[0001] 本申请要求基于2017年7月27日提交的韩国专利申请第10-2017-0095464号和2018年7月26日提交的韩国专利申请第10-2018-0087288号的优先权权益，其公开内容通过引用整体并入本文。

[0002] 本申请涉及基板。

[0003] 已知能够通过在两个基板之间设置光调制层来调节光的透射率或颜色的光学装置。例如，在专利文献1中，已知应用液晶主体和二色性染料客体的混合物的所谓的GH单元(guest host cell，宾主单元)。

[0004] 在这样的装置中，所谓的间隔物位于基板之间以保持两个基板之间的间隔。

[0005] [现有技术文献]

[0006] [专利文献]

[0007] 专利文献1：欧洲专利公开第0022311号

[0106] 在下文中，将通过实施例的方式具体地描述本申请，但本申请的范围不受以下实施例限制。

[0107] 实施例1

[0108] 间隔物排列的设计

[0109] 使用随机数坐标生成程序(CAD)以以下方式设计具有约10％的不规则度的间隔物排列图案。首先，假设以127μm的恒定间隔(标准间距)在总面积为约10mm的基础层上设置100个间隔物的状态，如图5所示(标准排列状态)。此时，各个间隔物的底部的截面面积为约
27μm，高度为约10μm。然后，如图5所示，在通过选择四个间隔物形成的正方形中，设定程序使得各个间隔物基于各间隔物在半径为标准间距的10％(0.1P)的圆形区域中随机移动，并且移动各个间隔物以形成间隔物排列图案。图6是如上所设计的间隔物排列的实例。如图6所示，当选择四个间隔物使得在间隔物的排列中形成作为闭合图形的四边形并且测量每个边的长度时，四边形的边的长度中的至少一者不同。此外，作为闭合图形的四边形的所有边长中的最小长度为约87μm，最大长度为约113μm。在图6中，当选择具有标准间距(P)的10倍(10P)的长度作为一条边的12个正方形区域使得区域彼此不重叠时，每个正方形区域中的间隔物的平均数量为100，标准偏差为约0。此外，当将图6所示的基础层的表面划分为具有相同面积的四个矩形区域时，每个矩形区域中的间隔物的平均数量为24.1，标准偏差为约
1.7。图7是具有与上述相同排列的间隔物的间隔正态分布图，其中分布图中的半高面积为约0.71，半高宽(FWHM)为约14.19，平均间距(Pm)为约127μm，最大高度(Fmax)为约0.095。

[0110] 间隔物的形成

[0111] 作为基础层(图10中的100)，使用其中在PC(聚碳酸酯)膜上形成有结晶ITO(氧化铟锡)层作为电极层的基础层。虽然根据形成柱状间隔物的常规方法在基础层上形成间隔物，但通过使间隔物形成为使得排列遵循所设计的方式来制造基板。通过将由此制造的基板放置在普通商用监视器上的方法来评估莫尔现象的发生。图8是确定以上述方法评估的莫尔现象是否发生的结果，图9是根据上述标准排列状态对其上形成有间隔物的基板进行测量的结果。根据图8和图9的结果可以确定，通过控制间隔物的排列状态，可以抑制莫尔现象的发生。

[0112] 实施例2

[0113] 以与实施例1中相同的方式设计间隔物排列，条件是设计间隔物排列使得不规则度为50％(设定程序使得各个间隔物在半径为标准间距的50％(0.5P)的圆形区域中随机移动并移动各个间隔物)。此外，作为闭合图形的四边形的所有边的最小长度为约36μm，最大长度为约164μm。

