[0001] 本发明涉及一种用于清洗电动剃刀等小型电气设备的清洗装置。

[0002] 以往，已知如下一种技术：通过在含有气泡的液体中进行放电来使气泡产生自由基等以重整液体(例如参照专利文献1)。在专利文献1所公开的水中放电方法中，对在放电容器内的水中以非接触状态相对配置的电极施加交流脉冲电压，通过在电位反转时感应出而在放电容器内产生的电场来进行水中放电。通过这样进行水中放电，气泡中产生有效成分，含有该气泡的液体被重整。

[0003] 专利文献1：日本特开2001-9463号公报

[0022] 下面，参照附图来详细说明本发明的实施方式。

[0023] 本实施方式所涉及的清洗净化装置是以使用能够高效地大量产生自由基的等离子体发生装置1为前提的。因此，首先，详细说明该等离子体发生装置1。

[0024] 《等离子体发生装置》

[0025] 本实施方式所涉及的等离子体发生装置1如图1所示那样具备大致圆筒状的壳体构件2。壳体构件2的形状并不限于圆筒状，例如也可以为方筒状。在壳体构件2的内侧配置有陶瓷构件3，由该陶瓷构件3对壳体构件2的内部空间进行上下分割。壳体构件2的内部空间中的陶瓷构件3的上侧的区域成为容纳含水的液体17的液体容纳部4。另一方面，陶瓷构件3的下侧的区域成为容纳气体的气体容纳部5。这样，陶瓷构件3相当于将液体容纳部4和气体容纳部5隔开的隔离壁部。

[0026] 在液体容纳部4的外周端部安装有堵塞壳体构件2与陶瓷构件3的间隙的环状的密封构件6。由此，液体容纳部4内的液体17不会从壳体构件2与陶瓷构件3之间的间隙漏出到气体容纳部5内。

[0027] 在壳体构件2的顶壁部(液体容纳部4侧的壁部)2a设置有向液体容纳部4导入液体17的液体导入口7。另外，设置有将导入到液体容纳部4内的液体17送出到外部的液体排出口8。

[0028] 在壳体构件2的侧壁2b的下部设置有将气体容纳部5与外部连通的气体导入口9。在该气体导入口9中贯穿有配管(气体导入路径)10，经由配管10将气体容纳部5与气体供给部11相连接。在本实施方式中，将至少含氧(O2)的气体从气体供给部11供给到气体容纳部5内。在陶瓷构件3上形成有气体通路3a。因此，从气体供给部11导入到气体容纳部5内的气体等经过该气体通路3a而被送出到液体容纳部4内。

[0029] 这样，气体供给部11具有以下的功能：以经由气体通路3a向液体容纳部4加压输送气体容纳部5的气体的方式向气体容纳部5供给至少含氧的气体。在本实施方式中，将气体通路3a的孔径设为约1μm～10μm左右，使得液体容纳部4所容纳的液体17不会从气体通路3a漏出到气体容纳部5内。

[0030] 另外，等离子体发生装置1具备第一电极12和第二电极13。第一电极12被配置于气体容纳部5。第二电极13被配置成与第一电极12隔开距离，且至少与第一电极12成对的一侧的部分与液体容纳部4中的液体17相接触。具体地说，将环状的第一电极12和环状的第二电极13分别配置在气体容纳部5和液体容纳部4中。

[0031] 环状的第一电极12如图1所示那样在陶瓷构件3的气体容纳部5侧的表面3b被配置成中心为气体通路3a。该第一电极12的表面被电介质(未图示)所覆盖。另外，第二电极13以至少与第一电极12成对的一侧的部分与液体容纳部4中的液体17相接触的方式配置于液体容纳部4。该第二电极13也被配置成中心为气体通路3a。即，第一电极12和第二电极13被配置成同心状。

[0032] 这样，通过将环状的第一电极12配置于气体容纳部5，使得第一电极12与被导入到液体容纳部4的液体17不接触。另一方面，通过将环状的第二电极13配置于液体容纳部4，使得第二电极13(至少包括与第一电极12成对的一侧的部分)与被导入到液体容纳部4的液体17相接触。

[0033] 而且，第一电极12以及第二电极13分别经由引线14与等离子体电源部15(参照图1)电连接，在该第一电极12与第二电极13之间施加规定的电压。此外，如图2所示，通过使位于液体17中的第二电极13侧的电位低于位于气体中的第一电极12侧的电位，能够避免触电的危险性。

