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一种解决星爆效应的薄膜及其制备方法公开 发明

技术总结

本发明公开了一种解决星爆效应的薄膜及其制备方法,包括有导电薄膜以及设于导电薄膜的表面的金属线路层;金属线路层包括有多根金属细线,多根金属细线在导电薄膜表面呈非周期性分布;金属线路层的表面设有黑化层。本发明的金属线路层中的金属细线采用较细的线宽,人眼无法察觉,同时金属细线采用了非周期性分布的结构,减少衍射现象。本发明通过细线宽加非周期性图案的组合,并在金属线路层的表面进行黑化处理,通过黑化层进一步降低金属反射率,即便光线衍射条件下也难以察觉星爆效应,提升了显示效果。此外,本发明的制备方法步骤简单且易于实现,能够高效地在导电薄膜的制备非周期性图案的金属线路层,提升了生产效率。

技术研发人员:

苏伟; 李慧

受保护的技术研发主体:

深圳市志凌伟业光电有限公司

技术申请主体:

深圳市志凌伟业光电有限公司

技术研发申请日期:

2024-09-08

技术被公开/公告日期:

2024-11-29