技术领域
[0002] 本发明涉及一种透明电极复合体。
相关背景技术
[0003] 透明电极膜被定义为对可见光透明并具有导电性的薄膜，用于等离子显示面板、液晶显示元件、发光二极管元件、有机电子发光元件、触控面板、太阳能电池等多种领域。
[0004] 这种透明电极膜的制造方法广泛使用如下方法：在PET膜等基材上放置干膜阻焊剂，并按曝光、显影及蚀刻的工艺顺序制造形成有预定图案的电极。但是，使用干膜阻焊剂时，存在难以实现线宽40μm以下的局限性，为消除此局限性，使用了在导电性基材上涂布光阻剂，并进行曝光及显影以制造透明电极膜的方法。
[0005] 如此制造的透明电极膜在所述导电性基材和光阻层之间形成预定保护层，已知保护层对所述导电性基材及光阻层所具有的结合力不仅要大，还要具有低电阻值，而且相邻层之间的界面电阻也应达到较低水平。
具体实施方式
[0037] 以下实施例中对本发明进一步详细说明。只是，以下实施例仅用于例示本发明，本发明的内容并不限于下述实施例。
[0038] [第一制造例：电极层的制造]
[0039] 将聚3,4-二氧乙基噻吩:聚苯乙烯磺酸(PEDOT:PSS，Poly(3,4-ethylenedioxythiophene):Polystyrene sulfonate，固形物1wt％)、IPA(异丙醇)、MeOH(甲醇)及DMSO(二甲基亚砜)以75:15:5:5的重量比混合后，相对于所述混合物加入500ppmw的表面调节剂，即Dynol607进行搅拌。
[0040] 搅拌完毕后，将混合物利用棒涂机涂布于PET基材上，再进行热风干燥(110℃/60秒)，制成厚度为0.096μm的电极层。最终制成的电极层的片电阻为240Ω/sq。
[0041] [第二制造例：电极层的制造]
[0042] 将聚3,4-二氧乙基噻吩:聚苯乙烯磺酸(PEDOT:PSS，Poly(3,4-ethylenedioxythiophene):Polystyrene sulfonate，固形物0.35wt％]、纳米银线分散液(1wt％，水(water))、IPA(异丙醇)、D.I water(去离子水)及EG(乙二醇)以28.5:10:10:
41.5:10的重量比混合后，相对于所述混合物加入500ppmw的表面调节剂，即3MFC-4330进行搅拌。
[0043] 搅拌完毕后，将混合物利用棒涂机涂布于PET基材上，再进行热风干燥(110℃/60秒)，制成厚度为0.055μm的电极层。最终制成的电极层的片电阻为60Ω/sq。
[0044] [实施例及比较例：电极膜的制造]
[0045] 实施例1
[0046] (1)聚硅氧烷类高分子层的形成
[0047] 将TEOS(四乙氧基硅烷)16.08g、PTMS(苯基三甲氧基硅烷)4.02g、水23.55g、IPA(异丙醇)54.95g、醋酸1.4g混合后，在70℃的温度下反应3小时制成溶胶-凝胶反应溶液100g(固形物7.8wt％)，将制成的溶胶-凝胶反应溶液和异丙醇以1:4的重量比稀释制成溶胶-凝胶反应溶液500g(固形物1.56wt％)。
[0048] 将所述溶胶-凝胶反应溶液(固形物1.56wt％)利用棒涂机以11.43μm的厚度涂布于第一制造例中获得的电极层上，然后在热风条件下在120℃的温度下干燥10分钟，以形成厚度为0.178μm的聚硅氧烷类高分子层(片电阻：260Ω/sq)。
[0049] (2)光敏树脂层的形成
[0050] 将东进世美肯生产的SJ-631型号光阻剂(Positive Type)(10cP，固形物23wt％)利用棒涂机涂布于所述形成的聚硅氧烷类高分子层上，然后在120℃的温度下干燥1分钟，以制成厚度约2.62μm的光敏树脂层。
[0051] 实施例2
[0052] (1)聚硅氧烷类高分子层的形成
[0053] 将TEOS(四乙氧基硅烷)16.08g、VTMS(乙烯基三甲氧基硅烷)4.02g，水23.55g、IPA(异丙醇)54.95g及醋酸1.4g混合后，在70℃的温度下反应3小时制成溶胶-凝胶反应溶液100g(固形物7.2wt％)，并将制成的溶胶-凝胶反应溶液和异丙醇以1:4的重量比稀释制成溶胶-凝胶反应溶液500g(固形物1.44wt％)。