[0034] 接着，对等离子体发生装置1的动作以及羟基自由基的生成方法进行说明。

[0035] 首先，以经由气体通路3a向液体容纳部4加压输送气体容纳部5的气体的方式将含氧的气体供给到气体容纳部5(供给气体的步骤)。在本实施方式中，如图1所示，将以空气为基础而含氧的气体(流量约0.01L/min～1.0L/min(10cc/min～1000cc/min))从气体供给部11经由配管10送入到气体容纳部5。此时，送入气体的压力约为0.0098MPa～2 2
0.49MPa(0.1kgf/cm ～5kgf/cm)左右。

[0036] 这样，气体供给部11具备供给大气中的气体(空气)的功能。此外，气体的供给流量是由设置于气体供给部11的流量控制部来控制的。也可以在气体供给部11中设置不仅能够供给大气中的气体还能够供给其它种类的气体(例如，氧浓度不同的气体)的功能。由此，能够从各种气体中选择性地供给一种或者多种气体。

[0037] 通过将气体供给到气体容纳部5，气体容纳部5的压力变为大气压加上该压力的2 2
约0.11MPa～0.59MPa(1.1kgf/cm ～6kgf/cm)左右，成为正压状态。通过使气体容纳部
5为正压，形成从气体容纳部5经过气体通路3a流向液体容纳部4的气流。另外，通过使气体容纳部5为正压，也抑制了液体容纳部4所容纳的液体17从气体通路3a漏出到气体容纳部5内。然后，通过如上所述那样供给含氧的气体，如图3所示，在气体通路3a的液体容纳部4侧(图1的上侧)的开口端3c，含氧的气泡16生长(生长气泡的步骤)。

[0038] 接着，由等离子体电源部15对第一电极12和第二电极13施加规定的电压。该电压优选为能够在大气压下辉光放电的电压(功率：约10W～100W左右)。通过对第一电极12和第二电极13施加规定的电压，在大气压或者大气压以上的压力的气体环境下，在第一电极12与第二电极13之间产生放电。通过该放电，在液体容纳部4的液体17中的气体区域处生成等离子体，基于液体中含有的水、气体中含有的氧来生成臭氧、羟基自由基等(生成羟基自由基的步骤)。此外，关于在大气压下生成等离子体的技术，例如在文献A(岡崎幸子，“大気圧グロー放电プラズマとその応用”，评论演讲：20th JSPFAnnual Meeting)中有所报告。

[0039] 在本实施方式中，使气泡16内的气体(液体容纳部4的液体17中的气液边界面附近的气体)产生电位差来生成等离子体。这样，通过使易于生成羟基自由基的气液边界面的附近(气体通路3a的面向液体17的开口端3c附近)产生电位差，能够生成更多的臭氧、羟基自由基等。即，不只是在气体通路3a的面向液体17的开口端3c附近的气泡16处，在送出到液体容纳部4的气泡16内也能够生成臭氧、羟基自由基等。

[0040] 这样生成的臭氧、羟基自由基等随着上述的气流而被送出到液体容纳部4。通过液体容纳部4内的液体17的流动，将含有羟基自由基等的气泡16从陶瓷构件(隔离壁部)3切断来释放到液体17中(气泡释放步骤)。具体地说，在气泡16生长的液体容纳部4中，通过导入液体17来产生液体17的流动(参照图3和图4的箭头18)。如图4所示，当沿箭头18方向流动的液体17撞上生长的气泡16时，液体17的流动作为切断力作用于气泡16，使气泡16从开口端3c释放到液体17中。被释放到液体17中的气泡16是微小气泡，因此不会立即被释放到大气中而会扩散到液体17的各个角落。而且，扩散后的微小气泡16的一部分容易溶解到液体17中。此时，气泡16中含有的臭氧等溶解到液体17中，由此液体的臭氧浓度会直线上升。

[0041] 另外，根据文献B(高橋正好，“マイクロバブルとナノバブルによる水环境の改善”，Aqua网络，2004.6)，报告了以下内容：通常含有臭氧、各种自由基的微小气泡16大多带负电。因此，气泡16的其它一部分容易吸附于液体17中含有的有机物、油脂物、染料、蛋白质、细菌等(未图示)。液体17中的有机物等被溶解于液体17中的臭氧或者各种自由基、吸附在有机物等上的气泡16所含有的臭氧或者各种自由基等分解。