[0114] 图10是如上所设计的间隔物排列的实例。如图10所示，当选择四个间隔物使得在间隔物的排列中形成作为闭合图形的四边形并且测量每个边的长度时，四边形的边的长度中的至少一者不同。此外，在图10中，当选择具有标准间距(P)的10倍(10P)的长度作为一条边的12个正方形区域使得区域彼此不重叠时，每个正方形区域中的间隔物的平均数量为100，标准偏差为约0。此外，当将图10所示的基础层的表面划分为具有相同面积的四个矩形区域时，每个矩形区域中的间隔物的平均数量为24.4，标准偏差为约1.2。图11是具有与上述相同排列的间隔物的间隔正态分布图，其中分布图中的半高面积为约0.68，半高宽(FWHM)为约53.58，平均间距(Pm)为约127μm，最大高度(Fmax)为约0.019。

[0115] 图12是使用以上述方式形成的基板以与实施例1中相同的方式评估是否发生莫尔现象的结果，可以确定与实施例1中一样抑制莫尔现象的发生。

[0116] 实施例3

[0117] 以与实施例1中相同的方式设计间隔物排列，条件是设计间隔物排列使得不规则度为70％(设定程序使得各个间隔物在半径为标准间距的70％(0.7P)的圆形区域中随机移动并移动各个间隔物)。此外，作为闭合图形的四边形的所有边的最小长度为约11μm，最大长度为约189μm。

[0118] 图13是如上所设计的间隔物排列的实例。如图13所示，当选择四个间隔物使得在间隔物的排列中形成作为闭合图形的四边形并且测量每个边的长度时，四边形的边的长度中的至少一者不同。此外，在图13中，当选择具有标准间距(P)的10倍(10P)的长度作为一条边的12个正方形区域使得区域彼此不重叠时，每个正方形区域中的间隔物的平均数量为99.5，标准偏差为约0.9。此外，当将图13所示的基础层的表面划分为具有相同面积的四个矩形区域时，每个矩形区域中的间隔物的平均数量为23.1，标准偏差为约1.7。图14是具有与上述相同排列的间隔物的间隔正态分布图，其中分布图中的半高面积为约0.64，半高宽(FWHM)为约77.09，平均间距(Pm)为约127μm，最大高度(Fmax)为约0.016。

[0119] 图15是使用以上述方式形成的基板以与实施例1中相同的方式评估是否发生莫尔现象的结果，可以确定与实施例1中一样抑制莫尔现象的发生。

[0120] 图16是以与实施例1中相同的方式对实施例3评估是否发生外观缺陷的照片。

[0121] 实施例4

[0122] 以与实施例1中相同的方式设计间隔物排列，条件是设计间隔物排列使得不规则度为70％(设定程序使得各个间隔物在半径为标准间距的70％(0.7P)的圆形区域中随机移动并移动各个间隔物)。此外，作为闭合图形的四边形的所有边的最小长度为约59μm，最大长度为约447μm。

[0123] 如上所设计的间隔物排列与图13所示的间隔物排列几乎类似。即，如图13所示，即使在实施例4的情况下，当选择四个间隔物使得在间隔物的排列中形成作为闭合图形的四边形并且测量每个边的长度时，四边形的边的长度中的至少一者不同。此外，在如图13所示的形式中，当选择具有标准间距(P)的10倍(10P)的长度作为一条边的12个正方形区域使得区域彼此不重叠时，每个正方形区域中的间隔物的平均数量为99.5，标准偏差为约0.9。此外，当将图13所示的基础层的表面划分为具有相同面积的四个矩形区域时，每个矩形区域中的间隔物的平均数量为23.1，标准偏差为约1.7。图17是具有与上述相同排列的间隔物的间隔正态分布图，其中分布图中的半高面积为约0.64，半高宽(FWHM)为约181.42，平均间距(Pm)为约277μm，最大高度(Fmax)为约0.0061。

[0124] 图18是使用以上述方式形成的基板以与实施例1中相同的方式评估是否发生莫尔现象的结果，可以确定与实施例1中一样抑制莫尔现象的发生。

[0125] 图19是以与实施例1中相同的方式对实施例4评估是否发生外观缺陷的照片。

[0126] 比较例1

[0127] 以与实施例1中相同的方式设计间隔物排列，条件是设计间隔物排列使得不规则度为70％(设定程序使得各个间隔物在半径为标准间距的70％(0.7P)的圆形区域中随机移动并移动各个间隔物)。此外，作为闭合图形的四边形的所有边的最小长度为约89μm，最大长度为约616μm。

