计规则编译包括设计规则手册或设计规则检查程序中的至少一个。
[0061] 在又一实施例中，一种方法包括接收半导体装置的包括多个层的初始布局。识别与多个层中的第一层相关联的第一设计规则的违例。设计规则编译包括与多个层中的每一层相关联的多个设计规则。基于多个设计规则来生成多个衍生层，其中每一衍生层包括半导体装置的一个或多个层，其中对一个层的物理移动影响另一层。指定与多个层中的第二层相关联的禁区。自动生成标识针对不同于所述初始布局的多个层的定向的修复的新布局，其中(i)建议布局内的层未在所述禁区内突出且(ii)所述新布局的组件总共占用的面积小于所述初始布局中的所述组件所占用的面积。
[0062] 在上述方法中，进一步包括：提取包括所述多个衍生层的关系树；以及基于所述关系树来将所述多个层中的每一层指定为固定层或可修改层，其中所述固定层在所述建议布局内保持物理上未修改且所述可修改层在所述建议布局内经历修改。
[0063] 在上述方法中，每一禁区环绕对应的固定层或邻近于所述对应的固定层。
[0064] 在上述方法中，所述第一层为可修改层。
[0065] 在上述方法中，生成所述多个衍生层包括：识别第二层受所述第一设计规则影响，其中用以校正所述违例的所述第一层的物理移动引起与所述第二层相关联的第二设计规则的另一违例；以及将所述第一层和所述第二层一起分组成第一衍生层。
[0066] 在上述方法中，所述设计规则编译包括设计规则手册或设计规则检查程序中的至少一个。
[0067] 前文概述若干实施例的特征以使得本领域的技术人员可更好地理解本公开的方面。本领域的技术人员应了解，其可容易地将本公开用作设计或修改用于实现本文中所引入的实施例的相同目的及/或达成相同优势的其它工艺和结构的基础。本领域的技术人员还应认识到，这种等效构造并不脱离本公开的精神和范围，且其可在不脱离本公开的精神和范围的情况下在本文中进行各种改变、替代以及更改。