[0042] 例如，羟基自由基等具有约120kcal/mol左右的比较大的能量。该能量超过了氮原子和氮原子的双键(N=N)、碳原子和碳原子的双键(C=C)或者碳原子和氮原子的双键(C=N)等的键能(～100kcal/mol)。因此，由氮、碳等键合而成的有机物等会被该羟基自由基等容易地切断其键而分解。有助于这种有机物等的分解的臭氧、羟基自由基等没有氯等那样的残留性而会随着时间消失，因此也是照顾到环境的物质。

[0043] 这样，在本实施方式所涉及的等离子体发生装置1中，将第一电极12配置于气体容纳部5，并且将第二电极13配置成至少与第一电极12成对的一侧的部分与液体容纳部4中的液体相接触。然后，通过在第一电极12与第二电极13之间产生放电，来在液体容纳部4中的液体17内的气体区域处生成等离子体，基于液体17中含有的水和气体中含有的氧来生成羟基自由基。根据这种结构和方法，能够不那么受液体17的电阻的影响地使第一电极
12与第二电极13之间产生放电。因此，能够更可靠地将气体等离子体化，能够更稳定地大量生成臭氧、自由基等。

[0044] 另外，根据本实施方式，对液体容纳部4导入液体17，在通过陶瓷构件3划分出的气体容纳部5中配置用于生成等离子体的第一电极12。因此，第一电极12完全不与液体17接触，不会受到液体17的电阻的影响。由此，能够使第一电极12与第二电极13之间稳定地产生放电，能够将被导入到气体容纳部5的含氧的气体可靠地等离子体化，来基于水和氧稳定地生成臭氧或者羟基自由基等。

[0045] 另外，在本实施方式中，在气泡16内的气体(液体容纳部4的液体17中的气液边界面附近的气体)中生成臭氧、羟基自由基等。然后，含有臭氧、羟基自由基等的气体作为微小气泡16扩散到液体17中。由此，能够在产生臭氧、各种自由基之后且它们消失之前极短的时间内有效地将该臭氧、各种自由基送入到液体17中。而且，含有臭氧、各种自由基的微小气泡16扩散到液体17中，由此液体17的臭氧浓度提高并且气泡16吸附在液体17中含有的有机物等上。由此，能够利用溶解在液体17中的臭氧等、吸附的气泡16中含有的各种自由基来有效地分解有机物、细菌等。

[0046] 另外，通过使用环状的第一电极12和第二电极13作为用于生成等离子体的电极，能够压缩等离子体发生装置1的除了等离子体电源部15、气体供给部11以外的主体部分的大小。其结果是，能够易于组装到现有的装置中，在新装载于装置中的情况下，也能够将其占用空间抑制到最低限度。

[0047] 另外，如果气体供给部11具有控制气体的种类的气体种类控制部，则能够对臭氧、羟基自由基等的生成量等进行调整。此时，如果气体供给部11具有供给大气中的空气的功能，则能够更简便地供给气体。并且，如果通过流量控制部来控制气体的供给流量，则能够更稳定地生成等离子体。

[0048] 《清洗净化装置》

[0049] 接着，说明使用了等离子体发生装置1的清洗净化装置的一例。

[0050] 如图5所示，清洗净化装置20具备上述的等离子体发生装置1。在容纳陶瓷构件3的壳体构件2的液体导入口7处连接有用于将完成处理的液体17从被清洗处理对象部(清洗对象物)30导入到液体容纳部4的配管(液体导入路径)21。另外，在液体排出口8处连接有用于将液体容纳部4内的液体向被清洗处理对象部30输送的配管(液体排出路径)22。

[0051] 接着，说明上述的清洗净化装置20的动作。

[0052] 首先，如图5所示，将以空气为基础而含氧的规定流量的气体从气体供给部11经由配管(气体导入路径)10送入到气体容纳部5内。然后，气体容纳部5成为正压状态，形成从该气体容纳部5经过气体通路3a流向液体容纳部4的气流。此时，从被清洗处理对象部30将完成处理的液体17经过配管(液体导入路径)21和液体导入口7导入到液体容纳部4。