[0128] 如上所设计的间隔物排列与图13所示的间隔物排列几乎类似。即，如图13所示，即使在比较例1的情况下，当选择四个间隔物使得在间隔物的排列中形成作为闭合图形的四边形并且测量每个边的长度时，四边形的边的长度中的至少一者不同。此外，当选择具有标准间距(P)的10倍(10P)的长度作为一条边的12个正方形区域使得区域彼此不重叠时，每个正方形区域中的间隔物的平均数量为99.5，标准偏差为约0.9。此外，当将图13所示的基础层的表面划分为具有相同面积的四个矩形区域时，每个矩形区域中的间隔物的平均数量为23.1，标准偏差为约1.7。

[0129] 图20是使用以上述方式形成的基板以与实施例1中相同的方式评估是否发生莫尔现象的结果，可以确定与实施例1中一样抑制莫尔现象的发生。

[0130] 图21是以与实施例1中相同的方式对比较例1评估是否发生外观缺陷的照片，从图中可以确定大量产生外观缺陷。

[0131] 比较例2

[0132] 以与实施例1中相同的方式设计间隔物排列，条件是设计间隔物排列使得不规则度为70％(设定程序使得各个间隔物在半径为标准间距的70％(0.7P)的圆形区域中随机移动并移动各个间隔物)。此外，作为闭合图形的四边形的所有边的最小长度为约119μm，最大长度为约786μm。

[0133] 如上所设计的间隔物排列与图13所示的间隔物排列几乎类似。即，如图13所示，即使在比较例2的情况下，当选择四个间隔物使得在间隔物的排列中形成作为闭合图形的四边形并且测量每个边的长度时，四边形的边的长度中的至少一者不同。此外，当选择具有标准间距(P)的10倍(10P)的长度作为一条边的12个正方形区域使得区域彼此不重叠时，每个正方形区域中的间隔物的平均数量为99.5，标准偏差为约0.9。此外，当将图27所示的基础层的表面划分为具有相同面积的四个矩形区域时，每个矩形区域中的间隔物的平均数量为23.1，标准偏差为约1.7。

[0134] 图22是使用以上述方式形成的基板以与实施例1中相同的方式评估是否发生莫尔现象的结果，可以确定与实施例1中一样抑制莫尔现象的发生。

[0135] 图23是以与实施例1中相同的方式对比较例1评估是否发生外观缺陷的照片，从图中可以确定大量产生外观缺陷。

[0136] 比较例3

[0137] 以与实施例1中相同的方式设计间隔物排列，条件是设计间隔物排列使得不规则度为70％(设定程序使得各个间隔物在半径为标准间距的70％(0.7P)的圆形区域中随机移动并移动各个间隔物)。此外，作为闭合图形的四边形的所有边的最小长度为约134μm，最大长度为约872μm。

[0138] 如上所设计的间隔物排列与图13所示的间隔物排列几乎类似。即，如图13所示，即使在比较例3的情况下，当选择四个间隔物使得在间隔物的排列中形成作为闭合图形的四边形并且测量每个边的长度时，四边形的边的长度中的至少一者不同。此外，在图31中，当选择具有标准间距(P)的10倍(10P)的长度作为一条边的12个正方形区域使得区域彼此不重叠时，每个正方形区域中的间隔物的平均数量为99.5，标准偏差为约0.9。此外，当将图31所示的基础层的表面划分为具有相同面积的四个矩形区域时，每个矩形区域中的间隔物的平均数量为23.1，标准偏差为约1.7。

[0139] 图24是使用以上述方式形成的基板以与实施例1中相同的方式评估是否发生莫尔现象的结果，可以确定与实施例1中一样抑制莫尔现象的发生。

[0140] 图25是以与实施例1中相同的方式对比较例1评估是否发生外观缺陷的照片，从图中可以确定大量产生外观缺陷。