[0001] 本发明涉及镜片镀膜技术领域，尤其涉及一种微纳米膜层。

[0002] 近年来，客户对手机摄像头拍摄图像的品质要求越来越高，镜片镀膜技术不断突破创新。当前，部分高端手机项目已采用镀膜新技术‑‑‑氧化铝水解工艺，可以获得超低反射率(可见光波段，反射率达到0.1％)，对摄像头杂光鬼影有明显改善，提高了整体拍摄图像品质。但是，该工艺存在由散射特性导致实拍发雾的问题，尤其单颗摄像头多个镜片应用该工艺后更易凸显，散射过大，拍摄效果不佳。

[0003] 因此，有必要提供一种新的微纳米膜层来解决上述技术问题。

[0016] 下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

[0017] 结合图1至图4所示，本发明实施例提供了一种微纳米膜层100，包括依次叠设的基底1、中间层2以及至少一层纳米膜层3(LSC膜)；所述基底1为APEL材质镜片，所述中间层2为硅铝混合物或二氧化硅制成，所有所述纳米膜层3的折射率相异。通过可调控的纳米膜层3可形成超低反射率和低散射，纳米复合膜层结构较平缓，可解决实拍发雾的问题。

[0018] 其中，APEL材质是通过聚合技术实现的一种环烯烃共聚材料。

[0019] 本实施方式，所述纳米膜层3包括依次叠设于所述中间层2的第一膜层L1和第二膜层L2。

[0020] 本实施方式，所述中间层2的等效折射率为1.46，等效厚度为92nm；所述第一膜层L1的等效折射率为1.28，等效厚度为104.6nm；所述第二膜层L2的等效折射率为1.1，等效厚度为120nm。

[0021] 其中，折射率可调控的微纳米膜层技术(LSC膜)通过控制LSC膜层孔隙率来调控折射率，第一膜层L1孔隙率小对应折射率大，第二膜层L2孔隙率大对应折射率小。

[0022] 本实施方式，所述纳米膜层3的反射率满足Rmax小于0.1％，Rave小于0.1％。

[0023] 其中，在波长380nm‑900nm范围内，当入射角为0°时，纳米膜层3的反射率满足Rmax为0.06％，Rave为0.3％；当入射角为45°时，纳米膜层3的反射率满足Rmax为0.42％，Rave为0.17％；当入射角为60°时，纳米膜层3的反射率满足Rmax为2.39％，Rave为1.19％。

[0024] 本实施方式，将微纳米膜层100应用在6P镜头中进行实拍效果对比时，一般为散射发雾对比和Ghost对比。其中，采用ALD工艺产生明显发雾，LSC工艺和常规AR工艺无明显发雾；采用常规AR工艺时Ghost强，LSC工艺时Ghost弱，ALD工艺时Ghost弱。图4是6P镜头实拍散射光照度值，ALD工艺膜层的散射光照度值明显高于AR工艺膜层和LSC工艺膜层。图4中纵坐标表示照度值，最接近光源处为1，远离光源时变小；横坐标为与光源的相对距离，光源处设为0，测量范围内距离光源最远处设为1，本实施方式中，距离光源的最远距离为50厘米，在其他实施方式中，也可以为其他距离。

[0025] 与现有技术相比，本发明的微纳米膜层中，通过将基底、中间层以及至少一层纳米膜层依次叠设；基底为APEL材质镜片，中间层为硅铝混合物或二氧化硅制成，所有纳米膜层的折射率不同；通过可调控的纳米膜层可形成超低反射率和低散射，纳米复合膜层结构较平缓，可解决实拍发雾的问题。

[0026] 以上所述的仅是本发明的实施方式，在此应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明创造构思的前提下，还可以做出改进，但这些均属于本发明的保护范围。