[0053] 接着，当对第一电极12和第二电极13施加规定的电压时，在第一电极12与第二电极13之间产生放电。通过该放电，来在液体容纳部4的液体17中的气体区域处生成等离子体，基于液体17中含有的水、气体中含有的氧生成臭氧、羟基自由基等(参照图3)。然后，所生成的臭氧、各种自由基随着上述的气流被向液体容纳部4送出。此时，生长的气泡如上所述那样被液体17的流动切断，作为微小气泡16从开口端3c释放到液体中。

[0054] 被释放到液体中的微小气泡16扩散到液体的各个角落。此时，扩散的微小气泡16的一部分与气泡16中含有的臭氧、羟基自由基等一起容易地溶解到液体17中，臭氧浓度上升。另外，一部分气泡16以含有臭氧、羟基自由基等的状态容易地吸附在液体17中含有的有机物等上。并且，气泡16的一部分吸附微小的有机物。

[0055] 这样，液体17中的有机物等被溶解在液体17中的臭氧或者自由基、吸附在有机物等上的气泡16中含有的臭氧或者自由基等有效地分解。有机物等被分解而净化后的液体17从液体排出口8经过配管(液体排出路径)22返回到被清洗处理对象部30，被再次使用。

[0056] 此外，在上述内容中，作为清洗净化装置20，例示了在壳体构件2内清洗净化液体17的使用方式(使用方式A)，除此以外，也能够是将微小气泡扩散的液体17作为清洗液供给到规定的装置的使用方式(使用方式B)。在这种情况下，清洗净化装置20如下那样进行动作。

[0057] 首先，含有臭氧、羟基自由基等的微小气泡16扩散到被导入到壳体构件2内的液体17中，微小气泡16中含有的臭氧、自由基被溶解。此时，气泡16的一部分吸附微小的有机物。

[0058] 接着，将该液体17作为清洗液供给到被清洗处理对象部30。在被清洗处理对象部30中，有机物等会被溶解在液体17中的臭氧或者自由基、吸附在有机物等上的气泡16中含有的臭氧或者自由基等有效地分解。

[0059] 此外，在以使用方式A使用清洗净化装置的情况下，能够将该清洗净化装置应用于例如浴盆中蓄积的水、雨水、污水、下水等各种液体的净化。另外，在以使用方式B来使用的情况下，能够作为清洗液使用于在例如洗衣机、洗碗机等各种家电产品、口腔清洗机等健康家电产品、厕所等卫生设备等中使用的水。另外，除了家电产品等以外，能够广泛地应用于例如食品的清洗、工业产品的制造工艺中的清洗等行业。

[0060] 这样，通过使清洗净化装置20具备上述的等离子体发生装置1，能够得到能够高效地大量产生自由基的清洗净化装置20。另外，如果在清洗净化装置20中设置对等离子体发生装置1的位置进行调整的位置调整部，则能够使等离子体更稳定。

[0061] 接着，参照图6～8来更具体地说明使用了等离子体发生装置1的清洗净化装置40。该清洗净化装置40用于对作为脱毛装置的一种的电动剃刀50的头部51进行清洗，是以上述的使用方式B来使用的清洗净化装置。在这种情况下，电动剃刀50的头部51相当于被清洗处理对象部30。

[0062] 如图6～8所示，清洗净化装置40具备：机壳41，其具有用于插入头部51朝下的电动剃刀50的开口41a；以及托盘42，其容纳通过开口41a插入的头部51。另外具备：罐43，其存储液体；溢出部44，其与托盘42连通；以及泵45，其将罐43内的液体循环供给到注水部60的液体导入口7。还具备：滤筒46，其具有对液体进行过滤的过滤器46a；开闭阀
47，其用于对罐43内的气密状态进行控制；以及循环路径，其用于使液体循环。

[0063] 该循环路径由配管(液体导入路径)21、配管(液体排出路径)22、路径23(排出路径)、路径24、路径25以及路径26构成。配管(液体导入路径)21将罐43中存储的液体引导到液体导入口7。配管(液体排出路径)22将从液体排出口8排出的液体引导到托盘42。路径23(排出路径)将从托盘42排出的液体引导到滤筒46。路径24将从溢出部44排出的液体引导到滤筒46。路径25将从滤筒46排出的液体引导到泵45。路径26将从泵45送出的液体引导到罐43。罐43经由气密路径27与开闭阀47连接。