[0054] 将所述溶胶-凝胶反应溶液(固形物1.44wt％)利用棒涂机以11.43μm的厚度涂布于第一制造例中获得的电极层上，然后在热风条件下在120℃的温度下干燥10分钟，以形成厚度为0.165μm的聚硅氧烷类高分子层(片电阻：265Ω/sq)。
[0055] (2)光敏树脂层的形成
[0056] 将东进世美肯生产的SJ-631型号光阻剂(Positive Type)(10cP,固形物23wt％)利用棒涂机涂布于所述形成的聚硅氧烷类高分子层上，然后在120℃温度下干燥1分钟，以制成厚度约2.62μm的光敏树脂层。
[0057] 实施例3
[0058] (1)聚硅氧烷类高分子层的形成
[0059] 将实施例2中制成的聚硅氧烷类溶胶-凝胶反应溶液(固形物1.44wt％)利用棒涂机以11.43μm的厚度涂布于第二制造例中获得的电极层上，然后在热风条件下在120℃的温度下干燥10分钟，以形成厚度为0.165μm的聚硅氧烷类高分子层(片电阻：80Ω/sq)。
[0060] (2)光敏树脂层的形成
[0061] 将东进世美肯生产的SJ-631型号光阻剂(Positive Type)(10cP，固形物23wt％)利用棒涂机涂布于所述形成的聚硅氧烷类高分子层上，然后在120℃温度下干燥1分钟，以制成厚度约2.62μm的光敏树脂层。
[0062] 实施例4至实施例6
[0063] 将涂布有粘合剂的PET膜(厚度25μm)置于所述实施例1、实施例2及实施例3中分别形成的电极层-聚硅氧烷类高分子层-光敏树脂层的复合体上，并在室温下施加0.45Mp的压力，以压接在所述光敏树脂层的外表面上。
[0064] 比较例1
[0065] (1)聚硅氧烷类高分子层的形成
[0066] 将TEOS(四乙氧基硅烷)20.01g、水23.55g、IPA(异丙醇)54.95g及醋酸1.4g混合后，在70℃的温度下反应3小时制成溶胶-凝胶反应溶液100g(固形物7wt％)，将制成的溶胶-凝胶反应溶液和异丙醇以1:4的重量比稀释制成溶胶-凝胶反应溶液500g(固形物1.4wt％)。
[0067] 将所述溶胶-凝胶反应溶液(固形物1.4wt％)利用棒涂机以11.43μm的厚度涂布于由所述制造例获得的电极层上，然后在热风条件下在120℃的温度下干燥10分钟，以形成厚度为0.160μm的聚硅氧烷类高分子层(片电阻：256Ω/sq)。
[0068] (2)光敏树脂层的形成
[0069] 将东进世美肯生产的SJ-631型号光阻剂(Positive Type)(10cP，固形物23wt％)利用棒涂机涂布于所述形成的聚硅氧烷类高分子层上，然后在120℃温度下干燥1分钟，以制成厚度约2.62μm的光敏树脂层。
[0070] [实验例：对电极膜物理特性的评价]
[0071] 实验例1：测量接触角
[0072] 对于所述实施例1至实施例3及比较例1中获得的聚硅氧烷类高分子层对水的接触角，利用数字视频接触角分析器(SEO公司，型号phoenix-10)测量了静态接触角(static contact angle method)。
[0073] 实验例2：涂覆性及附着性的评价
[0074] 对所述实施例1至实施例3及比较例1中获得的光敏树脂层利用曝光装置(MA-6)照射50mJ的紫外线后，利用显影液DPD-200(东进世美肯生产)在室温下显影35秒，再利用剥离液ST-09(东进世美肯生产)在室温下进行剥离(去除)过程50秒。
[0075] 此时，在所述图案形成过程中，基于图案的线宽是否被去除来评价涂覆性及附着性，在下表1中，符号○表示图案维持，符号×表示图案被去除，实际形成的图案外形显示于图2中。
[0076] 【表1】
[0077]
[0078] 如上表1所示，实施例1至3的电极膜由于包含接触角为60度以上的聚硅氧烷类高分子层，更能坚固且容易地与光敏树脂层结合，因此可以确保得到提高的涂覆性及附着性。相反，比较例1的电极膜的聚硅氧烷类高分子层和光敏树脂层之间的结合力不够充分，从而导致所形成的图案难以附着或部分形状无法维持。