[0064] 机壳41在其后部具有与电动剃刀50的把持部52抵接的支架部41b，与托盘42一起保持从开口41a插入的电动剃刀50。如图6所示，在支架部41b的前表面设置有触点构件41c，该触点构件41c用于检测已在清洗净化装置40中安装了电动剃刀50。触点构件41c根据与设置于把持部52背面的端子52a的接触来检测电动剃刀50的安装，除了这种检测功能以外，同时还具有将各种控制信号、驱动电力输出到电动剃刀50的功能。

[0065] 在机壳41的前部上方容纳有风扇48，该风扇48用于在清洗后使头部51干燥。在机壳41前表面设置有风扇48用的通气窗41d、用于执行清洗动作的动作按钮41e、显示动作状态的灯41f等。在机壳41的后表面侧具有连接口41g、41h、41i，该连接口41g、41h、41i为装配罐43的装配部，用于与罐43的各口43a、43b、43c相连接。连接口41g与配管(液体导入路径)21连接，连接口41h与路径26连接，连接口41i与气密路径27连接。

[0066] 托盘42被设为沿着头部51的形状的凹形状，在底壁部的背面侧设置有等离子体发生装置1。也可以在清洗净化装置40中设置对等离子体发生装置1的位置进行调整的位置调整部。例如，也可以在底壁部的背面侧设置臂部，并且通过该臂部将等离子体发生装置1安装为可摆动，使得能够通过位置调整部将等离子体发生装置1调整为水平配置。这样，能够使等离子体发生装置1始终水平配置，能够更稳定地生成等离子体。

[0067] 该等离子体发生装置1具有与配管(液体导入路径)21连接的液体导入口7以及与配管(液体排出路径)22连接的液体排出口8。在托盘42的底壁部设置有与配管(液体排出路径)22连接的供给口41j，并且设置有与路径23连接的排出口41k。另外，在托盘42的底部壁背面侧设置有加热器49(参照图8)。该加热器49与风扇48联动地进行头部
51的干燥。而且，在托盘42的前方设置有溢出部44，在本实施方式中，托盘42与溢出部44形成为一体。溢出部44的入口与托盘42连接，出口与路径24连接。路径24从溢出部44的出口经由设置在托盘42后部的中继口42a而到达滤筒46。

[0068] 罐43在前表面具有喷出口43a和流入口43b、以及用于开放气密状态的通气口43c，通过通气口43c的开闭来控制液体从喷出口43a的喷出。罐43装卸自如地设置在机壳
41后表面侧。在安装于机壳41的状态下，喷出口43a与连接口41g相连接，通过配管(液体导入路径)21与等离子体发生装置1的液体导入口7连接。另外，流入口43b与连接口
41h相连接，通过路径26与泵45的送出口45a连接。并且，通气口43c与连接口41i相连接，通过气密路径27与开闭阀47连接。

[0069] 滤筒46是在内部容纳有过滤器46a的大致箱状体，装卸自如地设置在机壳41的下部后方。该滤筒46在上部具有流入口46b，在前部具有流出口46c。在安装于机壳41的状态下，流入口46b通过路径23(排出通路)与排出口41k连接，并且通过路径24与溢出部44的出口连接。另外，流出口46c通过路径25与泵45的吸入口45b连接。

[0070] 通过设为所述结构，使含有臭氧、羟基自由基等的微小气泡16扩散到从罐43导入到等离子体发生装置1的液体中而生成清洗液。所生成的清洗液会从供给口41j供给到托盘42内而被供给到作为被清洗处理对象部30的头部51。由此，利用溶解在液体(清洗液)中的臭氧或者自由基、气泡16中含有的臭氧或者自由基等，能够使附着在头部51上的有机物等有效地分解。

[0071] 另外，托盘42内的清洗液中存在须发、皮脂等物理性污垢，这种物理性污垢有时会附着在头部51上。因此，在本实施方式中，为了去除附着在头部51上的物理性污垢，如图6、图7所示那样，具备向头部51浇注液体的注水部60。该注水部60是从四方包围头部51的口字状的喷嘴，在其内侧以规定的间隔形成有多个开口41m。如已经说明的那样，注水部60的液体导入口7与罐43连接。

[0072] 注水部60的安装位置并没有特别限定，但是优选的是配置在清洗液的液面70之上。在此所说的清洗液的液面70是指积存在托盘42内时所设想的最大的液面70。如果将注水部60配置在清洗液的液面70之上，则能够不受清洗液中的阻力地浇注液体。另外，如图7所示，头部51以倾斜规定的角度的状态保持于机壳41，因此优选的是注水部60也倾斜规定的角度地进行安装。这样，注水部60的开口41m正对头部51的面，能够对头部51无遗漏地浇注液体。

[0073] 下面说明注水时的动作。

[0074] 首先，在托盘42内的清洗液中清洗头部51，在清洗完成时从注水部60向头部51浇注液体。具体地说，当托盘42内的清洗液从液体排出口8排出而头部51露出时，从罐43向注水部60导入液体。该液体从注水部60的开口41m向头部51射出，将附着在头部51上须发、皮脂去除。所射出的液体通过托盘42从液体排出口8排出，经由滤筒46被导入到罐43。

[0075] 此外，在以上述的使用方式A使用清洗净化装置的情况下，也可以如图9所示那样，开放等离子体发生装置1的壳体构件2的顶壁部，使头部51浸入到在壳体构件2内清洗净化后的液体17中。这样也能够与使用方式B的情况同样地有效分解附着在头部51上的有机物等。另外，能够去除附着在头部51上的物理性污垢这一点也相同。

[0076] 如以上所说明的那样，在本实施方式所涉及的清洗净化装置40中，在由等离子体发生装置1生成的清洗液中清洗头部51，在清洗完成时从注水部60向头部51浇注液体。由此，能够高效地大量产生自由基，且能够去除附着在头部51上的物理性污垢。

[0077] 另外，注水部60在头部51露出时浇注液体。由此，与头部51位于清洗液中的情况相比能够猛烈地进行浇注，因此能够进一步提高清洗力。

[0078] 另外，注水部60配置在清洗液的液面70之上。由此，能够不受清洗液中的阻力地浇注液体，因此能够进一步提高清洗力。

[0079] 另外，注水部60被配置成包围头部51。由此，能够从四方位无死角地向头部51进行浇注，因此能够更有效地无遗漏地去除物理性污垢，另外，能够缩短清洗时间。

[0080] 以上，对本发明的优选的实施方式进行了说明，但本发明并不限定于上述实施方式，可以进行各种各样的变形。例如，在上述实施方式中，作为形成有气体通路的隔离壁部，例示了陶瓷构件，但隔离壁部的材料并不限于陶瓷构件。例如，也能够使用以下构件：使用将气体和液体隔离的如玻璃板等的适当构件并通过对该构件实施光刻和蚀刻而形成有细孔径约为1μm～10μm左右的微小孔。另外，也可以在隔离壁部设置多个气体通路。另外，液体容纳部、气体容纳部、其他细节的规格(形状、大小、布局等)也能够适当地改变。

[0081] 当然，注水部60也不限定于在此例示的注水部。即，只要能够向头部51浇注液体即可，其形状、大小、布局等能够改变。另外，浇注的时机优选为如上所述的头部51露出时，但是也能够在头部51位于清洗液中时进行浇注。

[0082] 另外，在此，以清洗净化装置40使用等离子体发生装置1为前提进行了说明，但是本发明并不限定于此。即，只要是用于清洗电动剃刀50等小型电气设备的清洗装置，则对于不是等离子体清洗的以往的清洗装置也能够应用本发明。

[0083] 在此引用日本特愿2011-156442号(申请日：2011年7月15日)的全部内容。

[0084] 以上，按实施例说明了本发明的内容，但是本发明并不限定于这些记载，能够进行各种变形和改良，这对本领域技术人员来说是显而易见的。

[0085] 产业上的可利用性

[0086] 本发明能够应用于需要去除附着在被清洗处理对象部上的物理性污垢的清洗装置。

[0087] 附图标记说明

[0088] 1：等离子体发生装置；3：陶瓷构件(隔离壁部)；3a：气体通路；4：液体容纳部；5：气体容纳部；11：气体供给部；12：第一电极；13：第二电极；15：等离子体电源部；20：清洗净化装置；30：被清洗处理对象部(清洗对象物)；40：清洗净化装置；60：注水部；70：清洗液的液面。